超声波清洗系统以及组织处理机技术方案

本公开涉及一种超声波清洗系统，包括组织处理机，所述组织处理机具有用于接收试剂以处理组织样本的工作室；超声波发生器，用于产生超声波信号，对所述工作室进行清洗处理；温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或第二温度控制所述超声波发生器的操作。该超声波清洗系统能够加速组织处理机的工作室及其他相关部件的清洗过程，有效控制超声波发生器及工作室内部的温度以便稳定地发射超声波进行清洗，避免超声波发生器中的振荡器及其他元件因为高温失效或损坏，并且能够有效抑制超声波对于待处理的组织样本的损伤。

Ultrasonic cleaning system and tissue processor

【技术实现步骤摘要】
超声波清洗系统以及组织处理机
本公开涉及组织处理领域，尤其涉及一种超声波清洗系统以及组织处理机。
技术介绍
组织处理机是一种用于处理组织样本以制备用于以后显微镜检查的组织样本的装置。可以自动将组织样本浸入到组织处理机的工作室中的一系列试剂中，以实现例如固定、脱水、透明、浸蜡等处理。工作室是组织处理机中的可封闭的处理室，其接收各种试剂，以在适宜的温度和压力下执行各种处理。在处理过程中，需要在工作室中使用诸如醇类、二甲苯、石蜡等多种试剂。此外，样本自身的血液和其他组织碎片也可能残留在工作室中。而在组织处理过程中需要保持组织样本的洁净，因此需要经常对工作室等进行清洗。特别是，如果处理过程中需要利用石蜡试剂进行浸蜡，则必须进行清洗步骤，以防石蜡凝固。然而，现有的组织处理机存在以下问题。由于组织处理机的工作室的内部结构复杂，而且通常是内置于组织处理机中，不方便移动，因此如果在处理过程中试剂或组织碎片等残留在工作室的角落或部件缝隙中，可能难以以常规的方式彻底清洗。此外，在组织处理过程中，通常是将含有组织标本的包埋盒放入组织处理篮中，然后再将该组织处理篮中放入工作室内。而组织处理篮存在大量的细小缝隙，这也增加了清洗工作的困难。在现有技术中，存在超声波清洗技术。超声波是一种频率超出人类听觉范围20kHz以上的声波。当超声波信号在液体中传播时，会产生空化气泡，对污层的直接反复冲击，一方面破坏污物与清洗件表面的吸附，另一方面也会引起污物层的破坏而脱离清洗件表面并使它们分散到清洗液中，从而达到清洗目的。然而，在将以上超声波清洗技术应用于组织处理机时，存在以下技术难题。首先，组织处理需要长时间处于较高温度下。比如，在浸蜡和包埋样本的处理中，需要对石蜡进行加热，以便通过熔融的石蜡包埋样本。在处理过程中，工作室的缸体往往达到85℃以上的高温。这种高温可能导致超声波发生器中的振荡器失效，无法正常进行清洗工作，而且超声波发生器中的功率放大元件及其他元件也可能因此损坏。其次，超声波发生器中的振荡器的振荡频率会因为处理过程中的温度变化而变化。如果组织处理过程中，振荡器的环境温度变化较大，会导致其工作极不稳定，从而影响清洗工作效率。第三，在清洗过程中，超声波发生器的振子长时间连续驱动，也会导致高温。超声波发生器中通常采用的压电陶瓷振子在高温时压电特性会降低，导致超声波输出下降。这同样会影响清洗工作效率。第四，超声波强大的能量也会损伤性质脆弱的组织样本。若在清洗过程中未对超声波发生器的输出进行精确控制，过多的能量会引起组织处理的质量变坏。因此，现有技术亟需一种超声波清洗系统以及组织处理机，其能够加速组织处理机的工作室及其他相关部件的清洗过程，有效控制超声波发生器及工作室内部的温度以便稳定地发射超声波进行清洗，避免超声波发生器中的振荡器及其他元件因为高温失效或损坏，并且能够有效抑制超声波对于待处理的组织样本的损伤。
技术实现思路
因此，本公开提供了一种超声波清洗系统以及组织处理机，其基本上避免了由于现有技术的局限性和不足而引起的一个或多个问题。本公开的一个方面提供了一种超声波清洗系统，包括组织处理机，所述组织处理机具有用于接收试剂以处理组织样本的工作室；超声波发生器，用于产生超声波信号，对所述工作室进行清洗处理；温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或第二温度控制所述超声波发生器的操作。此外，本公开的另一方面提供了一种组织处理机，包括：工作室，用于接收试剂以处理组织样本；超声波发生器，用于产生超声波信号，对工作室进行清洗处理；温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或所述第二温度控制所述超声波发生器的操作作。根据本公开的超声波清洗系统能够对工作室以及组织处理篮的角落和部件缝隙中残留的试剂或组织碎片等进行彻底清洗，并且加速组织处理机的工作室及其他相关部件的清洗过程。与组织处理机的传统清洗过程相比，在相同的试验条件下，根据本公开的超声波清洗系统能够节省48％的清洗时间。此外，通过提供温度传感器模块等结构，根据本公开的超声波清洗系统可有效控制超声波发生器及工作室内部的温度以便稳定地发射超声波进行清洗，避免超声波发生器中的振荡器及其他元件因为高温失效或损坏，并且有效抑制超声波对于待处理的组织样本的损伤。本公开的附加的特点和有益效果，一部分将在随后的说明书中阐述，一部分根据本说明书将是明显的，或者可以通过实践本公开而被了解。可以通过在所撰写的说明书及其权利要求书以及所附附图中具体指明的结构来实现和获得本公开的这些及其他优点。应理解的是，本公开的上述概括说明及随后的详细说明都是解释性的，旨在为所请求保护的本公开提供进一步的解释。附图说明附图被包括在内以提供对于本公开的进一步的理解，它们被并入并构成本说明书的一部分；附图图示出本公开的实施例并与描述内容一起用于解释本公开的原理。在附图中：图1示出根据本公开实施例的组织处理机的透视图；以及图2示出根据本公开实施例的超声波清洗系统的示意框图。具体实施方式现在将详细参考本公开的实施方式，附图中可图示出这些实施方式的示例。其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。图1示出根据本公开实施例的组织处理机10的透视图。组织处理机10主要包括工作室11、试剂容器12、试剂分配管道13、抽拉装置14、超声波发生器15、温度传感器模块16、控制单元17。工作室11是用于接收试剂以处理组织样本的可封闭腔室。在工作室11中，可放入装有包含组织样本的包埋盒的组织处理篮。图1中示出工作室11的盖处于闭合位置的情形。试剂容器12用于存放在组织处理过程中使用的试剂。组织处理机10通常包括一个或多个试剂容器12。试剂容器12置于抽拉装置14中，该抽拉装置14可经由伸缩铁轨从组织处理机10中拉出。试剂分配管道13连接在试剂容器12和工作室11之间。存放在试剂容器12中的试剂可经由试剂分配管道13，馈送到工作室11中。当组织样本被放置在工作室11中时，可借助于来自于试剂容器12的各种试剂，对组织样本执行固定、脱水、透明、浸蜡等处理。所述试剂可包括醇类、二甲苯或者石蜡等。例如，可使用福尔马林执行固定处理；随后，可使用各种纯度的醇类溶液执行脱水处理；随后，在透明处理中，可使用二甲苯或者类似介质从组织样本去除醇类残余；随后，可使用例如石蜡对所述组织样本进行浸蜡处理。当在工作室中内执行完浸蜡处理步骤后，接触试剂的各个部件，比如工作室的缸体内部以及组织处理篮等，都被石蜡沾满。因此，在添本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超声波清洗系统，包括：/n组织处理机，所述组织处理机具有用于接收试剂以处理组织样本的工作室；/n超声波发生器，用于产生超声波信号，对所述工作室进行清洗处理；/n温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及/n控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或第二温度控制所述超声波发生器的操作。/n

