作为除草剂的4-(3,4-二氢萘-1-基或2H-色烯-4-基)-5-羟基-2H-哒嗪-3-酮制造技术

1.选自式1、其N-氧化物和盐的化合物，/n

4 - (3,4-dihydronaphthalene-1-yl or 2h-chromone-4-yl) - 5-hydroxy-2h-pyridazine-3-one as herbicide

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为除草剂的4-(3,4-二氢萘-1-基或2H-色烯-4-基)-5-羟基-2H-哒嗪-3-酮专利
本专利技术涉及某些饱和双环哒嗪酮，其N-氧化物、盐和组合物，以及其用于控制不希望植被的方法。专利技术背景控制不希望植被在实现高作物效率中是极其重要的。实现对杂草生长的选择性控制，尤其是在此类有用的作物尤其如稻、大豆、甜菜、玉蜀黍、马铃薯、小麦、大麦、番茄和种植园作物中，是非常希望的。在此类有用的作物中的未加抑制的杂草生长可造成产量的显著下降，并且从而导致消费者成本增加。在非作物区域中对不希望植被的控制也是重要的。为了这些目的，许多产品是可商购的，但持续需要更有效、较低成本、较低毒性、对环境更安全或具有不同的作用位点的新型化合物。专利申请公开WO2015/168010和WO2017/074992及专利申请PCT/US18/24742公开了取代的哒嗪酮。这些专利申请中未公开本专利技术的饱和双环哒嗪酮。专利技术概述本专利技术涉及式1的化合物，包括这样的化合物的所有立体异构体、N-氧化物和这样的化合物的盐，和包含这样的化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.选自式1、其N-氧化物和盐的化合物，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170630 US 62/527,5231.选自式1、其N-氧化物和盐的化合物，



其中
W为-C(R7)(R8)-或-O-；
R1为H、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基环烷基、C2-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7环烷基、C4-C7环烷基烷基、C2-C5氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7卤代烷氧基烷基、C1-C7卤代烷基、C2-C7卤代烯基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷硫基烷基或C1-C7烷氧基；
R2为H、卤素、氰基、-CHO、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C1-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰基氧基、C4-C7烷基环烷基、C2-C7烯基、C3-C7炔基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基氨基、C2-C8二烷基氨基、C3-C7环烷基、C4-C7环烷基烷基、C2-C5氰基烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7卤代烷氧基烷基、C1-C7卤代烷基、C2-C7卤代烯基、C2-C7烷氧基烷基、C1-C7烷氧基、C1-C5烷硫基或C2-C3烷氧基羰基；
每个R3独立地为H、卤素、硝基、氰基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5环烷基、C4-C5环烷基烷基、C1-C5卤代烷基、C2-C5卤代烯基、C3-C5卤代炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5卤代烷氧基、C1-C5烷硫基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4卤代烷硫基或C2-C5烷氧基羰基；
n为0至3；
每个R4独立地为H、卤素、硝基、氰基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5环烷基、C4-C5环烷基烷基、C1-C5卤代烷基、C2-C5卤代烯基、C3-C5卤代炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5卤代烷氧基、C1-C5烷硫基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4卤代烷硫基或C2-C5烷氧基羰基；
R5为H或C1-C5烷基；
R6为H或C1-C5烷基；
R7为H或C1-C5烷基；
R8为H或C1-C5烷基；
L为直接键、C1-C4亚烷基或C2-C4亚烯基；
G为H、C(＝O)R9、C(＝S)R9、CO2R10、C(＝O)SR10、S(O)2R9、C(＝O)N(R11)(R12)、S(＝O)2N(R11)(R12)或P(＝O)(R13)(R14)；或C1-C7烷基、C2-C5烯基、C2-C4炔基、C1-C7卤代烷基、C2-C5卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6环烷基或C4-C7环烷基烷基；或任选地被卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代的5元或6元杂环；
R9和R11独立地为H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7环烷基、C1-C7卤代烷基、C3-C7卤代烯基、C2-C7烷氧基烷基或C4-C7环烷基烷基；或苯基、苄基或5元至6元杂环，每个苯基、苄基或杂环任选地被卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代；
R10为C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7环烷基、C2-C7卤代烷基、C3-C7卤代烯基、C2-C7烷氧基烷基或C4-C7环烷基烷基；或苯基、苄基或5元至6元杂环，每个苯基、苄基或杂环任选地被卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代；
R12为H、C1-C7烷基、C2-C7烯基、C2-C7炔基、C3-C7环烷基、C4-C7环烷基烷基、C1-C7卤代烷基或C2-C7烷氧基烷基；
R13为C1-C7烷基或C1-C7烷氧基；且
R14为C1-C7烷基或C1-C7烷氧基。


2.权利要求1的化合物，其中
R1为H、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基环烷基、C3-C7环烷基、C4-C7环烷基烷基、C1-C7卤代烷基、C2-C7卤代烯基、C2-C7烷氧基烷基或C1-C7烷氧基；
R2为H、卤素、氰基、-CHO、C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C1-C4烷基羰基、C2-C7烷基羰基氧基、C4-C7烷基环烷基、C3-C7环烷基、C4-C7环烷基烷基、C2-C7卤代烷氧基烷基、C1-C7卤代烷基、C2-C7烷氧基烷基、C1-C7烷氧基、C1-C5烷硫基或C2-C3烷氧基羰基；
每个R3独立地为H、卤素、C1-C5烷基、C3-C5环烷基、C1-C5卤代烷基、C1-C5烷氧基或C1-C5卤代烷氧基；
n为0至2；
R4为H、卤素、C1-C3烷基、C3-C4环烷基、C1-C3卤代烷基或C1-C3烷氧基；
L为直接键或C1-C2亚烷基；
G为H、C(＝O)R9、C(＝S)R9、CO2R10、C(＝O)SR10、CON(R11)(R12)或P(＝O)(R13)(R14)；或C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4卤代烷基、C2-C4卤代烯基、C2-C4卤代炔基、C2-C4烷氧基烷基、C3-C6环烷基或C4-C7环烷基烷基；
R9和R11独立地为H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7环烷基或C1-C7卤代烷基；或苯基、苄基或6元杂环，每个苯基、苄基或杂环任选地被卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代；
R10为C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7环烷基、C2-C7卤代烷基或C3-C7卤代烯基；或苯基、苄基或6元杂环，每个苯基、苄基或杂环任选地被卤素、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基取代；
R12为H、C1-C7烷基、C2-C7烯基、C2-C7炔基或C3-C7环烷基；
R13为C1-C4烷基或C1-C4烷氧基；且
R14为C1-C4烷基或C1-C4烷氧基。


3.权...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·A·马歇尔，J·R·德贝格，
申请(专利权)人：FMC公司，
类型：发明
国别省市：美国;US