一种具有检测功能的衍射光学镜片及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种具有检测功能的衍射光学镜片及其制作方法，包括：石英薄片，其被设置的接收来自外部设备的光束，所述石英薄片具有上表面以及与所述上表面相对设置的下表面，所述上表面具有衍射光栅，所述下表面具有若干凹槽；金属电阻，其被设置的检测所述石英薄片的电导率，所述金属电阻嵌入所述凹槽内；所述外部光束自所述衍射光栅的一侧穿透所述石英薄片照射在被识别物体上，当所述石英薄片破损时，石英薄片的电导率发生变化，所述金属电阻根据检测到的电导率变化控制外部设备停止发射光束。本发明专利技术可以监测石英材质的衍射光学镜片是否破损可有效保证人眼安全。

【技术实现步骤摘要】
一种具有检测功能的衍射光学镜片及其制作方法
本专利技术涉及光学元件
，尤其涉及一种具有检测功能的衍射光学镜片及其制作方法。
技术介绍
目前，人脸识别技术主要采用3D结构光方案，该方案的主要工作原理是通过红外投射装置向被识别物体1投射出经过编码或者随机的红外散斑或光点，这些编码或散斑图像照射在被识别物体1上再经过被识别物体1的反射，进入红外摄像机2，红外摄像机2接收到图像后，将图像信息转换成深度信息，实现3D视觉重建。而红外投射装置在投射出经过编码或者随机的红外散斑或光点时，光源3需要先经过准直系统4的调整，再经过安装在红外投射光源3前部的衍射光学元件(DOE)5的衍射后才照射在被识别物体1上，如图1结构光设备原理示意图所示。在3D结构光方案中，必须采用特定图形的光学图案实现深度信息的测量，通过DOE镜片将激光的高斯光束整形为平顶光束输出，从而获得比较理想的输出光斑和能量密度，得到一定光斑范围内的一致能量输出。其中，衍射光学元件(DOE)5是实现激光散斑的关键。DOE一般使用石英材料制成(石英是各类光学元件普遍使用的材料)，基于光的衍射原理，利用计算机辅助设计，通过半导体芯片制造工艺，在石英基片上刻蚀产生台阶型光栅结构，形成同轴再现、且具有极高衍射效率的一类光学元件，如图2衍射光学元件(DOE)的三维立体放大图所示。其通过不同的设计来控制光束的发散角和形成光斑的形貌，可以将光束整形成为特定图案。在人脸识别系统内部，由于空间结构紧凑，各模组之间热应力分布不均匀以及安装和使用过程中的碰撞，很容易造成石英DOE镜片表面破损，而石英表面的损伤形貌可以引起0级光强度增大，影响光学系统的各项性能指标和稳定运行，限制了人脸识别的精度；更严重的是，会给人眼的安全问题埋下隐患，试想一下，若因其损坏而造成光束光强度增强，其又直接照射人眼，这就会给人眼带来永久性损伤，如图3流程框图所示。因此，亟需提出一种新的技术方案来解决这一问题，使得激光源在工作时可以监测DOE镜片表面的完整情况。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决现有技术中存在的问题，提供一种具有检测功能的衍射光学镜片，其采用的技术方案是：一种具有检测功能的衍射光学镜片，包括：石英薄片，其被设置的接收来自外部设备的光束，所述石英薄片具有上表面以及与所述上表面相对设置的下表面，所述上表面具有衍射光栅，所述下表面具有若干凹槽；金属电阻，其被设置的检测所述石英薄片的电导率，所述金属电阻嵌入所述凹槽内；所述外部光束自所述衍射光栅的一侧穿透所述石英薄片照射在被识别物体上，当所述石英薄片破损时，石英薄片的电导率发生变化，所述金属电阻根据检测到的电导率变化控制外部设备停止发射光束。进一步，所述若干凹槽在所述石英薄片的下表面呈点状分布，进一步，所述下表面上与所述衍射光栅相对应的位置为透光区域，所述透光区域无所述凹槽；进一步，所述凹槽远离所述透光区域，且所述凹槽靠近所述石英薄片的边缘。进一步，所述凹槽集中分布在所述石英薄片的四周。进一步，所述若干凹槽在所述石英薄片的下表面呈阵列分布，所述阵列分布包括网格分布，所述网格包括多边形网格，所述凹槽与所述多边形网格的边一一对应设置。进一步，所述金属电阻与所述凹槽一一对应，所述金属电阻的形状与所述凹槽的形状一致；进一步，所述金属电阻在所述石英薄片的下表面形成连续的金属电阻网络回路。进一步，所述金属电阻包括纳米银和石墨烯；进一步，所述纳米银和石墨烯通过印旋涂和/或喷涂的方式填充在所述凹槽内形成所述金属电阻。进一步，所述凹槽的形状包括圆形、椭圆形、矩形、三角形和贝壳形。本专利技术还提供一种具有检测功能的衍射光学镜片的制作方法，包括如下步骤：S1：清洗带有完整衍射光栅的石英薄片，在所述石英薄片刻有衍射光栅的一面的相对面进行光刻显影处理，在所述石英薄片上对若干凹槽进行预定位；S2：按照步骤S1在所述石英薄片上获得的预定位，对石英薄片进行刻蚀，在所述石英薄片上表面制得若干凹槽；S3：在步骤S2制得的若干凹槽内涂覆银浆，对所述银浆进行预固化，获得初步成型的金属电阻；S4：对步骤S3获得的初步成型的金属电阻进行去胶处理，形成初步成型的金属电阻网络回路，对所述金属电阻网络回路进行固化处理，获得成型金属电阻网络回路。