【技术实现步骤摘要】
晶圆清洗装置及其清洗方法
本公开主张2018/11/23申请的美国临时申请案第62/770,932号及2019/2/6申请的美国正式申请案第16/268,832号的优先权及益处，该美国临时申请案及该美国正式申请案的内容以全文引用的方式并入本文中。本公开关于一种清洗装置及一种清洗方法，特别涉及一种晶圆清洗装置及一种通过将晶圆浸入清洗液中来清洗晶圆的方法。
技术介绍
在半导体制造中，形成各种绝缘材料层、半导体材料层和导电材料层以制造一多层的半导体元件。这些层被图案化以产生元件特征，这些特征在组合时形成例如晶体管、电容器和电阻器的元件。然后将这些元件互连以实现所需的电性功能，从而产生集成电路(IC)元件。常规的制造技术的使用以实现各种元件层的形成和图案化，例如氧化、植入、沉积、外延、光学光刻、蚀刻和平坦化。半导体制造中的一个关键条件是晶圆片处理表面上没有污染物，因为包括例如显微微粒在内的污染物可能干扰后续工艺步骤，并且对其产生不利的影响，因此导致元件退化，最终导致半导体晶圆报废。为了保持晶圆处理表面的清洁并...
【技术保护点】
1.一种晶圆清洗装置，包括：/n一槽罐，包括一底壁、连接到该底壁的一侧壁、可移动地安装在该底壁上方的一分隔壁，该分隔壁将该底壁和该侧壁定义的一清洗空间分成一第一隔室和一第二隔室，其中当该分隔壁远离该底壁移动时，形成与该第一隔室和该第二隔室连通的一通道，并且在一晶圆清洗过程，该通道浸没在该清洗空间的一清洗液中；以及/n一晶圆保持器，适应于浸入该清洗液中并且在该第一隔室和该第二隔室之间移动。/n
【技术特征摘要】
20181123 US 62/770,932;20190206 US 16/268,8321.一种晶圆清洗装置，包括：
一槽罐，包括一底壁、连接到该底壁的一侧壁、可移动地安装在该底壁上方的一分隔壁，该分隔壁将该底壁和该侧壁定义的一清洗空间分成一第一隔室和一第二隔室，其中当该分隔壁远离该底壁移动时，形成与该第一隔室和该第二隔室连通的一通道，并且在一晶圆清洗过程，该通道浸没在该清洗空间的一清洗液中；以及
一晶圆保持器，适应于浸入该清洗液中并且在该第一隔室和该第二隔室之间移动。
2.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，其中该第二隔室与该第一隔室相邻。
3.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，还包括至少一个控制器电耦合到该晶圆保持器和该分隔壁，其中该晶圆保持器因应于该控制器的控制垂直和水平移动，并且该分隔壁因应于该控制器的控制，相对于该底壁移动。
4.如权利要求3所述的晶圆清洗装置，还包括：
一流体供应单元，设置在该槽罐的上方并且电连接到该控制器，其中该流体供应单元经配置以将该清洗液提供给该槽罐；以及
一流体返回单元，设置在该槽罐的上方并且电连接到该控制器，其中该流体返回单元经配置以从该槽罐中排出该清洗液。
5.如权利要求4所述的晶圆清洗装置，还包括至少一个感测器，该感测器设置在该槽罐的上方并且电耦合到该控制器，其中该感测器经配置以检测该清洗液的一污染水平和一液位。
6.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，还包括一搅拌产生器，该搅拌产生器位于该槽罐的外部并且附接到该底壁，其中该搅拌产生器经配置以搅拌该清洗液。
7.如权利要求1所述的晶圆清洗装置，还包括一气体供应器，该气体供应器放置在该清洗空间内并且经配...
【专利技术属性】
技术研发人员：董学儒，蔡奉儒，
申请(专利权)人：南亚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。