【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】半导体发光元件
本专利技术涉及一种半导体发光元件。
技术介绍
本专利技术人提出了专利文献1中公开的半导体发光元件。专利文献1中公开的半导体发光元件具备活性层、夹持活性层的一对包层、以及与活性层光学耦合的相位调制层,相位调制层具备基本层、以及与基本层的折射率不同的多个差异折射率区域。在相位调制层设定正方格子的情况下,将差异折射率区域(主孔)以与正孔格子的格子点精确地一致的方式配置。在该差异折射率区域的周围设置有辅助的差异折射率区域(副孔),从而可以出射规定的光束图案的光。进一步地,本专利技术人提出了专利文献2中公开的半导体发光元件。在该半导体发光元件中,通过将辅助的差异折射率区域(副孔)的配置从格子点位置仅偏移规定的距离,从而可以比现有技术更容易地获得期望的光束图案。另外,已知有专利文献3、非专利文献1、非专利文献2等作为相关技术。现有技术文献专利文献专利文献1:国际公开WO2014/136962号专利文献2:国际公开WO2016/148075号专利文献3:日本特许6080941号公报非专利文献非专利文献1:YoshitakaKurosaka,KazuyoshiHirose,TakahiroSugiyama,YuTakiguchi,YoshiroNomoto,“Phase-modulatinglaserstowardon-chipintegration”,[在线],2016年7月26日公开,Nature,[2017年7月6日搜索],因特网<U ...
【技术保护点】
1.一种半导体发光元件,其特征在于,/n具备:/n活性层;/n夹持所述活性层的一对包层;以及/n与所述活性层光学耦合的相位调制层,/n在该半导体发光元件中,/n所述相位调制层具备:/n基本层;以及/n与所述基本层的折射率不同的多个差异折射率区域,/n设定有将所述相位调制层的厚度方向设为Z轴方向的XYZ正交坐标系,在XY平面内,设定虚拟正方格子,/n所述虚拟正方格子的格子常数a,将发光波长作为λ,满足λ=√2×a×n,其中,n是相对于输出光的相位调制层的有效折射率,/n在所述相位调制层中相邻的一对差异折射率区域,将这些差异折射率区域的间隔作为a,以仅在一个方向上仅偏移了a的情况下互相重叠的方式配置,并且以在其它的方向上不重叠的方式配置。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171020 JP 2017-2038521.一种半导体发光元件,其特征在于,
具备:
活性层;
夹持所述活性层的一对包层;以及
与所述活性层光学耦合的相位调制层,
在该半导体发光元件中,
所述相位调制层具备:
基本层;以及
与所述基本层的折射率不同的多个差异折射率区域,
设定有将所述相位调制层的厚度方向设为Z轴方向的XYZ正交坐标系,在XY平面内,设定虚拟正方格子,
所述虚拟正方格子的格子常数a,将发光波长作为λ,满足λ=√2×a×n,其中,n是相对于输出光的相位调制层的有效折射率,
在所述相位调制层中相邻的一对差异折射率区域,将这些差异折射率区域的间隔作为a,以仅在一个方向上仅偏移了a的情况下互相重叠的方式配置,并且以在其它的方向上不重叠的方式配置。
2.一种半导体发光元件,其特征在于,
具备:
活性层;
夹持所述活性层的一对包层;以及
与所述活性层光学耦合的相位调制层,
在该半导体发光元件中,
所述相位调制层具备:
基本层;以及
与所述基本层的折射率不同的多个差异折射率区域,
设定有将所述相位调制层的厚度方向设为Z轴方向的XYZ正交坐标系,在XY平面内,设定第一虚拟正方格子,
将所述第一虚拟正方格子的X轴方向的间隔设为a/√2,
将所述第一虚拟正方格子的Y轴方向的间隔设为a/√2,
将所述第一虚拟正方格子的开口的重心位置的XY坐标(xi,yj)设为(xi,yj)=((i-0.5)a/√2,(j-0.5)a/√2),
其中,i和j为整数,
连结任意的所述差异折射率区域的重心位置的XY坐标(xBi,yBj)和最接近于所述差异折射率区域的XY坐标(xi,yj),并且从该XY坐标(xi,yj)朝向所述差异折射率区域的重心位置的XY坐标(xBi,yBj)的向量作为(Δxi,Δyj),
在将所述差异折射率区域的重心位置的坐标(xBi,yBj)在i为奇数的情况下设为存在的情况下,
任意的所述差异折射率区域的重心位置的坐标(xBi,yBj)仅在i为奇数且j为奇数的情况下,以及
i为偶数且j为偶数的情况下存在,
在i和j为奇数的情况下,其中,3≤i,3≤j,坐标(xBi,yBj)=(xi+Δxi,yj+Δyj)时的向量(Δxi,Δyj),
与向量(Δxi+1,Δyj+1)相等,并且,
与向量(Δxi-1,Δyj+1)不同,并且,
与向量(Δxi-1,Δyj-1)不同,并且,
与向量(Δxi+1,Δyj-1)不同,
在i和j为偶数的情况下,其中,2≤i,2≤j,坐标(xBi,yBj)=(xi+Δxi,yj+Δyj)时的向量(Δxi,Δyj),
与向量(Δxi-...
【专利技术属性】
技术研发人员:黑坂刚孝,广瀬和义,杉山贵浩,
申请(专利权)人:浜松光子学株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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