杂环化合物与包含其的有机发光装置制造方法及图纸

技术编号:24421830 阅读:48 留言:0更新日期:2020-06-06 14:30
本发明专利技术是关于一种由化学式1表示的杂环化合物与一种包括其的有机发光装置。

Heterocyclic compounds and organic light emitting devices containing them

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】杂环化合物与包含其的有机发光装置
本专利技术涉及一种杂环化合物与一种包括其的有机发光装置。
技术介绍
电致发光装置为一种自动发光显示装置,且具有优势,所述优势为具有广视角及较快响应速度且具有极佳对比度。有机发光装置具有在两个电极之间安置有机薄膜的结构。当将电压施加至具有此类结构的有机发光装置时,自两个电极注入的电子及空穴在有机薄膜中结合及配对,且在所述电子及所述空穴湮灭时发光。视需要可形成单层或多层有机薄膜。视需要,有机薄膜的材料可具有发光功能。举例而言,可使用能够自身单独形成发光层的化合物作为有机薄膜的材料,或亦可使用能够作为主体-掺杂物类(host-dopant-based)发光层的主体或掺杂物的化合物。此外,亦可使用能够起空穴注入、空穴转移、电子阻挡、空穴阻挡、电子转移、电子注入以及类似作用的化合物作为有机薄膜的材料。有机薄膜材料的发展不断要求提升有机发光装置的效能、寿命或效率。
技术实现思路
技术问题本专利技术是关于提供一种杂环化合物与一种包括其的有机发光装置。技术解决方案本申请案的一个实施例提供一种由以下化学式1表示的杂环化合物。[化学式1]在化学式1中,X为O或S,L1及L2为经取代或未经取代的亚芳基;或经取代或未经取代的亚杂芳基,Z2为氢;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;-SiRR’R”;或-P(=O)RR’,X1至X3彼此相同或不同,且各自独立地为N;CR3;或P,R1及R2彼此相同或不同,且各自独立地为氢;氘;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;或P(=O)RR’,R3为氢;卤素基;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;或P(=O)RR’,Ra及Rb彼此相同或不同,且各自独立地为氢;氘;卤素基;-CN;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的烯基;经取代或未经取代的炔基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的杂环烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或被经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的芳基、或者经取代或未经取代的杂芳基取代的胺基,或彼此相邻的两个或更多个基团彼此键结形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,R、R’及R”彼此相同或不同,且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的芳基;或经取代或未经取代的杂芳基,m为0至4的整数,p及n为0至3的整数,q为0至3的整数,s为1至4的整数,且当q为0的整数且Z2为氢时,n为2或3的整数,且Rb为经取代或未经取代的芳基;或经取代或未经取代的杂芳基,或彼此相邻的两个或更多个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环。本申请案的另一实施例提供一种有机发光装置,包括:第一电极;第二电极,与所述第一电极相对地设置;以及一或多个有机材料层,设置于所述第一电极与所述第二电极之间,其中有机材料层的一或多个层包括由化学式1表示的杂环化合物。有利效果本专利技术中描述的化合物可用作有机发光装置的有机材料层材料。化合物能够起到有机发光装置中的空穴注入材料、空穴转移材料、发光材料、电子转移材料、电子注入材料以及类似者的作用。尤其,由化学式1表示的杂环化合物可用作有机发光装置的电子转移层材料、空穴阻挡层材料或电荷产生层材料。另外,当在有机材料层中使用由化学式1表示的化合物时,驱动电压降低且装置中的光效率提高,且可通过化合物的热稳定性提高装置寿命特性。此外,化学式1的化合物为在核心结构中同时具有P型及N型取代基的双极型化合物,且当之后用作有机发光装置的有机材料层时,能够阻挡空穴泄漏并将激子有效地捕获在发光层中。另外,在特定装置结构中,空穴性质得到加强,电子迁移率相对缓慢地改变,这平衡了发光层中的电子及空穴,从而适当地形成激子的再结合区域,因此效率及寿命增加。附图说明图1至图4是各自示意性地示出根据本申请案的一个实施例的有机发光装置的层压结构的图。<符号说明>100:基板200:阳极300:有机材料层301:空穴注入层302:空穴转移层303:发光层304:空穴阻挡层305:电子转移层306:电子注入层400:阴极具体实施方式在下文中,将详细地描述本申请案。术语“取代”意谓键结至化合物的碳原子的氢原子变为另一取代基,且取代位置不受限制,只要其为氢原子经取代的位置,亦即取代基可取代的位置,且当两个或大于两个取代基取代时,两个或大于两个取代基可彼此相同或不同。在本专利技术中,卤素可为氟、氯、溴或碘。在本专利技术中,烷基包括具有1至60个碳原子的直链或分支链,且可进一步经其他取代基取代。烷基的碳原子数可为1至60,具体言之1至40且更具体言之1至20。其特定实例可包括甲基、乙基、丙基、正丙基、异丙基、丁基、正丁基、异丁基、第三丁基、第二丁基、1-甲基-丁基、1-乙基-丁基、戊基、正戊基、异戊基、新戊基、第三戊基、己基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、4-甲基-2-戊基、3,3-二甲基丁基、2-乙基丁基、庚基、正庚基、1-甲基己基、环戊基甲基、环己基甲基、辛基、正辛基、第三辛基、1-甲基庚基、2-乙基己基、2-丙基戊基、正壬基、2,2-二甲基庚基、1-乙基-丙基、1,1-二甲基-丙基、异己基、2-甲基戊基、4-甲基己基、5-甲基己基以及类似基团,但不限于此。在本专利技术中,烯基包括具有2至60个碳原子的直链或分支链,且可进一步经其他取代基取代。烯基的碳原子数可为2至60,具体言之2至40且更具体言之2至20。其特定实例可包括乙烯基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、3-甲基-1-丁烯基、1,3-丁二烯基、烯丙基、1-苯基乙烯基-1-基、2-苯基乙烯基-1-基、2,2-二苯基乙烯基-1-基、2-苯基-2-(萘基-1-基)乙烯基-1-基、2,2-双(二苯基-1-基)乙烯基-1-基、芪基、苯乙烯基以及类似基团,但不限于此。在本专利技术中,炔基包括具有2至60个碳原子的直链或分支链,且可进一步经其他取代基取代。炔基的碳原子数可为2至60,具体言之2至40且更具体言之2至20。在本专利技术中,烷氧基可为直链、分支链或环状。烷氧基的碳原子数不受特别限制,但较佳为1至20。其特定实例可包括甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、第三丁氧基、第二丁氧基、正戊氧基、新戊氧基、异戊氧基、正己氧基、3,3-二甲基丁氧基、2-乙基丁氧基、正辛氧基、正壬氧基、正癸氧基、苯甲氧基、对甲基苯甲氧基以及类似基团本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种杂环化合物,由以下化学式1表示:/n[化学式1]/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种杂环化合物,由以下化学式1表示:
[化学式1]



