【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含脲基有机聚硅氧烷、含脲基有机聚硅氧烷的制备方法及化妆品
本专利技术涉及一种新型的含脲基有机聚硅氧烷及其制备方法、以及含有该含脲基有机聚硅氧烷的化妆品、特别是涉及在维持聚硅氧烷的触感的同时，对皮肤或毛发的附着性优异、各效果的持久性良好的化妆品。
技术介绍
有机聚硅氧烷可用于电气、电子、汽车、OA设备、医疗、化妆品、食品、建筑等所有工业领域。在化妆品中，由于其具有轻盈的触感、良好的延展、优异的防水性、及高安全性等特征，因此广泛用于护肤、化妆、头发护理化妆品等。用于化妆品的有机聚硅氧烷主要为二甲基聚硅氧烷，通过对各种有机基团进行改性，可维持硅氧烷的特征，并用于油剂、表面活性剂、增稠剂、成膜剂、粉体的表面处理剂等。另一方面，由于脲对肌肤的亲和性良好且具有保湿功能，因此用于化妆水或保湿霜等，也可用作其他的角质护理成分。已知多种介由脲键(-NHCONH-)将聚硅氧烷键合而成的嵌段型聚合物或这种聚合物在化妆品中的应用。例如，已知有将介由有机聚硅氧烷基团与脲键(-NHCONH-)的结构化聚合物适用于角蛋白物...
【技术保护点】
1.一种下述平均组成式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷：/n[化学式1]/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171016 JP 2017-2004901.一种下述平均组成式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷：
[化学式1]
上述式(1)中，R1为-R5-NHCONH2，其中，R5为碳原子数为2～10的二价烃基，R2相互独立地为氢原子、羟基、碳原子数为1～3的烷氧基、碳原子数为1～30的烷基、碳原子数为1～30的氟烷基、碳原子数为6～30的芳基、及碳原子数为7～30的芳烷基中的任一种，R3为R1或R2，R4为下述平均组成式(2)表示的有机聚硅氧烷链段：
[化学式2]
式(2)中，R1及R2与上述R1及R2相同，Q为氧原子、或碳原子数为1～3的二价烃基，
所述平均组成式(1)及所述通式(2)中，a、f及i相互独立地为0～3，b为0～5000，c为0～500，d为0～100，e为0～100，g为0～5000，h为0～500，其中，所述式(1)表示的含脲基有机聚硅氧烷在分子内具有一个以上的R1，c为0时，a+d+f+h+i...
【专利技术属性】
技术研发人员：龟井正直，广神宗直，安藤裕司，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。