【技术实现步骤摘要】
射频功率放大器堆组、固态烹饪装置和发射器
本专利技术涉及一种射频功率放大器堆组(RFpoweramplifierpallet),本专利技术还涉及一种包括这种堆组的固态烹饪装置和发射器。
技术介绍
目前,射频功率放大器的应用领域是多种多样的。例如,射频功率放大器可以存在于移动通信基站,雷达应用以及固态烹饪装置中。这些放大器具有多种形式。例如,射频功率放大器可以为半导体管芯的形式。在这种情况下,获得半导体管芯的一方或多方需要在获得最终产品之前设计以及实现许多附加的特性。此类特性的示例包括阻抗匹配,功率组合,功率分割,以及将半导体管芯安装在封装内。其内安装有一个或多个半导体管芯的射频功率封装提供了较高级别的集成。如果需要的话,可以在封装本身内部布置一些阻抗匹配,从而为顾客减轻负担。射频功率模块甚至提供了更高级别的集成。这些模块不仅包括射频功率放大器(其采用一个或多个安装的半导体管芯的形式,或者采用一个或多个射频功率封装的形式),而且还提供其他电路,诸如阻抗匹配电路以及信号组合/分割电路中的大部分。通常,射频功率模块包括印刷电路板(PCB),各种功能在印刷电路板上实现。此外,射频功率模块可以包括诸如金属外壳的外壳。射频功率模块还可以包括一个或多个半导体管芯或者射频功率封装。射频功率放大器堆组还提供另一个级别的集成。其中,一个已知的例子如图1A和图1B所示,图1A所示为剖视图,图1B所示为俯视图。这种已知的射频功率放大器堆组100包括第一电介质基板101以及被布置在第一基板101上的第二电介质基板102 ...
【技术保护点】
1.一种射频RF功率放大器堆组(200;300;400),包括:/n第一电介质基板(101);/n第二电介质基板(102),被布置在所述第一电介质层上并且包括第一电介质层(102a)和第二电介质层(102b),所述第二电介质基板包括延伸穿过所述第一电介质层和所述第二电介质层的凹腔(105);/nRF放大单元(1),包括RF功率晶体管并且被布置在所述凹腔内,所述RF放大单元包括输入和输出;/n其特征在于,所述RF功率放大器堆组进一步包括:/n耦合线耦合器(2),包括第一线段(4;140)以及与所述第一线段电磁耦合的第二线段(5;141),其中,所述第一线段的第一端电连接至所述RF放大单元的输出;/n电介质填充波导(3),包括所述第一电介质基板的端部节段、所述第二电介质基板的端部节段、以及覆盖所述第一电介质层和所述第二电介质层的端部节段的多个电连接金属壁段,所述多个壁段被布置为与所述第一线段间隔开并且电连接至所述第二线段的第一端。/n
【技术特征摘要】
20181123 NL 20220621.一种射频RF功率放大器堆组(200;300;400),包括:
第一电介质基板(101);
第二电介质基板(102),被布置在所述第一电介质层上并且包括第一电介质层(102a)和第二电介质层(102b),所述第二电介质基板包括延伸穿过所述第一电介质层和所述第二电介质层的凹腔(105);
RF放大单元(1),包括RF功率晶体管并且被布置在所述凹腔内,所述RF放大单元包括输入和输出;
其特征在于,所述RF功率放大器堆组进一步包括:
耦合线耦合器(2),包括第一线段(4;140)以及与所述第一线段电磁耦合的第二线段(5;141),其中,所述第一线段的第一端电连接至所述RF放大单元的输出;
电介质填充波导(3),包括所述第一电介质基板的端部节段、所述第二电介质基板的端部节段、以及覆盖所述第一电介质层和所述第二电介质层的端部节段的多个电连接金属壁段,所述多个壁段被布置为与所述第一线段间隔开并且电连接至所述第二线段的第一端。
2.根据权利要求1所述的RF功率放大器堆组,其中,所述多个壁段包括覆盖所述第一电介质层的顶面的上壁段(301)、以及覆盖所述第一电介质基板的底面的下壁段(302),其中,所述RF功率放大器堆组进一步包括第一多个通孔(131;501),所述第一多个通孔将所述上壁段连接至所述下壁段,和/或其中,所述RF功率放大器堆组包括一个或多个侧壁段(132;502),所述一个或多个侧壁段覆盖所述第一电介质基板和所述第二电介质基板的侧表面,并且将所述上壁段和所述下壁段电连接。
3.根据权利要求1或2所述的RF功率放大器堆组,其中,所述第一线段的第二端和所述第二线段的第二端电连接至电开路。
4.根据前述权利要求中任一项所述的RF功率放大器堆组,其中,所述耦合器被配置为将所述放大单元的输出处的低输出阻抗转换为更高的阻抗。
5.根据权利要求4所述的RF功率放大器堆组,其中,所述RF功率晶体管的输出端子、所述RF放大单元的输出或者所述第一线段的第一端与所述第一线段的第二端之间的电长度基本等于90度的(2n+1)倍,其中,n为大于或等于0的整数。
6.根据前述权利要求中任一项所述的RF功率放大器堆组,其中,所述第一线段被布置在所述第一电介质层和所述第二电介质层中的一者上,并且其中,所述第二线段被布置在所述第一电介质层和所述第二电介质层中的另一者上。
7.根据权利要求6所述的RF功率放大器堆组,进一步包括:
源焊垫(111;119a)和负载焊垫(111;119b),被布置在所述第一电介质层或者所述第二电介质层上,其中,所述源焊垫电连接至所述RF放大单元的输入端,并且其中所述负载焊垫电连接至所述RF放大单元的输出端和所述第一线段。
8.根据权利要求7所述的RF功率放大器堆组,其中,所述源焊垫和所述负载焊垫(111;119a,119b)被布置在所...
【专利技术属性】
技术研发人员:古塔·文卡塔,艾乌里·沃洛凯恩,
申请(专利权)人:安普林荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:荷兰;NL
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