利用在超音速气体涡流中产生的冲击波处理固体材料的系统和方法技术方案

技术编号:24389212 阅读:49 留言:0更新日期:2020-06-06 01:45
可以使用在超音速气体涡流中产生的冲击波对固体材料进行处理。可以将高速气体流引入到反应器中。反应器可以具有腔室、固体材料入口、气体入口和出口。可以通过气体入口将高速气体流引入到反应器的腔室中。高速气体流可以在所述腔室内实现超音速气体涡流。反应器可以被配置为使用在腔室内的超音速气体涡流中产生的冲击波的张力来促进固体进料的化学反应和/或粉碎。可以通过固体材料入口将固体材料馈送到腔室中。可以通过借助于腔室内的冲击波实现的非研磨作用机制,在腔室内对固体材料进行处理。可以对通过反应器的出口传送的处理过的材料进行收集。

The system and method of treating solid materials by shock wave generated in supersonic gas eddy current

【技术实现步骤摘要】
利用在超音速气体涡流中产生的冲击波处理固体材料的系统和方法本申请是申请号为201580040835.2、申请日为2015年6月5日、专利技术名称为“利用在超音速气体涡流中产生的冲击波处理固体材料的系统和方法”的PCT国际专利技术专利申请的分案申请。
本公开涉及利用在超音速气体涡流中产生的冲击波处理固体材料的系统和方法。
技术介绍
粉碎的常规方法可包括使用气流粉碎机。气流粉碎机可用于研磨一系列材料,特别是在进料较硬或者已经相对较细的情况下以及在需要无污染的高纯度产品的情况下。因为通过空气或蒸汽的多孔射流围绕中心环形腔室的周边驱动处理材料,所以可以在气流粉碎机的中心环形腔室中进行粉碎。可以不涉及研磨介质。通过磨耗而导致的尺寸的减小可能是处理材料本身的颗粒之间和/或处理材料的颗粒和腔室的内壁之间的高速碰撞以及所产生的压缩力的结果。
技术实现思路
本专利技术的一个方面涉及使用反应器的系统,所述反应器被配置为利用在超音速气体涡流中产生的冲击波的张力来促进固体进料的化学反应和/或粉碎。使用本文提出的反应器的系统的一个或多本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理固体材料的系统,所述系统包括:/n固体材料进料器;/n具有腔室、固体材料入口、气体入口和出口的反应器,所述反应器被配置为使用在所述腔室内的超音速气体涡流中产生的冲击波的张力来促进固体进料的化学反应和/或粉碎,所述固体材料进料器被配置为通过所述固体材料入口将固体材料提供到所述反应器的所述腔室中,通过借助于所述腔室内的冲击波实现的非研磨作用机制,在所述腔室内对所述固体材料进行处理,所述出口被配置为对离开所述反应器的处理过的固体材料进行快速冷却以减少逆反应的发生;/n气体源,所述气体源被配置为通过所述气体入口将高速气体流引入到所述反应器的所述腔室中,以在所述腔室内实现所述超音速气体涡...

【技术特征摘要】
20140606 US 14/298,8771.一种用于处理固体材料的系统,所述系统包括:
固体材料进料器;
具有腔室、固体材料入口、气体入口和出口的反应器,所述反应器被配置为使用在所述腔室内的超音速气体涡流中产生的冲击波的张力来促进固体进料的化学反应和/或粉碎,所述固体材料进料器被配置为通过所述固体材料入口将固体材料提供到所述反应器的所述腔室中,通过借助于所述腔室内的冲击波实现的非研磨作用机制,在所述腔室内对所述固体材料进行处理,所述出口被配置为对离开所述反应器的处理过的固体材料进行快速冷却以减少逆反应的发生;
气体源,所述气体源被配置为通过所述气体入口将高速气体流引入到所述反应器的所述腔室中,以在所述腔室内实现所述超音速气体涡流;以及
贮存器,所述贮存器被配置为对通过所述反应器的所述出口传送的处理过的材料进行收集。


2.根据权利要求1所述的系统,包括:
加热部件,所述加热部件被配置为向所述反应器的所述腔室提供热量。


3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述固体材料进料器包括固体材料源和通过所述固体材料入口将所述固体材料推送进入到所述腔室中的传送器。


4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述气体源包括:
由热源加热的加热器;和
流体泵,所述流体泵被配置为将流体引入到所述加热器中,其中,所述加热器被配置为提高所述流体的温度和压力,以使得所述流体从所述加热器到所述气体入口的传送有助于形成所述高速气体流。


5.根据权利要求1所述的系统,其中,所述贮存器包括与真空源流体连通的罐,所述真空源被配置为在所述罐内产生真空压力以从所述反应器的出口提取处理过的材料。


6.根据权利要求1所述的系统,其中,所述腔室具有基本上为圆形的横截面,所述横截面以垂直于所述横截面的纵轴线为中心。


7.根据权利要求6所述的系统,其中,所述腔室的一部分的基本上为圆形的横截面的半径在邻近所述出口的所述腔室的端部处持续减小,并且其中所述腔室的基本上为圆形的横截面的所述半径的持续减小被配置为引起气体涡流的旋转速度的加速。


8.根据权利要求1所述的系统,其中,所述反应器的所述气体入口设置和布置为实现在所述腔室内循环的气体流的涡流,所述涡流围绕所述腔室的纵轴线以超音速旋转。


9.根据权利要求8所述的系统,其中,所述气体入口设置为使得所述气体流被引导为基本上垂直于所述腔室的所述纵轴线。


10.根据权利要求1所述的系统,其中,所述气体入口包括设置在所述气体入口内的入...

【专利技术属性】
技术研发人员:P·兰塞尔W·基廷D·罗尔
申请(专利权)人:LLT国际爱尔兰有限公司
类型:发明
国别省市:爱尔兰;IE

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