一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，将氧化石墨烯水溶液与三(2‑羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合，混合溶液在一定温度下进行还原反应，得到还原氧化石墨烯。本发明专利技术制备方法所用的还原剂三(2‑羧乙基)膦盐酸盐无味、无毒，氧化产物可经过水洗去除，还原效率高，整个还原反应在水相环境中进行，不使用任何有机溶剂，是一种高效、经济、环保的制备方法，且所制备的还原氧化石墨烯不会被引入杂原子，具有高的碳/氧原子比，导电率最高可达2800S/m。

Preparation of graphene oxide with high C / O ratio and no impurity reduction

【技术实现步骤摘要】
一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法
本专利技术属于氧化石墨烯的还原
，具体涉及一种高碳/氧原子比无杂质还原氧化石墨烯的制备方法。
技术介绍
石墨烯具有优异的力学性能，超高的导热和导电性能，高的载流子迁移率以及超大的比表面积等优点，被广泛应用于材料学、微纳加工、能源和生物医学等领域。目前，氧化-还原法被认为是适宜大规模、低成本制备石墨烯的有效方法。常见的氧化-还原法有以下三种：高温热还原法、溶剂热还原法以及化学试剂还原法(Zhu,Y.etal.Adv.Mater.2010,22,3906)。高温热还原法通常需要在1000℃以上高温和惰性或还原气氛中进行，成本及工艺要求都很高，不利于规模化生产；溶剂热还原法是通过加热回流，使分散于有机溶剂中的氧化石墨烯还原的方法，由于使用了大量的有机溶剂，对反应装置要求高，且易对环境造成污染；化学试剂还原法可在100℃以下进行反应，相对于其他两种方法在操作以及安全性方面具有明显的优势，但是常用的还原剂依然存在有毒不环保及还原效率较低的问题。例如硼氢化钠与氧化石墨烯反应剧烈，会产生大量气泡，且还原本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，其特征在于：将氧化石墨烯水溶液与三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合均匀，所得混合液在密闭条件下25～100℃进行还原反应，反应后的混合物经微孔滤膜过滤、水洗，收集滤饼，烘干，得到高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯。/n

【技术特征摘要】
1.一种高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，其特征在于：将氧化石墨烯水溶液与三(2-羧乙基)膦盐酸盐水溶液混合均匀，所得混合液在密闭条件下25～100℃进行还原反应，反应后的混合物经微孔滤膜过滤、水洗，收集滤饼，烘干，得到高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯。


2.根据权利要求1所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，其特征在于：所得混合液中氧化石墨烯与三(2-羧乙基)膦盐酸盐的质量比为1:1～1:50。


3.根据权利要求2所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，其特征在于：所得混合液中氧化石墨烯与三(2-羧乙基)膦盐酸盐的质量比为1:3～1:20。


4.根据权利要求1～3任意一项所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，其特征在于：所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的浓度为0.1～10mg/mL。


5.根据权利要求4所述的高碳/氧原子比无杂质的还原氧化石墨烯的制备方法，其特征在于：所述氧化石墨烯水溶液中氧化石墨烯的浓度为0.5～5...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨鹏，赵健，李倩，苗变梁，皮和木，
申请(专利权)人：陕西师范大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61