用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置、用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置的使用、用以处理真空腔室中载体的设备、及真空沉积系统制造方法及图纸

说明一种用以支撑真空腔室(101)中的载体或部件的支撑装置(100)。支撑装置(100)包括一或多个电性可控制支撑元件(111)；壳体(112)，用以至少部分地容置此一或多个电性可控制支撑元件(111)，壳体具有容置部(113)，用于此一或多个电性可控制支撑元件(111)；密封件(114)，用以提供壳体和布置于容置部(113)中的此一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封；以及气密连接件(115)，用于电性供应线，电性供应线用于此一或多个电性可控制支撑元件(111)。再者，说明一种制造支撑装置的方法、一种用以处理真空腔室中的载体的设备、及一种真空沉积系统。

The use of supporting device for supporting carrier or component in vacuum chamber, supporting device for supporting carrier or component in vacuum chamber, equipment for handling carrier in vacuum chamber, and vacuum deposition system

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置、用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置的使用、用以处理真空腔室中载体的设备、及真空沉积系统
本公开的数个实施方式是有关于数种用以在真空条件下支撑载体或部件的支撑装置，数种制造支撑装置的方法、数种用以处理载体的设备，及数种真空沉积系统。特别是，本公开的数种实施方式有关于数种构造以用于支撑、移动或对准真空腔室中的载体的支撑装置及设备。再者，本公开的数种实施方式特别是有关于数种用以沉积材料于载体所运载的的基板上的真空沉积系统，其中基板在沉积之前相对于掩模对准。支撑装置、用以处理载体的设备、及真空沉积系统的数种实施方式特别构造以在真空条件下使用，举例为用以制造有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，OLED)装置。
技术介绍
用于层沉积于基板上的数种技术举例为包括热蒸发、物理气相沉积(physicalvapordeposition，PVD)、及化学气相沉积(chemicalvapordeposition，CVD)。已涂布的基板可使用于数种应用中及数种
中。举例来本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种支撑装置(100)，用以支撑真空腔室中的载体或部件，所述支撑装置包括：/n一或多个电性可控制支撑元件(111)；/n壳体(112)，用以至少部分地容置所述一或多个电性可控制支撑元件(111)，所述壳体具有容置部(113)，所述容置部用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；/n密封件(114)，用以提供所述壳体和布置于所述容置部(113)中的所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封；以及/n气密连接件(115)，用于电性供应线，所述电性供应线用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种支撑装置(100)，用以支撑真空腔室中的载体或部件，所述支撑装置包括：
一或多个电性可控制支撑元件(111)；
壳体(112)，用以至少部分地容置所述一或多个电性可控制支撑元件(111)，所述壳体具有容置部(113)，所述容置部用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；
密封件(114)，用以提供所述壳体和布置于所述容置部(113)中的所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封；以及
气密连接件(115)，用于电性供应线，所述电性供应线用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)。


2.如权利要求1所述的支撑装置(100)，其中所述一或多个电性可控制元件(111)布置于所述容置部(113)中，使得所述一或多个电性可控制元件(111)的第一侧(111A)面对所述壳体的内部空间(116)，及所述一或多个电性可控制元件(111)的第二侧(111B)面对所述壳体的外部空间(112E)，其中所述内部空间为气密密封。


3.如权利要求1或2所述的支撑装置(100)，其中所述密封件(114)包括片元件(117)，所述片元件具有一或多个容置开口(118)，所述一或多个容置开口(118)用于所述一或多个电性可控制元件(111)，所述片元件(117)通过气密连接件连接于所述壳体。


4.如权利要求3所述的支撑装置(100)，所述气密连接件为焊接接合，尤其为激光焊接接合。


5.如权利要求1至4任一项所述的支撑装置(100)，所述一或多个电性可控制支撑元件(111)包括选自由构造以支撑所述载体或所述部件的磁性固定件，尤其具有电永磁体的磁性固定件，及构造以在至少一个对准方向中移动所述载体的对准装置，尤其压电致动器所组成的群组的至少一个元件。


6.如权利要求1至5任一项所述的支撑装置(100)，所述壳体(112)更包括真空兼容连接件(119)，所述真空兼容连接件用以连接所述支撑装置于用以于真空腔室中处理载体的设备的从动部件，或用以连接所述支撑装置于所述真空腔室中的部件。


7.如权利要求1至6的任一项的用以支撑于真空处理系统中的载体或部件的支撑装置(100)的使用。


8.一种制造支撑装置(100)的方法，所述支撑装置用以支撑真空腔室(101)中的载体或部件，所述方法包括：
提供壳体(112)，所述壳体用以至少部分地容纳一或多个电性可控制支撑元件(111)；
提供具有容置部(113)的所述壳体(112)，所述容置部用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；
提供具有气密连接件(115)的所述壳体(112)，所述气密连接件用于电性供应线，所述电性供应线用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；
放置所述一或多个电性可控制支撑元件(111)至所述容置部(113)中；以及
提供所述壳体和布置于所述容置部(113)中的所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封。


9.如权利要求8所述的方法，其中提供所述壳体(112)和所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的所述气密密封包括焊接片元件(117)于所述壳体(112)，尤其激光焊接片元件(117)...

【专利技术属性】
技术研发人员：马蒂亚斯·赫曼尼斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US