彩膜结构、显示面板及其制备方法和显示装置制造方法及图纸

技术编号:24463712 阅读:28 留言:0更新日期:2020-06-10 17:47
本申请提供了一种彩膜结构、显示面板及其制备方法和显示装置,包括黑矩阵以及布置在所述黑矩阵开口区域内的彩膜层,以及反射层;所述反射层与所述黑矩阵至少部分重叠,所述反射层被配置为位于所述黑矩阵用于朝向发光源的一侧,使得所述发光源射向所述黑矩阵的光线至少部分地被反射至所述发光源,并经所述彩膜层射出。本申请提供的彩膜结构,通过在黑矩阵靠近发光源一侧的表面设置反射层,在不影响黑矩阵吸收自然光降反射的同时,反射发光源照射到黑矩阵区域的光,使其在彩膜层出光线,减少黑矩阵其对发光源的光能量损耗,从而改善显示面板的产品性能,提高了发光源的射出光线的传输效率。

Color film structure, display panel, preparation method and display device

【技术实现步骤摘要】
彩膜结构、显示面板及其制备方法和显示装置
本申请涉及显示
,具体而言,本申请涉及一种彩膜结构、显示面板及其制备方法和显示装置。
技术介绍
随着物联网的快速发展,显示面板广泛应用于手机、电视、笔记本电脑等智能产品中。显示面板可以通过白光发光器件与彩膜结构的结合实现彩色显示。当自然光进入彩膜基板中,彩膜结构中的黑矩阵会吸收部分自然光,从而降低有机发光二极管显示器的反射率并提高对比率。但是,现有彩膜结构中的黑矩阵在吸收自然光的同时也会吸收器件发射的光,增加了器件的光能量损失,降低了器件射出光线的传输效率。
技术实现思路
本申请针对现有方式的缺点,提出一种彩膜结构及其制备方法、显示面板、显示装置,用以解决现有黑矩阵在吸收自然光的同时也吸收器件发射的光,从而增加光能量损失的问题。第一个方面,本申请实施例提供了一种彩膜结构,包括黑矩阵以及布置在所述黑矩阵开口区域内的彩膜层,以及反射层;所述反射层与所述黑矩阵至少部分重叠,所述反射层被配置为位于所述黑矩阵用于朝向发光源的一侧,使得所述发光源射向所述黑矩阵的光线至少部分地被反射至所述发光源,并经所述彩膜层射出。在一个可能的实现方式中,所述反射层与所述黑矩阵完全重合。在一个可能的实现方式中,所述反射层为单层膜结构,所述单层膜结构中用于朝向所述发光源的一侧的表面结构为平面结构。在一个可能的实现方式中,所述反射层为单层膜结构,所述单层膜结构中用于朝向所述发光源的一侧的表面结构为周期性规则结构或者非规则结构;所述周期性规则结构包括:呈周期变化的锯齿形结构或波浪形结构;或者,呈阵列排布的柱状结构、锥状结构或球状结构;所述非规则结构包括:至少一个向所述黑矩阵一侧凹陷的曲面结构。在一个可能的实现方式中,所述单层膜结构由达到或超过预设反射率的金属材料制备,所述金属材料至少包括:银、镁、铜或铝。在一个可能的实现方式中,所述反射层为多层膜结构,所述多层膜结构包括多个沿厚度方向依次叠加的膜层,且任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。在一个可能的实现方式中,各所述膜层的厚度为目标波长的1/4整数倍;所述目标波长为包含所述彩膜结构的显示面板的期望出光波长。在一个可能的实现方式中,所述多层膜结构包括依次交替的第一膜层和第二膜层,距离所述黑矩阵最近的所述第一膜层与所述黑矩阵贴合;所述第一膜层由氧化硅或者聚酰亚胺制备,所述第二膜层由氮化硅制备。第二个方面,本申请实施例提供了一种显示面板,包括:发光源以及第一个方面所述的彩膜结构,所述彩膜结构中的黑矩阵和反射层均对应于所述发光源的非发光区域,所述彩膜结构中的彩膜层对应于所述发光源的发光区域;所述发光源包括发白光的有机电致发光层,或者所述发光源包括背光模组和液晶盒层的组合。第三个方面,本申请实施例提供了一种如第二个方面所述的显示面板的制备方法,包括:在玻璃基板中对应于发光源的非发光区域处制作黑矩阵;在所述黑矩阵远离所述玻璃基板一侧的表面制作反射层;在所述黑矩阵的开口区域内制作彩膜层;或者,在有机电致发光层的非发光区域制作反射层;在所述反射层远离所述有机电致发光层一侧的表面制作黑矩阵;在所述有机电致发光层的发光区域制作所述彩膜层。在一个可能的实现方式中,在所述黑矩阵远离所述基板一侧的表面制作形成所述反射层包括:在所述黑矩阵远离所述基板一侧的表面制作单层膜结构;在所述单层膜结构靠近所述发光源一侧的表面制作出具有周期性规则结构或者非规则结构的表面结构;或者,在所述黑矩阵的表面依次制作沿厚度方向叠加的多个膜层;任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。在一个可能的实现方式中,在所述有机电致发光层的非发光区域制作反射层包括:在所述有机电致发光层的非发光区域制作与所述周期性规则结构或者非规则结构的所述表面结构相适应的反射层基底结构;在所述反射层基底结构上制作所述单层膜结构;或者,在所述有机电致发光层的非发光区域依次制作沿厚度方向叠加的多个膜层;任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。第四个方面,本申请实施例还提供一种显示装置,包括第二个方面所述的显示面板。本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果是:本申请实施例中的彩膜结构,通过在黑矩阵靠近发光源一侧的表面设置反射层,在不影响黑矩阵吸收自然光降反射的同时,反射发光源照射到黑矩阵区域的光,使其在彩膜层出光线,减少黑矩阵其对发光源的光能量损耗,从而改善显示面板的产品性能,提高了发光源的射出光线的传输效率。本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。附图说明本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:图1为本申请实施例提供的一种彩膜结构与发光源配合的结构示意图;图2为本申请一个实施例提供的一种彩膜结构的反射层的表面结构示意图;图3为本申请另一实施例提供的一种彩膜结构的反射层的表面结构示意图;图4为本申请又一实施例提供的一种彩膜结构的反射层的表面结构示意图;图5为本申请再一实施例提供的一种彩膜结构的反射层的表面结构示意图;图6为本申请实施例提供的显示面板中彩膜结构的制备方法;图7为本申请另一实施例提供的显示面板中彩膜结构的制备方法。其中:100-彩膜结构;110-黑矩阵;120-反射层;121-第一膜层;122-第二膜层;130-彩膜层;200-发光源。具体实施方式下面详细描述本申请,本申请的实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外,如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的,则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能解释为对本申请的限制。本
技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语,应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样被特定定义,否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。本
技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。大尺寸OLED(OrganicLightEmittingDiode,有机电致发光层)产品,现阶段主要方案为采用白光OLED+彩膜结构,常规彩膜本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种彩膜结构,其特征在于,包括黑矩阵以及布置在所述黑矩阵开口区域内的彩膜层,所述彩膜结构还包括:反射层;/n所述反射层与所述黑矩阵至少部分重叠,所述反射层被配置为位于所述黑矩阵用于朝向发光源的一侧,使得所述发光源射向所述黑矩阵的光线至少部分地被反射至所述发光源,并经所述彩膜层射出。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩膜结构,其特征在于,包括黑矩阵以及布置在所述黑矩阵开口区域内的彩膜层,所述彩膜结构还包括:反射层;
所述反射层与所述黑矩阵至少部分重叠,所述反射层被配置为位于所述黑矩阵用于朝向发光源的一侧,使得所述发光源射向所述黑矩阵的光线至少部分地被反射至所述发光源,并经所述彩膜层射出。