【技术特征摘要】
1.一种超声波清洗系统，包括：
组织处理机，所述组织处理机具有用于接收试剂以处理组织样本的工作室；
超声波发生器，用于产生超声波信号，对所述工作室进行清洗处理；
温度传感器模块，用于检测所述超声波发生器的第一温度和所述工作室内的试剂的第二温度；以及
控制单元，与所述超声波发生器和所述温度传感器模块连接，用于接收所述第一温度和所述第二温度，并且根据所述第一温度或第二温度控制所述超声波发生器的操作。


2.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述温度传感器模块包括第一温度传感器模块，所述第一温度传感器模块设置在所述超声波发生器处，用于检测所述第一温度。


3.根据权利要求2所述的超声波清洗系统，其中当所述第一温度等于或高于第一阈值的时候，所述控制单元降低所述超声波发生器的振荡频率。


4.根据权利要求3所述的超声波清洗系统，进一步包括超声波发生器驱动单元，所述超声波发生器驱动单元连接在所述控制单元与所述超声波发生器之间，
其中，当所述第一温度等于或高于比所述第一阈值高的第二阈值时，所述控制单元控制所述超声波发生器暂停所述清洗处理，并控制所述超声波发生器驱动单元将所述超声波发生器从第一位置移动至与所述工作室分离开一段距离的第二位置，以及
当所述第一温度降低至低于所述第二阈值时，所述控制单元控制所述超声波发生器驱动单元将所述超声波发生器从所述第二位置移动回所述第一位置，并控制所述超声波发生器继续所述清洗处理。


5.根据权利要求2所述的超声波清洗系统，其中所述温度传感器模块进一步包括第二温度传感器，所述第二温度传感器设置在所述工作室的接收所述试剂的入口处或设置在所述工作室的内侧壁上，用于检测所述第二温度。


6.根据权利要求5所述的超声波清洗系统，其中所述第二温度传感器模块安装在所述工作室的内侧壁中形成的安装孔内。


7.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述温度传感器模块被形成为封闭的模块单元。


8.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述组织处理机进一步包括用于对所述工作室内的试剂进行加热的加热装置，
所述控制单元根据所述第一温度或第二温度，控制所述加热装置的发热功率，
其中，当所述第一温度等于或高于第三阈值的时候，所述控制单元降低所述加热装置的发热功率，
其中，当所述第二温度低于第四阈值的时候，所述控制单元提高所述加热装置的发热功率。


9.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述控制单元根据不同的组织样本控制所述超声波发生器的振荡频率，以将所述振荡频率调节至适应所述组织样本。


10.根据权利要求1所述的超声波清洗系统，其中所述超声波发生器设置在所述工作室的外侧壁上，
其中在所述超声波发生器与所述工作室的外侧壁之间设...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘宾，
申请(专利权)人：莱卡生物系统努斯洛赫有限责任公司，
类型：新型
国别省市：德国;DE