水栓零件制造技术

本发明专利技术在于，对于水栓零件在不引起局部腐蚀的同时赋予防污功能。本发明专利技术为一种水栓零件，具备：金属基材及在所述金属基材表面上局部形成的镀层，其特征在于，所述金属基材含有选自铜、锌及锡中的至少1种的金属元素，所述镀层含有选自铬及镍中的至少1种的金属元素，在所述镀层上，介由存在于所述镀层表面的钝化层进一步设置有机层，所述有机层通过构成所述钝化层的金属元素(M)介由氧原子(O)与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基(X)的磷原子(P)键合(M‑O‑P键)，而与所述钝化层键合，且基X与基R(R为烃基或烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基。)键合，所述金属基材上未形成镀层的部分的表面的磷原子浓度比设置于镀层之上的有机层的表面的磷原子浓度低。

Water hydrant parts

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】水栓零件
本专利技术涉及包含金属基材的水栓零件。
技术介绍
水栓零件在水存在的环境下被使用。从而，水栓零件的表面上容易附着水。已知存在下述问题，由于其表面附着的水的干燥，水栓零件的表面上会形成含有自来水中所含成分即二氧化硅或钙的水垢。此外，还已知有在水栓零件的表面上附着蛋白质或皮脂、霉、微生物及肥皂等污垢的问题。由于难以使这些污垢不附着于水栓零件的表面，因此例行通过清扫去除表面的污垢从而使其恢复原状。具体而言，通过使用洗涤剂或自来水用布或海绵等对水栓零件的表面进行摩擦等的操作而去除这些污垢。因此，对于水栓零件，追求污垢易脱落度即易去除性。此外，水栓零件还追求高设计性。尤其，金属材料，为了精美的外观而优选用于水栓零件的表面。从而，追求在不损害金属材料的设计的同时赋予易去除性。关于此，已知有使用拒水性防污层的水垢去除技术。在日本特开2000-265526号公报中，记载有通过设置对陶器表面的羟基进行遮蔽的防污层，抑制硅酸水垢污垢的固着。该防污层，公开为涂布含有陶器表面的羟基与氟化烷基的有机硅化合物、含有可水解基的甲基聚硅氧烷化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水栓零件，/n具备：金属基材；/n及在所述金属基材表面上局部形成的镀层，其特征在于，/n所述金属基材含有选自铜、锌及锡中的至少1种的金属元素，/n所述镀层含有选自铬及镍中的至少1种的金属元素，/n在所述镀层上，介由存在于所述镀层表面的钝化层进一步设置有机层，/n所述有机层通过构成所述钝化层的金属元素M介由氧原子O与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基X的磷原子P键合，即M-O-P键，而与所述钝化层键合，且基X与基R键合，其中R为烃基或烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基，/n所述金属基材上未形成镀层的部分的表面的磷原子浓度比设置于镀层之上的有机层的表面的磷原子浓度低。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180927 JP 2018-181763;20190329 JP 2019-0660321.一种水栓零件，
具备：金属基材；
及在所述金属基材表面上局部形成的镀层，其特征在于，
所述金属基材含有选自铜、锌及锡中的至少1种的金属元素，
所述镀层含有选自铬及镍中的至少1种的金属元素，
在所述镀层上，介由存在于所述镀层表面的钝化层进一步设置有机层，
所述有机层通过构成所述钝化层的金属元素M介由氧原子O与选自膦酸基、磷酸基及次膦酸基中的至少1种的基X的磷原子P键合，即M-O-P键，而与所述钝化层键合，且基X与基R键合，其中R为烃基或烃基内的1或2处上具有碳以外的原子的基，
所述金属基材上未形成镀层的部分的表面的磷原子浓度比设置于镀层之上的有机层的表面的磷原子浓度低。


2.根据权利要求1所述的水栓零件，其特征在于，通过X射线光电子能谱法即XPS，由依照条件1进行测定的P2p能谱的峰面积计算的在所述金属基材上未形成镀层的部分的表面的磷原子浓度低于检测下限，
条件1，
X射线条件：单色化AlKα射线，输出25W，
光电子出射角：45°，
分析区域：100μmφ，
扫描范围：15.5-1100eV。


3.根据权利要求1或2所述的水栓零件，其特征在于，未形成镀层的部分为通水道或螺纹部。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的水栓零件，其特征在于，所述金属基材由合金构成。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的水栓零件，其特征在于，所述有机层中，R的一侧末端即并非为与X的键合端的一侧的端部，由C及H构成。...

【专利技术属性】
技术研发人员：浮贝沙织，土方亮二郎，古贺辽，
申请(专利权)人：TOTO株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP