【技术实现步骤摘要】
一种水基抛光液
本专利技术涉及一种水基抛光液,属于抛光领域。
技术介绍
随着各行各业的飞速发展,芯片加工、精密器件加工、异形件加工等对光滑表面的要求越来越高,获得光滑表面的主要方式为抛光,目前广泛使用抛光方法包括机械抛光、化学抛光、化学机械抛光等。其中一部分抛光仅适用于平面的平坦化抛光,而不适用于曲面工件的抛光。而可用于曲面的抛光方式也各有其问题,如化学抛光所用液体多为腐蚀性液体,对设备具有一定的损坏等。磁流变液是一类新型的人工智能材料,该类材料的流变特性在磁场左右下能够发生可控、可逆和连续的快速转变,可广泛应用于土木工程、机械加工、汽车工程、航天工程等诸多领域。磁流变液是由磁性粒子分散于液体基质中形成的一种悬浮体系。磁流变液在外在磁场的作用下,其内的磁性粒子排成长链,使液体在瞬间即转变为具有一定屈服强度的固体,当磁场撤销后,磁流变液后恢复为液体。磁流变液悬浮体系中的悬浮相(磁性粒子)的粒径较大、且密度较高,一般密度为介质的5倍以上,因此,在悬浮体系中,悬浮粒子易发生沉降、团聚和变质的现象。为解决上述问题,现 ...
【技术保护点】
1.一种水基抛光液,其特征是,所述水基抛光液由磁流变液和磨料组成,所述磁流变液按质量百分比,由下述组分组成:水30~80%,触变剂3~8%,分散剂0~5%,润湿剂0~5%,羰基铁粉20~70%,/n所述磨料与磁流变液的比例为:磨料与羰基铁粉的质量比为1~2:10,/n其中,触变剂按下述方法制得,包括下述工艺步骤:/nS1,将磁性SiO
【技术特征摘要】
1.一种水基抛光液,其特征是,所述水基抛光液由磁流变液和磨料组成,所述磁流变液按质量百分比,由下述组分组成:水30~80%,触变剂3~8%,分散剂0~5%,润湿剂0~5%,羰基铁粉20~70%,
所述磨料与磁流变液的比例为:磨料与羰基铁粉的质量比为1~2:10,
其中,触变剂按下述方法制得,包括下述工艺步骤:
S1,将磁性SiO2纳米粒子与苄基三氯硅烷按质量比1:1~5均匀分散于甲苯中,50~90℃反应1~3d,分离固体,洗涤,干燥,得到氯苄基接枝的SiO2纳米粒子;
S2,将N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷加入水中,于pH=10~11下进行水解,得水解物溶液,其中,N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷与水的质量比为1:5~20;将磁性SiO2纳米粒子按1g:50~200mL均匀分散于水中,得分散液;将水解物溶液与分散液混合后80~100℃加热回流2~24h,分离,干燥,得到氨基改性SiO2纳米粒子,其中,磁性SiO2纳米粒子与N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷的质量比为1~10:1;
S3,将氯苄基接枝的SiO2纳米粒子与氨基改性SiO2纳米粒子按质量比为1:0.5~2均匀分散于甲苯中,20~70℃下搅拌反应0.5~12h,洗涤,干燥,得SiO2纳米粒子触变剂,
所述步骤S1和S2中,所述磁性SiO2纳米粒子以Fe3O4纳米粒子为核,在核上包覆一层SiO2层,磁性SiO2纳米粒子的粒径为20~25nm,Fe3O4纳米粒子核的粒径为6~8nm。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征是,所述磁流变液按质量百分比,由下述组分组成:水30~80%,触变剂3~8%,分散剂1~5%,润湿剂1~5%,羰基铁粉20~70%。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征是,所述润湿剂为聚乙二醇;分散剂为...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:大连圣多教育咨询有限公司,
类型:发明
国别省市:辽宁;21
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