2.根据权利要求1所述的彩膜结构,其特征在于,所述反射层与所述黑矩阵完全重合。


3.根据权利要求1或2所述的彩膜结构,其特征在于,所述反射层为单层膜结构,所述单层膜结构中用于朝向所述发光源的一侧的表面结构为平面结构。


4.根据权利要求1或2所述的彩膜结构,其特征在于,所述反射层为单层膜结构,所述单层膜结构中用于朝向所述发光源的一侧的表面结构为周期性规则结构或者非规则结构;
所述周期性规则结构包括:呈周期变化的锯齿形结构或波浪形结构;或者,呈阵列排布的柱状结构、锥状结构或球状结构;
所述非规则结构包括:至少一个向所述黑矩阵一侧凹陷的曲面结构。


5.根据权利要求4所述的彩膜结构,其特征在于,所述单层膜结构由达到或超过预设反射率的金属材料制备,所述金属材料至少包括:银、镁、铜或铝。


6.根据权利要求1或2所述的彩膜结构,其特征在于,所述反射层为多层膜结构,所述多层膜结构包括多个沿厚度方向依次叠加的膜层,且任意相邻的两个所述膜层之间的折射率差值大于0.3。


7.根据权利要求6所述的彩膜结构,其特征在于,各所述膜层的厚度为目标波长的1/4整数倍;
所述目标波长为包含所述彩膜结构的显示面板的期望出光波长。


8.根据权利要求7所述的彩膜结构,其特征在于,所述多层膜结构包括依次交替的第一膜层和第二膜层,距离所述黑矩阵最近的所述第一膜层与所述黑矩阵贴合;所述第一膜层由氧化硅或者聚酰...

【专利技术属性】
技术研发人员:高昊李彦松
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1