【技术实现步骤摘要】
一种匀光装置及光匀化设备
本技术涉及光匀化
，尤其涉及一种匀光装置及光匀化设备。
技术介绍
在激光加工或焊接中，输出光斑的能量分布直接影响到激光加工或焊接性能，没有进行任何光能量处理的激光器，输出的光斑能量分布满足高斯能量分布，即存在一个最大的峰值，在这最大的能量峰值功率下，激光所加工的元件最先受到作用，在能量峰以下的能量都小于峰值能量，作用在元件的强度都将小于峰值功率，在这种不均匀能量分布的激光作用下，加工元件所加工的切面或焊接不均匀，存在斜切面或焊接应力。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术提供了一种匀光装置及光匀化设备。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：提供了一种匀光装置，包括第一匀光模组和第二匀光模组，第一匀光模组和第二匀光模组均能使射入的光被分为相互垂直的两束偏振光，第二匀光模组位于第一匀光模组的下游，入射光能够依次经过第一匀光模组和第二匀光模组后射出。作为对上述技术方案的改进，匀光模组包括分光装置和调整装置，调整装置位于分光装置的下游，入射光的入射方向...
【技术保护点】
1.一种匀光装置，其特征在于，包括第一匀光模组和第二匀光模组，所述第一匀光模组和所述第二匀光模组均能使射入的光被分为相互垂直的两束偏振光，所述第二匀光模组位于所述第一匀光模组的下游，入射光能够依次经过所述第一匀光模组和第二匀光模组后射出。/n
【技术特征摘要】
1.一种匀光装置，其特征在于，包括第一匀光模组和第二匀光模组，所述第一匀光模组和所述第二匀光模组均能使射入的光被分为相互垂直的两束偏振光，所述第二匀光模组位于所述第一匀光模组的下游，入射光能够依次经过所述第一匀光模组和第二匀光模组后射出。
2.根据权利要求1所述的匀光装置，其特征在于，所述匀光模组包括分光装置和调整装置，所述调整装置位于所述分光装置的下游，所述入射光的入射方向与所述分光装置的光轴的方向呈90°。
3.根据权利要求1所述的匀光装置，其特征在于，所述匀光模组包括分光装置，所述分光装置的光轴的方向与所述入射光的入射方向呈45°。
4.根据权利要求3所述的匀光装置，其特征在于，所述第二匀光模组中的所述分光装置的光轴的方向为，所述第一匀光模组中的所述分光装置的光轴的方向以所述入射光的方向为轴旋转45度。
5.根据权利要求2所述的匀光装置，其特征在于，所述第二匀光模组中的所述分光装...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡江民，龙跃金，郜军红，张峰，
申请(专利权)人：光越科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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