清洗溶剂组合物的再生方法和再生装置、以及被清洗物的清洗方法和清洗系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够有效地分离污垢成分的清洗溶剂组合物的再生方法。其为溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物的再生方法，清洗溶剂组合物含有氟系溶剂和易燃性有机溶剂，该清洗溶剂组合物的再生方法包含以下工序：工序(A)，使污垢成分从溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物中析出，得到包含析出的污垢成分和清洗溶剂组合物的混合物；工序(B)，使混合物与污垢成分亲和材料接触；和工序(C)，从与污垢成分亲和材料接触过的混合物中除去污垢成分得到再生后的清洗溶剂组合物。

Regeneration method and regeneration device of cleaning solvent composition, cleaning method and cleaning system of cleaned substance

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洗溶剂组合物的再生方法和再生装置、以及被清洗物的清洗方法和清洗系统
本专利技术涉及用于清洗精密机械部件、电气/电子部件、光学部件等被清洗物的清洗溶剂组合物的再生方法和利用该再生方法的被清洗物的清洗方法。此外，本专利技术涉及用于清洗精密机械部件、电气/电子部件、光学部件等被清洗物的清洗溶剂组合物的再生装置和具有该再生装置的被清洗物的清洗系统。
技术介绍
一直以来，在精密机械部件工业、电子、电气部件工业、光学部件工业中，使用加工油(例如，切削油、压型油、脱蜡油、碾油等)、防锈油、蜡类、油脂类、助焊剂类等来加工、保管金属材料、陶瓷材料、塑料材料等。而且，在加工中、保管中附着在各种材料的表面的这些成分(以下有时称为“污垢成分”。)通常在制成中间产品、最终产品时，使用清洗溶剂组合物来进行清洗而除去。在此，作为除去污垢成分时使用的清洗溶剂组合物，从以低环境负荷实现高清洗性的观点出发，使用包含氟系溶剂和规定的有机溶剂的混合液(例如，参见专利文献1～4)。而且，在使用上述清洗溶剂组合物对被清洗物进行清洗的过程中，从防止因反复清本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗溶剂组合物的再生方法，其为溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物的再生方法，/n所述清洗溶剂组合物含有氟系溶剂和易燃性有机溶剂，/n所述清洗溶剂组合物的再生方法包含以下工序：/n工序A，使污垢成分从所述溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物中析出，得到包含析出的污垢成分和清洗溶剂组合物的混合物；/n工序B，使所述混合物与污垢成分亲和材料接触；和/n工序C，从与所述污垢成分亲和材料接触过的所述混合物中除去污垢成分，得到再生后的清洗溶剂组合物。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171110 JP 2017-2168471.一种清洗溶剂组合物的再生方法，其为溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物的再生方法，
所述清洗溶剂组合物含有氟系溶剂和易燃性有机溶剂，
所述清洗溶剂组合物的再生方法包含以下工序：
工序A，使污垢成分从所述溶解有污垢成分的清洗溶剂组合物中析出，得到包含析出的污垢成分和清洗溶剂组合物的混合物；
工序B，使所述混合物与污垢成分亲和材料接触；和
工序C，从与所述污垢成分亲和材料接触过的所述混合物中除去污垢成分，得到再生后的清洗溶剂组合物。


2.根据权利要求1所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，使所述混合物在接触部和分离部之间循环的同时进行所述工序B和所述工序C，所述接触部具有所述污垢成分亲和材料，所述分离部从所述混合物中除去污垢成分。


3.根据权利要求1或2所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，所述污垢成分亲和材料包含离子交换树脂和聚乙烯树脂中的至少一种。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，所述氟系溶剂包含选自氢氟醚类、氢氟烃类、氢氟氯烯烃类、氢氟环烃类中的1种以上溶剂。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，所述易燃性有机溶剂包含选自二醇醚类、二醇醚乙酸酯类、脂肪族醇类、芳香族醇类、酮类、碳酸酯类、酯类、内酯类中的1种以上。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，所述氟系溶剂为1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷，所述易燃性有机溶剂为芳香族醇类。


7.根据权利要求1至6中任一项所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，所述易燃性有机溶剂包含苄醇和苯乙醇中的至少一种。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的清洗溶剂组合物的再生方法，其中，所述清洗溶剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：安藤敬二，菅原充，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP