显示装置及其制造方法制造方法及图纸

提供了一种显示装置及其制造方法。所述显示装置包括：基底和位于基底上的显示部分；第一处理区域，包括位于基底的至少一个侧表面上的第一处理表面；以及第二处理区域，与第一处理区域相邻，并且包括具有与第一处理区域的第一处理表面的形状不同的形状第二处理表面。

Display device and manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
显示装置及其制造方法本申请要求于2018年12月11日在韩国知识产权局提交的第10-2018-0159091号韩国专利申请的优先权和权益，所述韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。
一个或更多个实施例的多个方面涉及一种显示装置及其制造方法。
技术介绍
近来，显示装置的使用已经变得多样化。特别地，已经减小了显示装置的厚度和重量，从而显示装置的使用范围广泛。显示装置使图像的图形显示成为可能，并且可以包括一个或更多个显示器件。另外，显示装置可以包括一个或更多个导电层或绝缘层，所述一个或更多个导电层或绝缘层连接到与其相邻显示器件。以此方式，显示装置包括多个组件，因此可以经由多个复杂工艺来制造。此外，当在显示装置的制造期间执行多个工艺时，在制造工艺期间可能会引入缺陷或杂质，这可能会导致显示装置的劣化的图像质量特性。在此
技术介绍
部分中公开的上述信息仅用于增强对
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的理解，因此其可以包含不构成现有技术的信息。
技术实现思路
一个或更多个实施例包括一种具有提高了电特性和画面质量特性的显示装置和一种提高了制造工艺效率的制造显示装置的方法。另外的方面将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地将从描述中明显，或者可以通过提出的实施例的实践而获得。根据本公开的一些示例实施例，显示装置包括：基底和位于基底上的显示部分；第一处理区域，包括位于基底的至少一个侧表面上的第一处理表面；以及第二处理区域，连接到第一处理区域，并且包括具有与第一处理表面的形状不同的形状的第二处理表面。根据一些示例实施例，第一处理表面和第二处理表面可以彼此直接连接。根据一些示例实施例，第一处理表面和第二处理表面可以与基底的整个厚度对应。根据一些示例实施例，第一处理表面和第二处理表面可以使用不同的处理方法形成。根据一些示例实施例，显示装置还可以包括形成在基底上的一个或更多个绝缘层，其中，第一处理表面或第二处理表面连接到一个或更多个绝缘层。根据一些示例实施例，显示装置还可以包括形成在基底上的一个或更多个导电层，其中，第一处理表面或第二处理表面连接到一个或更多个导电层。根据一些示例实施例，第二处理表面可以包括基底的侧表面之中的中心处理表面和连接处理表面，连接处理表面比中心处理表面更靠近基底的其上设置有显示部分的顶表面，并且连接处理表面可以相对于中心处理表面以一定角度倾斜。根据一些示例实施例，多个第二处理区域可以被形成。根据一些示例实施例，多个第二处理区域之中的两个第二处理区域可以位于两个第二处理区域之间的第一处理区域的两侧处。根据一些示例实施例，外围区域可以位于基底上并且可以不与显示区域叠置，并且第一处理区域和第二处理区域可以与外围区域对应。根据一些示例实施例，一个或更多个垫部可以位于外围区域中。根据一些示例实施例，布线部可以位于外围区域中，并且可以包括一个或更多个布线构件。根据本公开的一个或更多个示例实施例，在制造包括基底和位于基底上的显示部分的显示装置的方法中，所述方法包括：在基底的至少一个侧表面上形成包括第一处理表面的第一处理区域；以及形成第二处理区域，以连接到第一处理区域，第二处理区域包括具有与第一处理表面的形状不同的形状的第二处理表面。根据一些示例实施例，可以使用不同的处理方法形成第一处理表面和第二处理表面。根据一些示例实施例，形成第一处理表面的步骤可以包括激光处理工艺。根据一些示例实施例，形成第二处理表面的步骤可以包括抛光工艺。根据一些示例实施例，在形成第一处理区域之后，可以将第二处理区域形成为包括第一处理区域的至少一个区域。根据一些示例实施例，所述方法还可以包括：制备显示装置预备结构，显示装置预备结构包括位于基底上的虚设区域；以及基于显示装置预备结构的切割线去除虚设区域。根据一些示例实施例，可以在基于切割线去除虚设区域的步骤中形成第一处理区域，并且可以在形成第一处理区域的步骤之后形成第二处理区域。根据一些示例实施例，所述方法还可以包括：在去除虚设区域之前，使用虚设区域执行检查工艺。附图说明通过结合附图的以下实施例的描述，这些和/或其他方面将变得更明显和更容易理解，在附图中：图1是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图2是沿着图1的II-II线截取的剖视图；图3是示出图2的修改实施例的视图；图4是从图1的位置K处观察的视图；图5是沿着图1的V-V线截取的剖视图；图6是沿着图1的VI-VI线截取的剖视图；图7是示出图6的修改实施例的视图；图8是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图9是沿着图8的IX-IX线截取的剖视图；图10是沿着图8的X-X线截取的剖视图；图11是示出图10的修改实施例的视图；图12是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图13是从图12的位置K处观察的视图；图14是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图15是沿着图14的XV-XV线截取的剖视图；图16是沿着图14的XVI-XVI线截取的剖视图；图17是示出图15的修改实施例的视图；图18是示出图16的修改实施例的视图；图19是沿着图14的XX-XX线截取的剖视图；图20至图23是示出图19的修改实施例的视图；图24至图26是示出制造根据一些示例实施例的显示装置的方法的视图；图27是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图28是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图29是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图30是示出根据一些示例实施例的显示装置的平面图；图31是沿着图30的XXXI-XXXI线截取的剖视图；图32是沿着图30的XXXII-XXXII线截取的剖视图；并且图33是示出图31的修改实施例的视图。具体实施方式现在将更详细地参照实施例，在附图中示出了实施例的示例，其中，同样的附图标记始终指示同样的元件。就此而言，本实施例可以具有不同的形式，并且不应该被解释为限于这里阐述的描述。因此，下面仅通过参照图来描述实施例，以解释本描述的多个方面。如在这里使用的，术语“和/或”包括相关所列项中的一个或更多个的任何组合和所有组合。当诸如“……中的至少一个/种(者)”的表述位于一列元件之后时，这样的表述修饰整列元件而不修饰所述列中的个别元件。由于本公开允许各种变化和许多实施例，所以示例实施例将在附图中示出并且在书面描述中详细描述。通过参照稍后将参照附图详细描述的实施例，本公开的效果和特征以及实现它们的方式将变得明显。然而，本公开不限于以下实施例，而可以以各种形式来体现。将理解的是，尽管可以在这里使用术语“第一”、“第二”等来描述各种组件，但是这些组件不应该受这些术语限制。这些术语仅用于将一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置，所述显示装置包括：/n基底和位于所述基底上的显示部分；/n第一处理区域，包括位于所述基底的至少一个侧表面上的第一处理表面；以及/n第二处理区域，与所述第一处理区域相邻，并且包括具有与所述第一处理区域的所述第一处理表面的形状不同的形状的第二处理表面。/n

