含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

本发明专利技术提供可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性的润滑层，适合作为磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物。式(1)所示的含氟醚化合物。R

Fluoroethers, lubricants for magnetic recording media and magnetic recording media

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质
本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。本申请基于2017年10月31日在日本申请的特愿2017-210678号来主张优先权，将其内容援用到本文中。
技术介绍
为了使磁记录再生装置的记录密度提高，适于高记录密度的磁记录介质的开发进展。以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成了碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅在记录层上设置保护层，不能充分地获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。作为在形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，提出了例如，含有具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～2)。例如，在专利文献1中公开了末端具有杂环的全氟聚醚衍生物。此外，在专利文献2中公开了氟烷基与烯基被具有极性基的亚烷基连接了的含氟化合物。现有技术文献r>专利文献本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，/nR

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 JP 2017-2106781.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，
R1-R2-CH2-R3-CH2-R4-R5(1)
在式(1)中，R3为全氟聚醚链；R1为与R2结合的末端基，R5为与R4结合的末端基；R1为烯基或炔基，R5为包含杂环的基团；R2由下述式(2)表示，R4由下述式(3)表示；式(2)中的a和式(3)中的b各自独立地为整数1～3，





2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为碳原子数2～8的烯基或碳原子数3～8的炔基。


3.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为选自烯丙基、丁烯基、戊烯基、炔丙基中的任一者。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R5为选自包含噻吩环的基团、包含噻唑环的基团、包含吡唑环的基团中的任一者。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤刚，柳生大辅，福本直也，山口裕太，栗谷真澄，室伏克己，南口晋毅，富田浩幸，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP