含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

本发明专利技术提供可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性的润滑层，适合作为磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物。式(1)所示的含氟醚化合物。R

Fluoroethers, lubricants for magnetic recording media and magnetic recording media

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质
本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含该含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂以及磁记录介质。本申请基于2017年10月31日在日本申请的特愿2017-210678号来主张优先权，将其内容援用到本文中。
技术介绍
为了使磁记录再生装置的记录密度提高，适于高记录密度的磁记录介质的开发进展。以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层，在记录层上形成了碳等保护层的磁记录介质。保护层保护记录于记录层的信息，并且提高磁头的滑动性。然而，仅在记录层上设置保护层，不能充分地获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。作为在形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，提出了例如，含有具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的润滑剂(例如，参照专利文献1～2)。例如，在专利文献1中公开了末端具有杂环的全氟聚醚衍生物。此外，在专利文献2中公开了氟烷基与烯基被具有极性基的亚烷基连接了的含氟化合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-33253号公报专利文献2：日本专利第2866622号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题在磁记录再生装置中，要求使磁头的上浮量更加小。因此，要求使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。然而，一般而言如果使润滑层的厚度薄，则有润滑层的被覆性降低，磁记录介质的耐磨损性降低的倾向。本专利技术是鉴于上述情况而提出的，其课题是提供可以形成即使厚度薄也具有优异的耐磨损性的润滑层，可以适合用作磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物。此外，本专利技术的课题是提供包含本专利技术的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂。此外，本专利技术的课题是提供具有包含本专利技术的含氟醚化合物的润滑层的具有优异的可靠性和耐久性的磁记录介质。用于解决课题的手段本专利技术人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。其结果发现，只要制成在全氟聚醚链与分子的第1末端基之间、全氟聚醚链与第2末端基之间分别配置具有特定结构的连接基，该具有特定结构的连接基为将醚键(-O-)与亚甲基(-CH2-)与1个氢原子被羟基取代了的亚甲基(-CH(OH)-)组合了的连接基，且第1末端基为烯基或炔基，第2末端基为包含杂环的基团的含氟醚化合物即可，从而想到了本专利技术。即，本专利技术涉及以下事项。[1]一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示。R1-R2-CH2-R3-CH2-R4-R5(1)(在式(1)中，R3为全氟聚醚链。R1为与R2结合的末端基，R5为与R4结合的末端基。R1为烯基或炔基，R5为包含杂环的基团。R2由下述式(2)表示，R4由下述式(3)表示。式(2)中的a和式(3)中的b各自独立地为整数1～3。)[2]根据[1]所述的含氟醚化合物，上述式(1)中的R1为碳原子数2～8的烯基或碳原子数3～8的炔基。[3]根据[1]所述的含氟醚化合物，上述式(1)中的R1为选自烯丙基、丁烯基、戊烯基、炔丙基中的任一者。[4]根据[1]～[3]中任一项所述的含氟醚化合物，上述式(1)中的R5为选自包含噻吩环的基团、包含噻唑环的基团、包含吡唑环的基团中的任一者。[5]根据[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物，上述式(1)中的R3为下述式(4)～(6)中的任一者。-CF2O-(CF2CF2O)m-(CF2O)n-CF2-(4)(式(4)中的(4)m、n表示平均聚合度，分别表示0～30。其中，m或n为0.1以上。)-CF(CF3)-(OCF(CF3)CF2)y-OCF(CF3)-(5)(式(5)中的y表示平均聚合度，表示0.1～30。)-CF2CF2O-(CF2CF2CF2O)z-CF2CF2-(6)(式(6)中的z表示平均聚合度，表示0.1～30。)[6]根据[1]～[5]中任一项所述的含氟醚化合物，其数均分子量在500～10000的范围内。[7]一种磁记录介质用润滑剂，其特征在于，包含[1]～[6]中任一项所述的含氟醚化合物。[8]一种磁记录介质，其特征在于，是在基板上至少依次设置有磁性层、保护层和润滑层的磁记录介质，上述润滑层包含[1]～[6]中任一项所述的含氟醚化合物。[9]根据[8]所述的磁记录介质，上述润滑层的平均膜厚为0.5nm～2nm。专利技术的效果本专利技术的含氟醚化合物适合作为磁记录介质用润滑剂的材料。本专利技术的磁记录介质用润滑剂由于包含本专利技术的含氟醚化合物，因此可以形成即使厚度薄也可获得优异的耐磨损性的润滑层。本专利技术的磁记录介质由于设置有具有优异的耐磨损性的润滑层，因此具有优异的可靠性和耐久性。附图说明图1是显示本专利技术的磁记录介质的一实施方式的概略截面图。具体实施方式以下，对本专利技术的含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂(以下，有时简写为“润滑剂”。)和磁记录介质进行详细地说明。需要说明的是，本专利技术不仅仅限定于以下所示的实施方式。[含氟醚化合物]本实施方式的含氟醚化合物由下述式(1)表示。R1-R2-CH2-R3-CH2-R4-R5(1)(在式(1)中，R3为全氟聚醚链。R1为与R2结合的末端基，R5为与R4结合的末端基。R1为烯基或炔基，R5为包含杂环的基团。R2由下述式(2)表示，R4由下述式(3)表示。式(2)中的a和式(3)中的b各自独立地为整数1～3。)这里，对在使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂，在磁记录介质的保护层上形成了润滑层的情况下，即使厚度薄，也可获得优异的耐磨损性的理由进行说明。如式(1)所示，本实施方式的含氟醚化合物具有R3所示的全氟聚醚链(以下有时简写为“PFPE链”。)。PFPE链在包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中，被覆保护层的表面，并且向润滑层赋予润滑性而使磁头与保护层的摩擦力降低。此外，式(1)所示的含氟醚化合物为两末端基(R1、R5)分别不同的不对称的化合物。具体而言，分子的第1末端基(R1)为烯基或炔基，第2末端基(R5)为包含杂环的基团。因此，式(1)所示的含氟醚化合物通过两末端分别结合的具有不同功能的末端基(R1、R5)的协同效果，从而与两末端结合有相同末端基的化合物相比，可获得优异的耐磨损性。此外，在式(1)所示的含氟醚化合物中，R2由上述式(2)表示，R4由上述式(3)表示。因此，式(1)所示的含氟醚化合物在R2和R4中分别包含1个以上羟基。R2和R4所包含的羟基在包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中，使含氟醚化合物与保护层密合，使耐磨损性提高。因此推定，包含上述含氟醚化合物的润滑剂可以形成即使使厚度薄，也具有优异的耐磨损性的润滑层。此外，推定包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑层中，含氟醚化合物内的相互作用(例如氢键本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，/nR

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171031 JP 2017-2106781.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，
R1-R2-CH2-R3-CH2-R4-R5(1)
在式(1)中，R3为全氟聚醚链；R1为与R2结合的末端基，R5为与R4结合的末端基；R1为烯基或炔基，R5为包含杂环的基团；R2由下述式(2)表示，R4由下述式(3)表示；式(2)中的a和式(3)中的b各自独立地为整数1～3，





2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为碳原子数2～8的烯基或碳原子数3～8的炔基。


3.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R1为选自烯丙基、丁烯基、戊烯基、炔丙基中的任一者。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1)中的R5为选自包含噻吩环的基团、包含噻唑环的基团、包含吡唑环的基团中的任一者。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的含氟醚化合物，所述式(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤刚，柳生大辅，福本直也，山口裕太，栗谷真澄，室伏克己，南口晋毅，富田浩幸，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP