一种图形化、蚀刻、显示面板的制作方法及显示面板技术

本申请公开了一种图形化、蚀刻、显示面板的制作方法及显示面板，该图形化方法包括在待蚀刻膜层的至少一待曝光区域内形成反射块；在待蚀刻膜层上形成光阻层，光阻层覆盖待蚀刻膜层同时包裹反射块；对光阻层进行曝光处理；其中，反射块表面至少包括两个出光方向不同的反射区域，用于将相同方向的入射光向不同方向反射至光阻层。通过上述方式，本申请能够提高曝光精度。

A method of making graphic, etching and display panel and display panel

【技术实现步骤摘要】
一种图形化、蚀刻、显示面板的制作方法及显示面板
本申请涉及显示
，特别是涉及图形化、蚀刻、显示面板的制作方法及显示面板。
技术介绍
蚀刻(etching，Etch)是使用化学反应或物理撞击作用等方式移除材料的技术，常用于半导体制造工艺。一般地，先通过曝光制版、显影，将图形转移至介质层上，再利用化学溶液或离子冲击等方式腐蚀处理掉需要除去的部分。请参阅图1，图1是现有方式中图形化方法的示意图，随着微制造工艺的发展，想要制作的图形结构更精密，密集区域的图形间隙越来越小，常会出现曝光不透、显影不净的问题，导致曝光边缘粗糙、膜残留等。随着器件尺寸的不断缩小，图形边缘的粗糙度和膜残留等对器件的电学性能影响越来越大。
技术实现思路
本申请主要解决的技术问题是提供一种图形化、蚀刻、显示面板的制作方法及显示面板，能够提高曝光精度。为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种图形化方法，该图形化方法包括在待蚀刻膜层的至少一待曝光区域内形成反射块；在待蚀刻膜层上形成光阻层，光阻层覆盖待蚀刻膜层同时包裹反射块；对光阻层进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图形化方法，其特征在于，包括：/n在待蚀刻膜层的至少一待曝光区域内形成反射块；/n在所述待蚀刻膜层上形成光阻层，所述光阻层覆盖所述待蚀刻膜层同时包裹所述反射块；/n对所述光阻层进行曝光处理；/n其中，所述反射块表面至少包括两个出光方向不同的反射区域，用于将相同方向的入射光向不同方向反射至所述光阻层。/n

【技术特征摘要】
1.一种图形化方法，其特征在于，包括：
在待蚀刻膜层的至少一待曝光区域内形成反射块；
在所述待蚀刻膜层上形成光阻层，所述光阻层覆盖所述待蚀刻膜层同时包裹所述反射块；
对所述光阻层进行曝光处理；
其中，所述反射块表面至少包括两个出光方向不同的反射区域，用于将相同方向的入射光向不同方向反射至所述光阻层。


2.根据权利要求1所述的图形化方法，其特征在于，
所述反射块表面包括第一反射区域和第二反射区域，所述第一反射区域所在平面、所述第二反射区域所在平面均不与所述待蚀刻膜层所在平面平行，所述第一反射区域、所述第二反射区域分别用于将所述入射光反射至所述待曝光区域的两侧边缘。


3.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征在于，所述在待蚀刻膜层的待曝光区域形成反射块包括：
根据所述入射光的入射角度和光强度，设置所述第一反射区域所在平面与所述待蚀刻膜层所在平面的夹角、所述第二反射区域所在平面与所述待蚀刻膜层所在平面的夹角，以使所述反射光在所述待曝光区域的所述光阻层内传播，并使所述反射光对邻近所述待曝光区域边缘的预设区域内的光阻层进行曝光。


4.根据权利要求2所述的图形化方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张波，王中来，刘晓佳，李柯，王瑞瑞，杨大伟，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34