具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂制造技术

本发明专利技术提供一种能够对具有中子屏蔽性能的结构体的接合部赋予中子屏蔽性的屏蔽性粘接剂。本发明专利技术是一种屏蔽粘接剂，其是具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂，其含有氟化锂纯度在99％以上的氟化锂粉末。所述屏蔽粘接剂优选是二液固化型粘接剂，其主要成分是环氧树脂。所述屏蔽粘接剂是二液固化型粘接剂，可含有环氧树脂作为其主要成分，含有改性有机硅作为其固化成分。

Shielding adhesive with neutron shielding property

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂
本专利技术涉及具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂。
技术介绍
近年来，作为癌症治疗手段，硼中子俘获疗法(BNCT：BoronNeutronCaptureTherapy)的研究开发正在急速推进。硼中子俘获疗法是利用中子射线的放射线治疗。首先，将被癌细胞特异性摄取的硼化合物给予患者。接着，对蓄积了硼化合物的癌细胞照射控制在规定范围的能量的中子射线。如果硼化合物与中子射线碰撞，则产生α射线。由该α射线杀灭癌细胞。硼中子俘获疗法作为癌症治疗手段的未来可期，逐渐进入临床试验阶段。硼中子俘获疗法中使用的中子射线照射装置利用热中子射线或超热中子射线来获得治疗效果，中子射线照射环境也是混杂着具有一定幅度能量的放射线的场所。作为供中子射线照射装置使用的中子射线发生装置，一直以来都需要采用核反应堆。然而，近年来逐渐提出了供医院内设置的小型的中子发生装置。该小型的中子发生装置使通过加速器加速的质子或氘核与铍或锂靶碰撞。产生的中子射线与现有的设备相比，热中子和超热中子的比例多，通过利用减速材料使其减速，来提供对人体的影响小的中子射线照射环境。在中子俘获疗法中照射中子时，为了对特定的部位进行照射，需要设置中子屏蔽单元。为了考察中子俘获疗法的效果，进行了对小鼠等小型动物照射中子的实验。作为使用氟化锂屏蔽板对人以外的哺乳动物应用中子俘获疗法的事例，有专利文献1，其目的在于，在照射对象的深处存在靶标部位的情况下，将施加于正常组织的中子抑制在最低限度，并且缓解中子在体内的深透性和到位性的衰减，对位于照射对象深处的靶标给予足够的中子。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利特开2004-233168号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的技术问题然而，这些屏蔽方法中，可能会因作为照射对象的生物体的形状和照射部位大小的不同而在屏蔽体的安装难易度和屏蔽性上产生制约，因此要求开发出对照射对象立体地进行屏蔽、并且以简单的结构将中子射线的照射区域和非照射区域隔开的屏蔽单元。作为该屏蔽单元，想到了能够收纳作为照射对象的生物体、具有中子射线的屏蔽性能的箱型形状的结构体。这种箱型形状的结构体可通过将多块屏蔽板彼此接合组合来制造。此时的接合可使用粘接剂。然而，从外部照射的中子射线会贯穿接合部而进入内部，因此希望对接合部赋予屏蔽中子的功能。于是，本专利技术的目的是提供一种能够对具有中子屏蔽性能的结构体的接合部赋予中子屏蔽性的屏蔽性粘接剂。解决技术问题所采用的技术方案本专利技术人为了解决上述课题进行了研究，其结果是，通过在粘接剂中含有特定组成的粉末，从而完成了本专利技术。具体而言，本专利技术提供如下的专利技术。(1)本专利技术是一种屏蔽粘接剂，其是具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂，所述屏蔽粘接剂含有氟化锂纯度在99％以上的氟化锂粉末。(2)本专利技术是(1)所述的屏蔽粘接剂，其中，所述氟化锂粉末的平均粒度在2.4μm以上且5.2μm以下。(3)本专利技术是(2)所述的屏蔽粘接剂，其中，所述屏蔽粘接剂是二液固化型粘接剂，其主要成分是环氧树脂。(4)本专利技术是(3)所述的屏蔽粘接剂，其中，所述屏蔽粘接剂含有30重量％以上且少于60重量％的所述氟化锂粉末。(5)本专利技术是(2)所述的屏蔽粘接剂，其中，所述屏蔽粘接剂是二液固化型粘接剂，含有环氧树脂作为其主要成分，含有改性有机硅树脂作为固化剂。(6)本专利技术是(5)所述的屏蔽粘接剂，其中，所述屏蔽粘接剂含有30重量％以上且67重量％以下的所述氟化锂粉末。(7)本专利技术是(1)～(6)中任一项所述的屏蔽粘接剂，其中，所述屏蔽粘接剂用于修复由氟化锂烧结体构成的屏蔽板的缺损部，或者用于填充该屏蔽板的接合部的间隙。专利技术的效果本专利技术的屏蔽粘接剂通过应用于多块屏蔽板之间的接合，可提供简单的立体结构的箱型形状的结构体。本专利技术的屏蔽粘接剂可对用该粘接剂接合的部位赋予中子屏蔽，因此可提高整个结构体的中子屏蔽性能。