本发明专利技术涉及无线通信领域,特别涉及一种SU8光刻胶悬浮天线。所述天线从上到下依次包括矩形贴片、聚酰亚胺薄膜、SU8环形支架、地板、基板、微带馈线。SU8光刻胶作为一种支架,使金属贴片与基板之间形成一个空腔,有效抑制表面波,减少介质损耗,提升天线性能。本发明专利技术所选用的光刻胶是SU8光刻胶有良好的热稳定性和耐腐蚀性,工艺步骤简单,加工成本低。
A su 8 photoresist suspension antenna
【技术实现步骤摘要】
一种SU8光刻胶悬浮天线
本专利技术涉及无线通信领域,特别涉及一种SU8光刻胶悬浮天线。所述天线从上到下依次包括矩形贴片、聚酰亚胺薄膜、SU8环形支架、地板、基板、微带馈线。SU8光刻胶作为一种支架,使金属贴片与基板之间形成一个空腔,有效抑制表面波,减少介质损耗,提升天线性能。本专利技术所选用的光刻胶是SU8光刻胶有良好的热稳定性和耐腐蚀性,工艺步骤简单,加工成本低。
技术介绍
移动通信系统从第一代的模拟系统,发展到第四代长期演进移动通信系统,第五代移动通信也逐渐拉开帷幕。天线作为无线通信系统核心的部件之一,其性能好坏直接影响到整个通信网络质量和用户体验。现有技术中,例如PCB基板上制作平面式天线,所制得的天线频带较窄且辐射效率较低。并且微带天线本身具有混附波与表面漏波效应,当现有微带天线于通讯系统收发信号时,会影响整体的收发效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种SU8光刻胶悬浮天线,所述天线包括矩形贴片、聚酰亚胺薄膜、SU8环形支架、地板、基板、微带馈线。优选地,所述矩形贴片的长度L1的长度值为9.5mm,宽度W1的宽度值为11.5mm。需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。优选地,所述聚酰亚胺薄膜的长度值L2为19mm,宽度值W2为19mm,高度H1为0.125mm。相对介电常数为3.5,损耗角正切为0.0026。需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。优选地,所述SU8外部长度L2为19mm,宽度W2为19mm,内部长度L3为17mm,9宽度W3为17mm,支架高度H2为1.25mm。相对介电常数为4.2,损耗角正切为0.042。需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。优选地,所述地板的长度L4为22mm,宽度W4为25mm。地板挖槽长度L5为20mm,宽度W5为11mm。需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。优选地,所述基板长度L4为22mm,宽度W4为25mm,高度为H3为1mm。需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。优选地,所述馈线的长度L6为7.5mm,L7为10mm,宽度W6为1.5mm,W7为0.85mm,需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。优选地,所述天线的工作频段覆盖24.8GHz~26.4GHz(S11<−10dB),增益为7.7±0.5dBi。需要说明的是,这个只是优选,并不是限制性的规定。附图说明附图说明图1为本专利技术实施例提供的天线结构示意图;图2为图1所述天线的贴片俯视图;图3为图1所述天线的SU8俯视图;图4为图1所述天线的地板俯视图;图5为图1所述天线的馈线俯视图;图6为图1所述天线的S参数曲线图和增益曲线图;具体实施方式下面结合具体实施方式对本专利技术作进一步的说明。其中,附图仅用于示例性说明,表示的仅是示意图,而非实物图,不能理解为对本专利的限制;为了更好地说明本专利技术的实施例,附图某些部件会有省略、放大或缩小,并不代表实际产品的尺寸;对本领域技术人员来说,附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。本专利技术实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件;在本专利技术的描述中,需要理解的是,若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明,不能理解为对本专利的限制,对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。实施例如图1至6为一种SU8光刻胶悬浮天线的实施例,其中图1至5表示所述天线的结构示意图,所述天线从上到下依次包括矩形贴片、聚酰亚胺薄膜、SU8环形支架、地板、基板、微带馈线。SU8光刻胶作为一种支架,使金属贴片与基板之间形成一个空腔,有效抑制表面波,减少介质损耗,提升天线性能。光刻胶SU8是一种负光刻胶,在光刻及后烘之后会发生交联反应,可得到一个很好得机械性能得结构。以选用SU8-2000为例,采用1000rpm的转速匀胶30s,得到胶的厚度在100μm左右。匀胶之后在热台上进行烘胶,先把热台温度设置在65℃,保持20分钟,再把热台温度升高到95℃,并保持90分钟。对烘干的SU8的光刻胶进行紫外线曝光,对曝光的光刻胶进行后烘,其目的是让紫外线光照过的SU8胶发生交联反应。后烘同样采用两个温度设置,首先再65℃的热台上烘5分钟,然后在95℃的热台上烘10分钟。结束后冷却至室温,注意冷却速度不宜过快,以免造成SU8胶的断裂。图6为本专利技术所述天线实施例的S参数曲线图。带宽为24.8GHz~26.4GHz(S11<−10dB),增益为7.7±0.5dBi。显然,本专利技术的上述实施例仅仅是为清楚地说明本专利技术所作的举例,而并非是对本专利技术的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本专利技术权利要求的保护范围之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种SU8光刻胶悬浮天线,其特征在于,所述天线从上到下依次包括矩形贴片、聚酰亚胺薄膜、SU8环形支架、地板、基板、微带馈线。/n
【技术特征摘要】
1.一种SU8光刻胶悬浮天线,其特征在于,所述天线从上到下依次包括矩形贴片、聚酰亚胺薄膜、SU8环形支架、地板、基板、微带馈线。
2.根据权利要求1所述的天线,其特征在于,矩形贴片在聚酰亚胺薄膜的上表面,可溅射做成实物。
3.根据权利要求1所述的天线,其特征在于,聚酰亚胺薄膜和SU8环形支架可用光刻做成实物。
4.根据权利要求1所述的天线,其特征在于,聚酰亚胺薄膜的相对介电常数为3.5,损耗角正切为0.0026。
5....
【专利技术属性】
技术研发人员:刘祖华,章国豪,黄贝,
申请(专利权)人:东莞赛唯莱特电子技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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