去头皮屑组合物和使用方法技术

一种水性去头皮屑洗发剂组合物，其包含：(I)清洁表面活性剂，其选自阴离子表面活性剂、两性离子或两性表面活性剂和非离子表面活性剂；(II)去头皮屑剂的悬浮颗粒；(III)抗沉降增稠聚合物，其中所述抗沉降增稠聚合物包含：(a)40至74.5wt％的丙烯酸C

Dandruff removing composition and use method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】去头皮屑组合物和使用方法
本专利技术涉及去用于毛发和/或头皮处理的头皮屑洗发剂组合物，其含有不溶性去头皮屑剂和抗沉降增稠聚合物。本专利技术还涉及这些组合物用于处理炎性皮肤状况如头皮发痒和头皮屑的用途。本专利技术进一步涉及这样的组合物在处理毛发或头皮的方法中的用途。
技术介绍
具有悬浮在其中的不溶性成分的水性组合物具有用于多种多样的常规用途的期望，如在家庭护理和个人护理领域中。一种这样的组合物是用于施用于头皮和毛发的去头皮屑处理剂，其中有益剂如去头皮屑活性物或硅酮通常悬浮在水性基质内。在使用期间，有益剂期望地沉积在头皮或毛发上。为了使对于用户是可接受的，这样的水性组合物期望地表现出在包装中和在使用期间(例如产品分配)两者的有吸引力的外观和感觉两者、铺展性、光滑感，等等。然而这在含有悬浮的不溶性成分的复杂水性制剂中带来了显著的挑战。实际上，将悬浮的去头皮屑成分引入水性去头皮屑洗发剂组合物中产生了多种多样的并发问题。例如，某些不溶性去头皮屑成分具有与组合物的连续相不同的密度。该密度错配可导致组合物不稳定性。在含有密度小于连续相的密度的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水性去头皮屑洗发剂组合物，其包含：/n(I)清洁表面活性剂，其选自阴离子表面活性剂、两性离子或两性表面活性剂和非离子表面活性剂；/n(II)去头皮屑剂的悬浮颗粒；/n(III)抗沉降增稠聚合物，/n其中所述抗沉降增稠聚合物包含：/n(a)40至74.5wt％的丙烯酸C

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180207 EP 18155492.4;20171103 US 62/581,1321.一种水性去头皮屑洗发剂组合物，其包含：
(I)清洁表面活性剂，其选自阴离子表面活性剂、两性离子或两性表面活性剂和非离子表面活性剂；
(II)去头皮屑剂的悬浮颗粒；
(III)抗沉降增稠聚合物，
其中所述抗沉降增稠聚合物包含：
(a)40至74.5wt％的丙烯酸C1-4烷基酯的结构单元；
(b)20至50wt％的甲基丙烯酸的结构单元；
(c)0.2至<5wt％的2-丙烯酰氨基-2-甲基丙磺酸(AMPS)的结构单元；
(d)5至25wt％的具有以下结构的专用缔合单体的结构单元：



其中R1为直链饱和C10-24烷基；其中R2为氢或甲基(优选地，其中R2为甲基)；和其中n为20至28的平均值；条件是所述专用缔合单体(d)的结构单元来源于以下之一：(i)单个专用缔合单体(优选地，其中R1选自直链饱和C12烷基、直链饱和C18烷基和直链饱和C22烷基的单个专用缔合单体；更优选地，其中R1选自直链饱和C12烷基和直链饱和C18烷基的单个专用缔合单体)；(ii)两个专用缔合单体，其中R1分别为直链饱和C12和直链饱和C18烷基；或(iii)两个专用缔合单体，其中R1分别为直链饱和C18烷基和直链饱和C22烷基；
(e)0至1wt％的丙烯酸的结构单元；和
(f)0至2wt％的多烯属不饱和交联单体或链转移剂的结构单元；和
其中结构单元(a)-(f)的重量百分比之和等于所述抗沉降增稠聚合物的100wt％。


2.如权利要求1所述的水性组合物，其中所述抗沉降增稠聚合物包含小于0.001wt％的多烯属不饱和交联单体的结构单元；其中所述抗沉降增稠聚合物包含小于0.1wt％的链转移剂的结构单元。


3.如权利要求1或权利要求2所述的水性组合物，其中所述抗沉降增稠聚合物具有25,000,000至300,000,000道尔顿的重均分子量。


4.如前述权利要求中任一项所述的水性组合物，其中所述抗沉降增稠聚合物包含：...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·J·安杰，W·高，A·P·贾维斯，K·乔希，C·施瓦茨，N·S·肖，I·舒尔曼，P·斯塔克，S·E·伍迪，F·曾，J·S·道森，
申请(专利权)人：荷兰联合利华有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL