图案化过程的优化流程制造技术

一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程用于使用具有照射系统和投影光学装置的光刻投影设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：(1)获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和基于所述模拟模型，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置，和/或(2)获得对由投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化由所述投影光学装置产生的辐射的变形缩小率，和在考虑变形制造规则或变形制造规则比率的情况下，基于所述模拟模型对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。

Optimization process of the patterning process

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案化过程的优化流程相关申请的交叉引用本申请要求于2017年10月11日提交的美国申请62/571,208的优先权，该美国申请通过引用全文并入本文。
本文的描述涉及图案化设备和过程，更具体地涉及一种用于优化图案化过程的方面的方法或工具，所述图案化过程的方面诸如用于在图案化过程的光刻设备或过程中使用的照射模式和/或图案形成装置图案。
技术介绍
光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备能够例如用于诸如集成电路(IC)之类的器件的制造中。在这种情况下，图案形成装置(例如，掩模或掩模版)可以用于产生对应于器件的单层的图案，并且这一图案能够通过诸如经由图案形成装置上的图案辐照具有例如辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层的衬底上(例如硅晶片)的目标部分(例如包括管芯的部分、一个或几个管芯)而被转印到所述目标部分上。一般而言，单个衬底将包括被光刻设备连续地、一次一个目标部分地将图案转印到其上的多个相邻目标部分。在一种类型的光刻设备中，整个图案形成装置上的图案被一次转印到一个目标部分上；这样的设备通常称作为步进器。在一种替代的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程使用包括照射系统和投影光学装置的光刻设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：/n获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和/n基于所述模拟模型并通过硬件计算机，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171011 US 62/571,2081.一种用于改善光刻过程的方法，所述光刻过程使用包括照射系统和投影光学装置的光刻设备将图案形成装置图案的一部分成像至衬底上，所述方法包括：
获得对由所述投影光学装置对辐射的投影进行模型化的模拟模型，其中所述模拟模型模型化所述投影光学装置中的遮蔽的效应；和
基于所述模拟模型并通过硬件计算机，对所述图案形成装置图案的所述部分进行配置。


2.根据权利要求1所述的方法，其中所述模拟模型考虑横跨由所述光刻设备产生的曝光窗口的遮蔽的变化。


3.根据权利要求1所述的方法，其中所述配置还考虑变形制造规则或变形制造规则比率。


4.根据权利要求1所述的方法，其中所述模拟模型模型化由所述投影光学装置赋予辐射的变形缩小率。


5.根据权利要求1所述的方法，其中所述模拟模型还考虑配置所述图案形成装置图案所针对的图案形成装置的形貌。


6.根据权利要求1所述的方法，其中所述模拟模型还考虑配置所述图案形成装置图案所针对的图案形成装置的散焦。


7.根据权利要求1所述的方法，还包括对所述图案形成装置图案进行配置，其中所述图案形成装置图案的所述部分的所有部位处的...

【专利技术属性】
技术研发人员：段福·史蒂芬·苏，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL