【技术实现步骤摘要】
一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机
本技术涉及蚀刻设备
,具体为一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机。
技术介绍
蚀刻机是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻目的设备,目前蚀刻机的种类较多,其中有专门针对半导体进行蚀刻的半导体钛钨蚀刻机,但是一般的半导体钛钨蚀刻机上未设有废气收集处理装置,在某些情况下,进行蚀刻时会产生一定的有害气体,危害人的健康。鉴于此,我们提出一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,以解决上述
技术介绍
中提出的一般的半导体钛钨蚀刻机上未设有废气收集处理装置,在某些情况下,进行蚀刻时会产生一定的有害气体,进而会危害人的健康的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,包括装置主体,所述装置主体上设有废气收集处理装置,所述废气收集处理装置包括设置在所述装置主体上的第一出气管,所述第一出气管的其中一末端穿过所述装置主体的外壳并与所述装置主体内部的空腔相连通,所述第一出气管的另外一末端设有保护套筒,所述保护套筒内设有驱动电机,所述驱动电机的输出轴末端紧密焊接有若干个呈环状等间距排列的风扇叶片,所述保护套筒上设有底座,所述底座上设有第二出气管,所述第一出气管与所述第二出气管相连通,所述第二出气管上设有废气处理筒,所述废气处理筒内设有储液空腔,所述第二出气管与所述储液空腔相连通,所述废气处理筒上还设有与所述储液空腔相连通的排气管,所述排气管的末端管体的管壁上紧密 ...
【技术保护点】
1.一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,包括装置主体(1),其特征在于:所述装置主体(1)上设有废气收集处理装置(2),所述废气收集处理装置(2)包括设置在所述装置主体(1)上的第一出气管(20),所述第一出气管(20)的其中一末端穿过所述装置主体(1)的外壳并与所述装置主体(1)内部的空腔相连通,所述第一出气管(20)的另外一末端设有保护套筒(21),所述保护套筒(21)内设有驱动电机(22),所述驱动电机(22)的输出轴末端紧密焊接有若干个呈环状等间距排列的风扇叶片(221),所述保护套筒(21)上设有底座(23),所述底座(23)上设有第二出气管(24),所述第一出气管(20)与所述第二出气管(24)相连通,所述第二出气管(24)上设有废气处理筒(25),所述废气处理筒(25)内设有储液空腔(251),所述第二出气管(24)与所述储液空腔(251)相连通,所述废气处理筒(25)上还设有与所述储液空腔(251)相连通的排气管(26),所述排气管(26)的末端管体的管壁上紧密粘接有细滤网(27),所述排气管(26)的末端管体的管壁上还紧密粘接有活性炭吸附网(28),所述活性炭吸附网 ...
【技术特征摘要】
1.一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,包括装置主体(1),其特征在于:所述装置主体(1)上设有废气收集处理装置(2),所述废气收集处理装置(2)包括设置在所述装置主体(1)上的第一出气管(20),所述第一出气管(20)的其中一末端穿过所述装置主体(1)的外壳并与所述装置主体(1)内部的空腔相连通,所述第一出气管(20)的另外一末端设有保护套筒(21),所述保护套筒(21)内设有驱动电机(22),所述驱动电机(22)的输出轴末端紧密焊接有若干个呈环状等间距排列的风扇叶片(221),所述保护套筒(21)上设有底座(23),所述底座(23)上设有第二出气管(24),所述第一出气管(20)与所述第二出气管(24)相连通,所述第二出气管(24)上设有废气处理筒(25),所述废气处理筒(25)内设有储液空腔(251),所述第二出气管(24)与所述储液空腔(251)相连通,所述废气处理筒(25)上还设有与所述储液空腔(251)相连通的排气管(26),所述排气管(26)的末端管体的管壁上紧密粘接有细滤网(27),所述排气管(26)的末端管体的管壁上还紧密粘接有活性炭吸附网(28),所述活性炭吸附网(28)位于最外侧。
2.根据权利要求1所述的带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,其特征在于:所述底座(23)与所述保护套筒(21)为一体成型结构。
3.根据权利要求1所述的带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,其特征在于:靠近保护套筒(21)的所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫文军,杜良辉,张勇,
申请(专利权)人:江苏壹度科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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