【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】辐射目标指示
本专利技术一般涉及一种用于在对象上指示相位对比放射学系统的辐射射束的期望目标辐射区域的系统和方法、以及一种用于利用相位对比放射学系统的辐射射束在对象上的目标辐射区域上对对象进行辐照的成像系统。
技术介绍
在医学放射过程(例如，诊断或治疗放射过程)之前，需要在对象上指示要被辐照的期望目标区域，以对齐辐射射束，使得辐射射束辐照对象中的相关区段(例如，患者中的器官)，并且避免辐照不应当暴露于辐射的区域。在大多数放射过程中，使用光场指示器来提供目标指示，所述光场指示器将光学光场投影在对象上，所述光学光场被成形为使得它对应于要在程序期间利用辐射射束辐照的区域。辐射射束然后被准直，使得它对应于所指示的目标区域。指示期望目标区域的光场由光场生成器(通常，产生光束的可见光源)生成。由于可见光源不应当在辐射射束的路径中，它通常被布置在针对出过程的辐射源附近但是在其侧面。通过使用一个或多个反射镜，光束被转向为对应于针对过程的辐射射束的路径。因此，考虑到反射镜，光场生成器的位置实际上必须与焦斑相对应。通常，光...
【技术保护点】
1.一种用于在对象(40)上指示相位对比放射学系统的辐射射束(12)的期望目标辐射区域(23)的系统，包括：/n第一光场生成器(20-1)，其被配置为生成并且投影在第一光场方向(x)上朝向所述对象的第一光场(21-1)；/n第二光场生成器(20-2)，其被配置为生成并且投影在第二不同的光场方向(y)上朝向所述对象的第二光场(21-2)；/n其中，当在使用中时，所述第一光场和所述第二光场在所述对象上至少部分地彼此交叠，形成指示所述期望目标辐射区域的交叠光场区域(23)；并且/n其中，当在使用中时，所述辐射射束(12)沿着射束路径被发射，并且所述第一光场和所述第二光场基本上不匹配所述射束路径。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171018 EP 17196991.81.一种用于在对象(40)上指示相位对比放射学系统的辐射射束(12)的期望目标辐射区域(23)的系统，包括：
第一光场生成器(20-1)，其被配置为生成并且投影在第一光场方向(x)上朝向所述对象的第一光场(21-1)；
第二光场生成器(20-2)，其被配置为生成并且投影在第二不同的光场方向(y)上朝向所述对象的第二光场(21-2)；
其中，当在使用中时，所述第一光场和所述第二光场在所述对象上至少部分地彼此交叠，形成指示所述期望目标辐射区域的交叠光场区域(23)；并且
其中，当在使用中时，所述辐射射束(12)沿着射束路径被发射，并且所述第一光场和所述第二光场基本上不匹配所述射束路径。
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第一光场生成器(20-1)被布置为使得所生成的第一光场(21-1)的视差在所述第一光场方向(x)上比在其他方向上更大；并且其中，所述第二光场生成器(20-2)被布置为使得所生成的第二光场(21-2)的视差在所述第二光场方向(y)上比在其他方向更大。
3.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，第一准直器装置(31-1)被布置为准直所述第一光场(21-1)，并且第二准直器装置(31-2)被布置为准直所述第二光场(21-2)。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述第一光场生成器(20-1)包括用于朝向所述对象(40)投影所述第一光场(21-1)的第一反射镜(22-1)，和/或所述第二光场生成器(20-2)包括用于朝向所述对象投影所述第二光场(21-2)的第二反射镜(22-2)。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，所述第一光场生成器(20-1)被配置为针对所述第一光场的整个长度以不同于所述辐射射束路径的角度的角度朝向所述对象投影所述第一光场(21-1)，并且所述第二光场生成器(20-2)被配置为针对所述第二光场的整个长度以不同于所述辐射射束路径的角度的角度朝向所述对象投影所述第二光场(21-1)。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，第一光场生成器(20-1)适于生成具有第一颜色的所述第一光场(21-1)，并且所述第二光场生成器(20-2)适于生成具有第二颜色的所述第二光场(21-2)，其中，所述第二颜色不同于所述第一颜色。
7.一种用于利用辐射射束(12)在对象(40)上的目标辐射区域(23)上对所述对象进行辐照的相位对比放射学系统，包括：
辐射源(10)，其被布置为发射所述辐射射束(12)；
辐射探测器(50)，其跨过用于接收所述对象(40)的检查区域被放置在所述辐射源对侧；
光学光栅装置(G0、G1、G2)，其被布置在所述辐射源与所...
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