其中,在化学式1中,
X为O或S;
L1及L2为经取代或未经取代的亚芳基;或经取代或未经取代的亚杂芳基;
Z2为氢;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;-SiRR’R”;或-P(=O)RR’;
X1至X3彼此相同或不同,且各自独立地为N;CR3;或P;
R1及R2彼此相同或不同,且各自独立地为氢;氘;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;或P(=O)RR’;
R3为氢;卤素基;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;或P(=O)RR’;
Ra及Rb彼此相同或不同,且各自独立地由下列所构成的族群中选出:氢;氘;卤素基;-CN;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的烯基;经取代或未经取代的炔基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的杂环烷基;经取代或未经取代的芳基;经取代或未经取代的杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或被经取代或未经取代的烷基、经取代或未经取代的芳基、或者经取代或未经取代的杂芳基取代的胺基,或彼此相邻的两个或更多个基团彼此键结形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环;
R、R’及R”彼此相同或不同,且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的芳基;或经取代或未经取代的杂芳基;
m为0至4的整数;
p及n为0至3的整数;
q为0至3的整数;
s为1至4的整数;且
当q为0的整数且Z2为氢时,n为2或3的整数,且Rb为经取代或未经取代的芳基;或经取代或未经取代的杂芳基,或彼此相邻的两个或更多个基团彼此键结以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环。


2.根据权利要求1项所述的杂环化合物,其中“经取代或未经取代”意谓经由下述者所组成的族群中选出的一或多个取代基取代:C1-C60直链或分支链烷基;C2至C60直链或分支链烯基;C2至C60直链或分支链炔基;C3至C60单环或多环环烷基;C2至C60单环或多环杂环烷基;C6至C60单环或多环芳基;C2至C60单环或多环杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;C1至C20烷基胺;C6至C60单环或多环芳基胺;及C2至C60单环或多环杂芳基胺,或未经取代,或经连接两个或更多个选自上述取代基中的取代基的取代基取代,或未经取代;且R、R’及R”具有与化学式1中相同的定义。


3.根据权利要求1项所述的杂环化合物,其中Ra及Rb为氢。


4.根据权利要求1项所述的杂环化合物,其中R1及R2为氢;未经取代或被由C1至C40烷基及C2至C40杂芳基所构成的族群中选出的一个或多个取代基取代的C6至C40芳基;P(=O)RR’;或C2至C40的含N杂芳基。


5.根据权利要求1项所述的杂环化合物,其中L1及L2为C6至C30亚芳基;或C2至C30亚杂芳基;且
Z2为氢;C6至C40芳基;或C2至C40杂芳基。


6.根据权利要求1项所述的杂环化合物,其中化学式1由以下化学式2至化学式5中的任一者表示:
[化学式2]



[化学式3]



[化学式4]



[化学式5]



在化学式2至化学式5中,
X1至X3、R1、R2、L1、L2、Z2及p具有与化学式1中相同的定义,且
q及s各自为1至3的整数。


7.根据权利要求1项所述的杂环化合物,其中...

【专利技术属性】
技术研发人员:池慧秀吴韩国李允智郑元场崔珍硕崔大赫
申请(专利权)人:喜星素材株式会社
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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