【技术实现步骤摘要】
用于监测抛光的设备和方法本申请要求于2018年12月5日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2018-0155045号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用被包含于此。
本公开的实施例涉及一种用于监测抛光的设备并涉及一种用于监测抛光的方法。
技术介绍
通常，通过顺序沉积例如导电层、半导体层和绝缘层而在基底上形成显示像素。由于导电层和半导体层等被图案化，所以导电层和半导体层上的绝缘层不是平坦化的。可以通过使用化学机械抛光(CMP)来平坦化基底的其上定位有显示像素的上表面。将理解的是，技术部分的该背景意图提供用于理解该技术的有用背景，并且如这里所公开的，技术背景部分可以包括：在这里所公开的主题的相应的有效提交日期之前，不是对相关领域技术人员而言已知或理解的内容的一部分的思想、构思或认识。
技术实现思路
本公开的实施例可以涉及一种能够准确地确定抛光工艺的终点并测量物体的平坦度的用于监测抛光的设备和方法。根据实施例，一种用于监测抛光的设备包括：基底传送单元，被构...
【技术保护点】
1.一种用于监测抛光的设备，所述设备包括：/n基底传送单元，用于沿着第一方向传送包括至少一个无机层的基底；/n抛光单元，位于所述基底传送单元上；/n清洁单元和干燥单元，位于所述基底传送单元上；以及/n监测单元，位于所述基底传送单元上，所述监测单元包括多个光学探头，所述多个光学探头被构造为测量从所述基底的多个不同位置中的相应位置反射的反射光，/n其中，所述抛光单元、所述清洁单元、所述干燥单元和所述监测单元沿着所述第一方向顺序设置。/n
【技术特征摘要】
20181205 KR 10-2018-01550451.一种用于监测抛光的设备，所述设备包括：
基底传送单元，用于沿着第一方向传送包括至少一个无机层的基底；
抛光单元，位于所述基底传送单元上；
清洁单元和干燥单元，位于所述基底传送单元上；以及
监测单元，位于所述基底传送单元上，所述监测单元包括多个光学探头，所述多个光学探头被构造为测量从所述基底的多个不同位置中的相应位置反射的反射光，
其中，所述抛光单元、所述清洁单元、所述干燥单元和所述监测单元沿着所述第一方向顺序设置。
2.如权利要求1所述的设备，其中，所述多个光学探头沿着垂直于所述第一方向的第二方向彼此分隔开。
3.如权利要求1所述的设备，其中，所述基底包括沿着所述第一方向和垂直于所述第一方向的第二方向布置的多个单元，并且
所述多个光学探头被布置为与所述基底的所述多个单元中的相应单元对应。
4.如权利要求1所述的设备，所述设备还包括厚度-光谱数据库，所述厚度-光谱数据库包括关于所述至少一个无机层的厚度和与所述至少一个无机层的所述厚度中的相应厚度对应的参考光谱的数据。
5.如权利要求4所述的设备，其中，所述厚度-光谱数据库包括关于与所述至少一个无机层的所述厚度中的相应厚度对应的抛光时间的数据。
6.如权利要求4所述的设备，所述设备还包括结合到所述多个光学探头的多通道光谱仪，并且所述多通道光谱仪被构造为根据由所述多个光学探头测量的所述反射光中的相应反射光来计算光谱。
7.如权利要求6所述的设备，所述设备还包括被构造为将多个计算出的光谱与所述参考光谱进行比较的控制器。
8.如权利要求7所述的设备，其中，所述控制器被构造为将由所述多通道光谱仪计算出的光谱的峰值点或谷值点处的波长与所述参考光谱的峰值点或谷值点处的波长中的相应波长进行比较。
9.如权利要求7所述的设备，其中，所述控制器被构造为将所述多个计算出的光谱彼此进行比较。
10.一种用于监测抛光的方法，所述方法包括以下步骤：
生成厚度-光谱数据库；
对包括至少一个无机层的基底进行抛光；
并发计算针对所述基底的多个不同位置中的各个位置的光谱；
将所计算出的光谱中的每个光谱与包括在所述厚度-光谱数据库中的参考光谱进行比较；
计算所述至少一个无机层的在所述基底的所述多个不同位置中的相应位置处的厚度；以及
确定所述至少一个无机层的在所述基底的所述多个不同位置中的所述相应位置处的所述厚度的适当性。
11.如权利要求10所述的方法，其中，当并发计算分别针对所述基底的所述多个不同位置的所述光谱时，所述基底的所述多个不同位置分别对应于包括在所述基底中的多个单元中的相应单...
【专利技术属性】
技术研发人员：芮相宪，吴世允，千圣贤，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR
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