微细图案的制造方法以及使用了其的显示器件的制造方法技术

[问题]本发明专利技术提供在液晶显示器件制造领域中适宜使用的、实效性地制造分辨极限以下的抗蚀图案的方法。具体提供：维持具有锥形形状的图案形状且为极限分辨以下的微细图案的制造方法。[解决方案]一种微细图案的制造方法，其包含以下的工序：在基板上，涂布包含碱溶解速度为

Manufacturing method of micro pattern and display device using it

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微细图案的制造方法以及使用了其的显示器件的制造方法
本专利技术涉及微细图案的制造方法、以及使用了其的显示器件的制造方法，其中，在形成抗蚀图案时，通过将已经形成的抗蚀图案间的分离尺寸或者图案开口尺寸进行缩小，从而可形成更微细的图案。
技术介绍
近年来，在半导体器件(device)和/或液晶显示器件的制造中，使用抗蚀剂而进行图案形成。关于液晶显示器件的抗蚀工艺，适用于例如从300mm×400mm的第1代基板至被称为第10代的2850mm×3050mm的大型的基板，为了实现高通量而要求高灵敏度化。在这样地适用于超大型的玻璃基板的情况下，包括制造装置在内，与半导体器件制造用的抗蚀剂的情况相比，所要求的特性完全不同。例如，对于宽广的基板面整面，要求抗蚀图案尺寸的均匀性。另外，所使用的光源也与半导体器件制造用的抗蚀剂的情况不同，使用了例如365nm(i线)、405nm(h线)、436nm(g线)等300nm以上的辐射线、特别是它们的混合波长。另外，关于抗蚀图案的形状，在半导体制造领域优选为矩形，与此相对，由于在其后的加工方面有利，因而有时会优选为在孔穴(h本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微细图案的制造方法，其包含以下的工序：/n(1)在基板上，涂布包含碱溶解速度为

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171020 JP 2017-2038361.一种微细图案的制造方法，其包含以下的工序：
(1)在基板上，涂布包含碱溶解速度为的酚醛清漆树脂的抗蚀组合物，形成抗蚀组合物层的工序，
(2)将所述抗蚀组合物层进行曝光的工序，
(3)将所述抗蚀组合物层进行显影，形成抗蚀图案的工序，
(4)将所述抗蚀图案进行整面曝光的工序，
(5)在所述抗蚀图案的表面涂布微细图案形成组合物，形成微细图案形成组合物层的工序，
(6)将所述抗蚀图案以及微细图案形成组合物层进行加热，将所述微细图案形成组合物层的所述抗蚀图案附近区域进行固化而形成不溶化层的工序，以及
(7)将所述微细图案形成组合物层的未固化部分去除的工序。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，使用极限分辨率为1.5～5.0μm的曝光装置进行所述工序(2)中的曝光。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使用数值孔径为0.08～0.15的投影透镜进行所述工序(2)中的曝光。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的方法，其中，所述工序(2)中的曝光量为15～80mJ/cm2。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的方法，其中，在所述工序(2)中照射的光包含300...

【专利技术属性】
技术研发人员：池田宏和，野中敏章，远山宜亮，铃木孝秀，
申请(专利权)人：默克专利有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE