低温处理器及其控制系统和供给液相成分的方法技术方案

本发明专利技术公开了一种低温处理器（１０），所述低温处理器（１０）用于可自由流动的冷冻产品的液态供给制备。所述低温处理器（１０）包括冷冻室（１２），所述冷冻室（１２）基本上为圆锥型；位于冷冻室（１２）上方的至少一个供给盘（４８），所述供给盘（４８）被布置得适于接收来自于输送源（５０）的液相成分，所述供给盘（４８）具有多个小孔（４４），所述小孔（４４）用于从所述供给盘（４８）中排出成分的均匀尺寸的液滴，从而重力使得所述液滴被输送到其下的冷冻室（１２）中。所述低温处理器（１０）还包括：与所述供给盘（４８）相连的至少一个传感器（６６），用于测量所述供给盘（４８）中液相成分深度；与液相成分输送管线（５２）相连的至少一个阀，使所述阀构成得控制从所述输送源（５０）传输到所述供给盘（４８）的液相成分的速度；以及与所述至少一个传感器相对应的控制器（６８），所述控制器用于控制所述阀的位置，进而控制从所述输送源（５０）传输到所述供给盘（４８）的液相成分的速度。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于可自由流动的冷冻产品的液态供给制备的低温处理器，所述低温处理器包括：冷冻室，所述冷冻室基本上为圆锥型；位于冷冻室上方的至少一个供给盘，所述供给盘被布置得适于接收来自于输送源的液相成分，所述供给盘具有多个小孔，所述小孔用于从所述供给盘中排出所述成分的均匀尺寸的液滴，从而重力使得所述液滴被输送到其下的冷冻室中；与所述供给盘相连的至少一个传感器，所述传感器用于测量所述供给盘中液相成分深度；与液相成分输送管线相连的至少一个阀，使所述阀构成得控制从所述输送源传输到所述供给盘的液相成分的速度；以及与所述至少一个传感器相对应的控制装置，所述控制装置用于控制所述阀的位置，进而控制从所述输送源传输到所述供给盘的液相成分的速度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯坦琼斯，米尔福德D琼斯，柯特D琼斯，
申请(专利权)人：迪平多茨公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]