附图说明图1是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的实施方式的示意图。图2是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式的示意图，(a)从正面的视图，(b)是立体图。图3是用于说明应用屏蔽粘接剂的屏蔽板所涉及的接合结构的示意图，(a)是表示屏蔽板的端部具备在板厚方向上为平坦状的接合面时的接合结构的图，(b)是表示屏蔽板的端部具备倾斜状的接合面时的接合结构的图，(c)是表示屏蔽板的端部具备凹凸状的接合面时的接合结构的图。图4是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的形态例的图，(a)是立体图，(b)是俯视图，(c)是A-A线处的剖视图，(d)是B-B线处的剖视图。图5是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的另一形态例的图，(a)是立体图，(b)是俯视图，(c)是A-A线处的剖视图，(d)是B-B线处的剖视图。图6是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的另一形态例的图，(a)是立体图，(b)是俯视图，(c)是A-A线处的剖视图，(d)是B-B线处的剖视图。图7是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的另一形态例的图，(a)是立体图，(b)是俯视图，(c)是A-A线处的剖视图，(d)是B-B线处的剖视图。图8是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的另一形态例的图，(a)是立体图，(b)是俯视图，(c)是A-A线处的剖视图，(d)是B-B线处的剖视图。图9是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的另一形态例的图，(a)是立体图，(b)是俯视图，(c)是A-A线处的剖视图，(d)是B-B线处的剖视图。图10是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式例的图，(a)是立体图，(b)是主视图，(c)是右侧视图，(d)是A-A线处的剖视图，(e)是B-B线处的剖视图，(f)是C-C线处的剖视图，(g)是表示内部结构的图。图11是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式例的图，(a)是立体图，(b)是从另一方向表示的立体图，(c)是主视图，(d)是俯视图，(e)是右侧视图，(f)是A-A线处的剖视图，(g)是B-B线处的剖视图，(h)是C-C线处的剖视图。图12是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式例的图，(a)是立体图，(b)是从另一方向表示的立体图。图13是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式例的图，(a)是立体图，(b)是从另一方向表示的立体图。图14是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式例的图，(a)是立体图，(b)是从另一方向表示的立体图。图15是表示应用屏蔽粘接剂的箱型结构体的另一实施方式例的立体图。图16是表示应用屏蔽粘接剂的屏蔽板的另一形态例的图。图17是用于说明应用屏蔽粘接剂的屏蔽板所涉及的接合结构的示意图，(a)是表示采用具备平坦状的接合面的端部的接合结构的图，(b)是表示采用具备倾斜状的接合面的端部的接合结构的图，(c)是表示采用具备凹凸状的接合面的端部的接合结构的图。图18是用于说明将屏蔽粘接剂应用于屏本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏蔽粘接剂，其是具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂，其特征在于，所述屏蔽粘接剂含有氟化锂纯度在99％以上的氟化锂粉末。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171011 JP 2017-1980611.一种屏蔽粘接剂，其是具有中子屏蔽性能的屏蔽粘接剂，其特征在于，所述屏蔽粘接剂含有氟化锂纯度在99％以上的氟化锂粉末。


2.如权利要求1所述的屏蔽粘接剂，其特征在于，所述氟化锂粉末的平均粒度在2.4μm以上且5.2μm以下。


3.如权利要求2所述的屏蔽粘接剂，其特征在于，所述屏蔽粘接剂是二液固化型粘接剂，其主要成分是环氧树脂。


4.如权利要求3所述的屏蔽...

【专利技术属性】
技术研发人员：薄秀明，古屋日高，高桥真树，石川秀德，
申请(专利权)人：日本轻金属株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP