含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

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Fluoroethers, lubricants for magnetic recording media and magnetic recording media

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质
本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。本申请基于2017年9月13日在日本申请的特愿2017-176030号来主张优先权，将其内容援用到本文中。
技术介绍
为了使磁记录再生装置的记录密度提高，适于高记录密度的磁记录介质的开发进展。以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成了碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅在记录层上设置保护层，不能充分地获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。作为在形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，提出了例如，含有在具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基的化合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～3)。例如，在专利文献1中公开了在两个末端部分配置了具有多个羟基、且该羟基间的最短距离相距3原子以上的取代基的化合物。此外，在专利文献2中公开了在一个末端具有芳香本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，/nR

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170913 JP 2017-1760301.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，
R1-R2-CH2-R3-CH2-R4-R5(1)
在式(1)中，R3为全氟聚醚链，R1为与R2结合的末端基，R5为与R4结合的末端基，R1和R5各自独立地为可以具有取代基的烷基、具有至少一个双键或三键的有机基、和氢原子中的任一者，-R2-CH2-R3由下述式(2)表示，R3-CH2-R4-由下述式(3)表示；
-[A]-[B]-O-CH2-R3(2)
R3-CH2-O-[C]-[D]-(3)
在式(2)中，[A]由下述式(4)表示，[B]由下述式(5)表示，在式(2)中[A]与[B]可以互换；
在式(3)中，[C]由下述式(6)表示，[D]由下述式(7)表示，在式(3)中[C]与[D]可以互换；



式(4)中的a和式(5)中的b为0～2的整数，式(5)中的c为2～5的整数，式(6)中的d和式(7)中的f为0～2的整数，式(6)中的e为2～5的整数，式(5)中的b和式(6)中的d中的至少一者为1以上。


2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述可以具有取代基的烷基为具有羟基或氰基的碳原子数1～6的烷基。


3.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤刚，柳生大辅，福本直也，南口晋毅，栗谷真澄，室伏克己，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP