用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置、用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置的使用、用以处理真空腔室中载体的设备、及真空沉积系统制造方法及图纸

说明一种用以支撑真空腔室(101)中的载体或部件的支撑装置(100)。支撑装置(100)包括一或多个电性可控制支撑元件(111)；壳体(112)，用以至少部分地容置此一或多个电性可控制支撑元件(111)，壳体具有容置部(113)，用于此一或多个电性可控制支撑元件(111)；密封件(114)，用以提供壳体和布置于容置部(113)中的此一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封；以及气密连接件(115)，用于电性供应线，电性供应线用于此一或多个电性可控制支撑元件(111)。再者，说明一种制造支撑装置的方法、一种用以处理真空腔室中的载体的设备、及一种真空沉积系统。

The use of supporting device for supporting carrier or component in vacuum chamber, supporting device for supporting carrier or component in vacuum chamber, equipment for handling carrier in vacuum chamber, and vacuum deposition system

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置、用以支撑真空腔室中载体或部件的支撑装置的使用、用以处理真空腔室中载体的设备、及真空沉积系统
本公开的数个实施方式是有关于数种用以在真空条件下支撑载体或部件的支撑装置，数种制造支撑装置的方法、数种用以处理载体的设备，及数种真空沉积系统。特别是，本公开的数种实施方式有关于数种构造以用于支撑、移动或对准真空腔室中的载体的支撑装置及设备。再者，本公开的数种实施方式特别是有关于数种用以沉积材料于载体所运载的的基板上的真空沉积系统，其中基板在沉积之前相对于掩模对准。支撑装置、用以处理载体的设备、及真空沉积系统的数种实施方式特别构造以在真空条件下使用，举例为用以制造有机发光二极管(organiclight-emittingdiode，OLED)装置。
技术介绍
用于层沉积于基板上的数种技术举例为包括热蒸发、物理气相沉积(physicalvapordeposition，PVD)、及化学气相沉积(chemicalvapordeposition，CVD)。已涂布的基板可使用于数种应用中及数种
中。举例来说，已涂布的基板可使用于有机发光二极管(organiclightemittingdiode，OLED)装置的领域中。OLEDs可使用于制造电视屏幕、计算机屏幕、移动电话、其他手持装置、及举例为用以显示信息的类似物。OLED装置例如是OLED显示器，可包括一或多个有机材料层。此一或多个有机材料层位于沉积于基板上的两个电极之间。在沉积涂布材料于基板上期间，基板可由基板载体支撑，及掩模可由掩模载体支撑于基板的前方。对应于掩模的开口图案的材料图案可举例为通过材料蒸发来沉积于基板上。此材料图案举例为多个像素。OLED装置的功能一般取决于应在预定范围中的涂布图案的准确性及有机材料的厚度。为了取得高分辨率的OLED装置来说，有关于已蒸发材料的沉积的技术挑战必须掌握。特别是，准确及平顺传送运载基板的基板载体及/或运载掩模的掩模载体通过真空腔室具有挑战性。再者，举例为用以制造高分辨率OLED装置来说，在真空条件下，相对于掩模载体准确的处理基板载体为达成高质量沉积结果的关键。因此，对于用以在真空条件下支撑载体或部件的改善的支撑装置，制造适用于真空使用的支撑装置的改善的方法，用以处理于真空环境中的载体的改善的设备，及改善的真空沉积系统有持续的需求。
技术实现思路
有鉴于上述，根据独立独立权利要求提出一种用以支撑真空腔室中的载体或部件的支撑装置，以及一种制造用以支撑真空腔室中的载体的支撑装置的方法。此外，提出一种用以处理真空腔室中的载体的设备，此设备包括根据此处所述的数个实施方式的支撑装置。再者，提出一种真空沉积系统，此真空沉积系统包括根据此处所述的数个实施方式的一种用以处理载体的设备。其他方面、优点、及特征通过从属权利要求、说明、及附图更为清楚。根据本公开的一方面，提出一种用以支撑真空腔室中的载体或部件的支撑装置。支撑装置包括一或多个电性可控制支撑元件；以及壳体，用以至少部分地容置此一或多个电性可控制支撑元件。壳体具有容置部，用于此一或多个电性可控制支撑元件。此外，支撑装置包括密封件，用以提供壳体和布置于容置部中的此一或多个电性可控制支撑元件之间的气密密封。再者，支撑装置包括气密连接件，用于电性供应线，电性供应线用于此一或多个电性可控制支撑元件。根据本公开的其他方面，提出根据此处所述任何其他实施方式所述的用以支撑真空处理系统中的载体或部件的支撑装置的使用。根据本公开的另一方面，提出一种制造支撑装置的方法，支撑装置用以支撑真空腔室中的载体。方法包括提供壳体，壳体用以至少部分地容纳一或多个电性可控制支撑元件；提供具有容置部的壳体，容置部用于此一或多个电性可控制支撑元件；提供具有气密连接件的壳体，气密连接件用于此一或多个电性可控制支撑元件的电性供应线；放置此一或多个电性可控制支撑元件至容置部中；以及提供壳体和布置于容置部中的此一或多个电性可控制支撑元件之间的气密密封。根据本公开的其他方面，提出一种用以处理真空腔室中的载体的设备。设备包括真空腔室，具有壁，壁具有开口。此外，设备包括第一驱动单元，布置于真空腔室的外侧及构造以移动第一从动部件，第一从动部件延伸通过开口至真空腔室中。再者，设备包括第一支撑装置，贴附于真空腔室中的第一从动部件，第一从动部件提供第一供应通道，第一供应通道用以供应电力及/或控制信号给第一支撑装置。第一支撑装置为根据此处所述任何实施方式的支撑装置。根据本公开的再其他方面，提出一种真空沉积系统。真空沉积系统包括根据此处所述任何实施方式的设备，此设备用以处理真空腔室中的载体。再者，真空沉积系统包括沉积源，设置于真空腔室中的沉积区域中。用以处理真空腔室中的载体的设备的第一支撑装置构造以用于支撑或移动沉积区域中的载体。数个实施方式亦有关于用以执行所公开的方法的设备，且包括用以执行所述的方法方面的设备部件。此些方法方面可通过硬件部件、由合适软件程序化的计算机、两者的任何结合或任何其他方式执行。再者，根据本公开的数个实施方式亦有关于用以操作所述的设备的方法。用以操作所述的设备的此些方法包括数个方法方面，用以执行设备的各功能。附图说明为了使本公开的上述特征可详细地理解，简要摘录于上的更特有的说明可参照数个实施方式。附图有关于本公开的数个实施方式及说明于下文中：图1绘示根据此处所述数个实施方式的支撑装置的示意透视图；图2绘示根据此处所述数个实施方式的支撑装置的示意侧视图；图3绘示根据此处所述其他实施方式的支撑装置的示意透视图；图4绘示根据此处所述数个实施方式的用以处理载体的设备的示意剖面图；图5绘示根据此处所述其他实施方式的用以处理载体的设备的示意剖面图；图6绘示根据此处所述数个实施方式的真空沉积系统的示意剖面图，真空沉积系统包括位于第一位置中的用以处理载体的设备；图7A绘示在第二位置中的图6的用以处理载体的设备的示意图；图7B绘示在第三位置中的图6的用以处理载体的设备的示意图；图8绘示根据此处所述数个实施方式的用以处理载体的设备的示意剖面图；图9绘示图8的用以处理载体的设备的剖视图；图10绘示图8的用以处理载体的设备的透视图；以及图11绘示根据此处所述数个实施方式的制造支撑装置的方法的流程图，支撑装置用以支撑于真空腔室中的载体。具体实施方式参照现在将详细地以本公开的数种实施方式达成，本公开的数种实施方式的一或多个例子绘示于图式中。在图的下方说明中，相同的参考编号意指相同的部件。仅有有关于单独实施方式的相异处进行说明。各例子通过说明本公开的方式提供且不意味为本公开的限制。再者，所说明或叙述而作为一个实施方式的部分的特征可用于其他实施方式或与其他实施方式结合，以取得再其他实施方式。此意指本说明包括此些调整及变化。示例性参照图1至图3，根据本公开的用以支撑在真空腔室中的载体或部件的支撑装置100进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种支撑装置(100)，用以支撑真空腔室中的载体或部件，所述支撑装置包括：/n一或多个电性可控制支撑元件(111)；/n壳体(112)，用以至少部分地容置所述一或多个电性可控制支撑元件(111)，所述壳体具有容置部(113)，所述容置部用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；/n密封件(114)，用以提供所述壳体和布置于所述容置部(113)中的所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封；以及/n气密连接件(115)，用于电性供应线，所述电性供应线用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种支撑装置(100)，用以支撑真空腔室中的载体或部件，所述支撑装置包括：
一或多个电性可控制支撑元件(111)；
壳体(112)，用以至少部分地容置所述一或多个电性可控制支撑元件(111)，所述壳体具有容置部(113)，所述容置部用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；
密封件(114)，用以提供所述壳体和布置于所述容置部(113)中的所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封；以及
气密连接件(115)，用于电性供应线，所述电性供应线用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)。


2.如权利要求1所述的支撑装置(100)，其中所述一或多个电性可控制元件(111)布置于所述容置部(113)中，使得所述一或多个电性可控制元件(111)的第一侧(111A)面对所述壳体的内部空间(116)，及所述一或多个电性可控制元件(111)的第二侧(111B)面对所述壳体的外部空间(112E)，其中所述内部空间为气密密封。


3.如权利要求1或2所述的支撑装置(100)，其中所述密封件(114)包括片元件(117)，所述片元件具有一或多个容置开口(118)，所述一或多个容置开口(118)用于所述一或多个电性可控制元件(111)，所述片元件(117)通过气密连接件连接于所述壳体。


4.如权利要求3所述的支撑装置(100)，所述气密连接件为焊接接合，尤其为激光焊接接合。


5.如权利要求1至4任一项所述的支撑装置(100)，所述一或多个电性可控制支撑元件(111)包括选自由构造以支撑所述载体或所述部件的磁性固定件，尤其具有电永磁体的磁性固定件，及构造以在至少一个对准方向中移动所述载体的对准装置，尤其压电致动器所组成的群组的至少一个元件。


6.如权利要求1至5任一项所述的支撑装置(100)，所述壳体(112)更包括真空兼容连接件(119)，所述真空兼容连接件用以连接所述支撑装置于用以于真空腔室中处理载体的设备的从动部件，或用以连接所述支撑装置于所述真空腔室中的部件。


7.如权利要求1至6的任一项的用以支撑于真空处理系统中的载体或部件的支撑装置(100)的使用。


8.一种制造支撑装置(100)的方法，所述支撑装置用以支撑真空腔室(101)中的载体或部件，所述方法包括：
提供壳体(112)，所述壳体用以至少部分地容纳一或多个电性可控制支撑元件(111)；
提供具有容置部(113)的所述壳体(112)，所述容置部用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；
提供具有气密连接件(115)的所述壳体(112)，所述气密连接件用于电性供应线，所述电性供应线用于所述一或多个电性可控制支撑元件(111)；
放置所述一或多个电性可控制支撑元件(111)至所述容置部(113)中；以及
提供所述壳体和布置于所述容置部(113)中的所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的气密密封。


9.如权利要求8所述的方法，其中提供所述壳体(112)和所述一或多个电性可控制支撑元件(111)之间的所述气密密封包括焊接片元件(117)于所述壳体(112)，尤其激光焊接片元件(117)...

【专利技术属性】
技术研发人员：马蒂亚斯·赫曼尼斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国;US