【技术实现步骤摘要】
一种图案化二氧化硅纳米结构的合成方法及其应用
本专利技术属于表面化学合成
，属于纳米结构加工
，涉及一种图案化二氧化硅纳米结构的合成方法及其应用。
技术介绍
二氧化硅作为一种重要的无机非金属材料，以晶态或者非晶态存在于自然界和生命体中。二氧化硅纳米结构在纳米电子学、纳米生物学和药物递送等领域有着广泛的应用，合成方法主要包括自上而下和自下而上两种。自上而下的加工方法又主要包括紫外光刻法和电子束曝光法，此类方法虽然广泛应用于工业领域，但是存在设备成本昂贵、工作条件苛刻等问题，限制了其在二氧化硅纳米结构的微加工过程中的推广应用。与之相对的自下而上的加工方法则解决了这一问题。1968年，等人提出了在水溶液中合成二氧化硅纳米颗粒的方法，开辟了利用化学方法合成二氧化硅纳米结构的先河。在这之后，多种具有特定结构和功能的二氧化硅被陆续报道。但是，利用化学方法在纳米尺度精确控制二氧化硅纳米结构的形貌，仍然是该领域需要解决的技术问题。在引导定位合成或组装纳米材料领域中，DNA纳米技术展现出广阔的应用前景。2006年PaulR...
【技术保护点】
1.一种图案化二氧化硅纳米结构的合成方法，其特征在于，所述方法包括：/n向具有延伸链的DNA折纸结构中加入硅烷试剂，所述硅烷试剂通过静电作用吸附于DNA折纸结构的延伸链上，得到图案化二氧化硅纳米结构。/n
【技术特征摘要】
1.一种图案化二氧化硅纳米结构的合成方法，其特征在于，所述方法包括：
向具有延伸链的DNA折纸结构中加入硅烷试剂，所述硅烷试剂通过静电作用吸附于DNA折纸结构的延伸链上，得到图案化二氧化硅纳米结构。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅烷试剂包括(3-甲氨基丙基)三甲氧基硅烷和正硅酸乙酯。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述(3-甲氨基丙基)三甲氧基硅烷和正硅酸乙酯的摩尔比为1:(1.5～2)；
优选地，所述(3-甲氨基丙基)三甲氧基硅烷的终浓度为2～3mM；
优选地，所述正硅酸乙酯的终浓度为3～4mM。
4.根据权利要求1-3所述的方法，其特征在于，所述DNA折纸结构的制备方法包括将DNA模板链、辅助折叠链和具有延伸位点的辅助折叠链按比例混合于缓冲液中，并进行退火的步骤。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述DNA模板链、辅助折叠链和具有延伸位点的辅助折叠链的摩尔比为1:(5～10):(5～10)；
优选地，所述缓冲液为包括Mg2+的Tris-HCl缓冲液；
优选地，所述Mg2+的浓度为1～3mM；
优选地，所述Tris-HCl的浓度为8～10mM；
优选地，所述Tris-HCl缓冲液的pH为8.0～8.5；
优选地，所述退火的条件为从95℃～65℃到25℃～10℃，每3℃～5℃为一个梯度，每个梯度停留5～10min。
6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述DNA折纸结构的制备方法还包括DNA折纸结构与延伸链的互补链杂交的步骤；
优选地，所述DNA折纸结构与所述延伸链的互补链的摩尔比为1:(360～1120)；
优选地，所述杂交的条件为从...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁宝全，李娜，尚颖旭，
申请(专利权)人：国家纳米科学中心，
类型：发明
国别省市：北京;11
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