【技术特征摘要】
20181211 KR 10-2018-01590911.一种显示装置，所述显示装置包括：
基底和位于所述基底上的显示部分；
第一处理区域，包括位于所述基底的至少一个侧表面上的第一处理表面；以及
第二处理区域，与所述第一处理区域相邻，并且包括具有与所述第一处理区域的所述第一处理表面的形状不同的形状的第二处理表面。


2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一处理表面和所述第二处理表面彼此直接连接。


3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一处理表面和所述第二处理表面与所述基底的整个厚度对应。


4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一处理表面和所述第二处理表面使用不同的处理方法形成。


5.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括位于所述基底上的一个或更多个绝缘层，其中，所述第一处理表面或所述第二处理表面连接到所述一个或更多个绝缘层。


6.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括位于所述基底上的一个或更多个导电层，其中，所述第一处理表面或所述第二处理表面连接到所述一个或更多个导电层。


7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第二处理表面包括所述基底的侧表面之中的中心处理表面和连接处理表面，所述连接处理表面比所述中心处理表面更靠近所述基底的其上设置有显示部分的顶表面，并且所述连接处理表面相对于所述中心处理表面以一定角度倾斜。


8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，多个第二处理区域被形成。


9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述多个第二处理区域之中的两个第二处理区域位于在所述两个第二处理区域之间的所述第一处理区域的两侧处。


10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，外围...

【专利技术属性】
技术研发人员：高在庆，金永敏，朴镛昇，朴龙晙，元圣根，李紫云，赵玟俊，黄贤旻，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR