在显示面板制程中应用的烘烤设备制造技术

本申请公开了一种在显示面板制程中应用的烘烤设备。包括：设备主体，设备主体的内部设置有烘烤腔室，烘烤腔室的内部设置有烘烤板，烘烤板的内部设置有通液孔，通液孔包括第一管道和第二管道，第一管道和第二管道均在烘烤板的内部均匀分布，且第一管道的尾端和第二管道的首端连接以形成通路；第一管道的首端用于接收外部注入的加热液，加热液用于在流经通路的过程中对烘烤板进行均匀加热，第二管道的尾端用于将加热液排出。本申请在烘烤板的内部设置连通且均匀分布的第一管道和第二管道，使得从第一管道首端注入的加热液在流经两条管道的过程中对烘烤板进行均匀加热，提高了烘烤板对基板的烘烤温度的均一性，进而保证了基板的烘烤制程的稳定性。

Baking equipment applied in display panel process

【技术实现步骤摘要】
在显示面板制程中应用的烘烤设备
本申请涉及显示
，尤其涉及显示面板制程
，具体涉及一种在显示面板制程中应用的烘烤设备。
技术介绍
随着对显示面板解析度要求的提高，显示面板制程的要求也越来越严苛。薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)阵列基板是显示面板的重要组成部分，在TFT阵列基板的烘烤制程中，TFT的沟道对烘烤温度尤其敏感，若烘烤温度不均，会导致TFT阵列基板的烘烤制程极其不稳定。现有技术中，使用烘烤设备对TFT阵列基板进行烘烤，其中，烘烤方式采用分区控温烘烤，以下对烘烤设备及分区控温烘烤方式进行具体说明。图1为现有技术中烘烤设备的剖面结构示意图，如图1所示，该烘烤设备包括设备主体1，设备主体1的内部设置有一烘烤腔室10，烘烤腔室10的内部设置有一烘烤板20，烘烤板20用于承载待烘烤的TFT阵列基板2，并对待烘烤的TFT阵列基板2进行烘烤。图2为现有技术中分区控温烘烤方式示意图，如图2所示，烘烤板20被虚线网格划分为了9个分区，每个分区下方均设置有对应的加热器(每个实心圆形框代表本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在显示面板制程中应用的烘烤设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有烘烤腔室，所述烘烤腔室的内部设置有烘烤板，其特征在于，/n所述烘烤板的内部设置有通液孔，所述通液孔包括第一管道和第二管道，所述第一管道和所述第二管道均在所述烘烤板的内部均匀分布，且所述第一管道的尾端和所述第二管道的首端连接以形成通路；其中，/n所述第一管道的首端用于接收外部注入的加热液，所述加热液用于在流经所述通路的过程中对所述烘烤板进行均匀加热，所述第二管道的尾端用于将所述加热液排出。/n

【技术特征摘要】
1.一种在显示面板制程中应用的烘烤设备，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有烘烤腔室，所述烘烤腔室的内部设置有烘烤板，其特征在于，
所述烘烤板的内部设置有通液孔，所述通液孔包括第一管道和第二管道，所述第一管道和所述第二管道均在所述烘烤板的内部均匀分布，且所述第一管道的尾端和所述第二管道的首端连接以形成通路；其中，
所述第一管道的首端用于接收外部注入的加热液，所述加热液用于在流经所述通路的过程中对所述烘烤板进行均匀加热，所述第二管道的尾端用于将所述加热液排出。


2.如权利要求1所述的在显示面板制程中应用的烘烤设备，其特征在于，所述第一管道和所述第二管道相互螺旋式缠绕。


3.如权利要求1所述的在显示面板制程中应用的烘烤设备，其特征在于，所述第一管道和所述第二管道均在所述烘烤板的内部呈回型分布。


4.如权利要求1所述的在显示面板制程中应用的烘烤设备，其特征在于，还包括：
第三管道、第四管道和循环泵；其中，
所述第三管道的首端与所述循环泵的出液口连接，所述第三管道的尾端与所述第一管道的首端连接；
所述第四管道的首端与所述第二管道的尾端连接，所述第四管道的尾端与所述循环泵的进液口连接；
所述循环泵，用于使得所述加热液在所述第三管道、所述第一管道、所述第二管道、所述第四管道和所述循环泵所形成的通路中循环流动。


5.如权利要求4所述的在显示面板制程中应用的烘烤设备，其特征在于，还包括：
第一温度传感器和第二温度传感器；其中，
所述第一温度传感器设置于所述第三管道的外表面，用于监测注入所述第一管道中的加热液的温度；
所述第二温度传感器设置于所述第四管道的外表面，用于监测从所述第二管道中排出的加热液的温度；相应地，
所述循环泵，还用于根据所述第一温度传感器监...

【专利技术属性】
技术研发人员：孟小龙，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44