进一步的，对于步骤S3，所述涂覆银浆包括喷涂和旋涂。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1.本专利技术所述的具有检测功能的衍射光学镜片，当石英材质的DOE镜片发生破损时，凹槽处首先开裂释放应力，电阻网络中的行电阻与列电阻发生电导率变化，该处的电阻变化被激光控制器捕获到后，所述激光控制器发出控制信号关闭激光光源，防止激光束透过镜片开裂区域直接投射伤害人眼；2.本专利技术所述的衍射光学镜片，在石英薄片背面远离光栅区的镜片边缘处刻蚀石英基底，制备网络状的凹槽结构，实现一定的应力集中效果，凹槽结构中填充纳米银、石墨烯等导电材料形成电阻网络，形成了一个电导率检测回路；3.本专利技术所述的纳米银、石墨烯等导电材料易于获得，制作成本低，且电阻网络加工工艺简单，易于表面涂覆，可采取喷涂、刮涂等加工法，进一步降低成本；4.本专利技术所述的具有检测功能的衍射光学镜片的结构原理简单明确，且金属电阻网络密集，检测精度高，有针对性，可以精准定位破损位置，为后续结构设计改进提供检测依据；5.本专利技术所述的金属互连位于凹槽处，不易被意外刮破损，造成虚警。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。图1是
技术介绍
中结构光设备原理示意图；图2是
技术介绍
所述衍射光学元件(DOE)的三维立体放大图；图3是
技术介绍
所述衍射光学元件(DOE)损坏后带来不利影响的流程框图；图4是本专利技术提出的衍射光学镜片在应用场合下的功能原理图；图5是本专利技术提出的衍射光学镜片在应用时与激光器连接的示意图；图6是本专利技术提出的衍射光学镜片的结构示意图，其中，(a)为以石英薄片的下表面为主视的结构示意图，(b)为(a)中金属电阻网络的单元组成图；图7是在图6的横截面示意图；图8是本专利技术提出的衍射光学镜片的制作方法的工艺流程图。其中，1-被识别物体，2-红外摄像机，3-光源，4-准直系统，5-衍射光学元件(DOE)，6-激光器，7-石英薄片,71-上表面，711-衍射光栅，72-下表面，721-透光区域，8-金属电阻。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例的附图，对本专利技术实施例的技术方案进行清查、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有检测功能的衍射光学镜片，其特征在于，包括：/n石英薄片(7)，其被设置的接收来自外部设备的光束，所述石英薄片(7)具有上表面(71)以及与所述上表面(71)相对设置的下表面(72)，所述上表面(71)具有衍射光栅(711)，所述下表面(72)具有若干凹槽；/n金属电阻(8)，其被设置的检测所述石英薄片(7)的电导率，所述金属电阻(8)嵌入所述凹槽内；/n所述外部光束自所述衍射光栅(711)的一侧穿透所述石英薄片(7)照射在被识别物体(1)上，当所述石英薄片(7)破损时，石英薄片(7)的电导率发生变化，所述金属电阻(8)根据检测到的电导率变化控制外部设备停止发射光束。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有检测功能的衍射光学镜片，其特征在于，包括：
石英薄片(7)，其被设置的接收来自外部设备的光束，所述石英薄片(7)具有上表面(71)以及与所述上表面(71)相对设置的下表面(72)，所述上表面(71)具有衍射光栅(711)，所述下表面(72)具有若干凹槽；
金属电阻(8)，其被设置的检测所述石英薄片(7)的电导率，所述金属电阻(8)嵌入所述凹槽内；
所述外部光束自所述衍射光栅(711)的一侧穿透所述石英薄片(7)照射在被识别物体(1)上，当所述石英薄片(7)破损时，石英薄片(7)的电导率发生变化，所述金属电阻(8)根据检测到的电导率变化控制外部设备停止发射光束。


2.根据权利要求1所述的衍射光学镜片，其特征在于，所述若干凹槽在所述石英薄片(7)的下表面(72)呈点状分布，
所述下表面(72)上与所述衍射光栅(711)相对应的位置为透光区域(721)，所述透光区域(721)无所述凹槽；
所述凹槽远离所述透光区域(721)，且所述凹槽靠近所述石英薄片(7)的边缘。


3.根据权利要求2所述的衍射光学镜片，其特征在于，所述凹槽集中分布在所述石英薄片(7)的四周。


4.根据权利要求1所述的衍射光学镜片，其特征在于，所述若干凹槽在所述石英薄片(7)的下表面呈阵列分布，所述阵列分布包括网格分布，所述网格包括多边形网格，所述凹槽与所述多边形网格的边一一对应设置。


5.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王敏锐，孙旭，
申请(专利权)人：苏州中为联创微纳制造创新中心有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32