光学层叠体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种得到保持热塑性树脂基材的透明性并且抑制了卷曲的光学层叠体的方法。本发明专利技术的光学层叠体的制造方法包括：在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层而制作层叠体；对该聚乙烯醇类树脂层实施拉伸处理及染色处理而制作偏振膜；以及将该层叠体进行接触加热，对该热塑性树脂基材实施结晶化处理，该结晶化处理包括：第1结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数增大至第1给定值；以及第2结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数为大于该第1给定值的第2给定值。

Manufacturing method of optical stack

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体的制造方法
本专利技术涉及一种光学层叠体的制造方法。
技术介绍
在作为代表性的图像显示装置的液晶显示装置中，由于其图像形成方式，在液晶单元的两侧配置有偏振膜。作为偏振膜的制造方法，例如提出了一种对具有热塑性树脂基材及聚乙烯醇(PVA)类树脂层的层叠体进行拉伸，接着将其浸渍于染色液中而得到偏振膜的方法(例如专利文献1)。通过这种方法可获得厚度较薄的偏振膜，所以能对近年的液晶显示装置的薄型化有所贡献而备受瞩目。另外，偏振膜通常将PVA类树脂膜浸渍于染色浴、交联浴等浴中后通过干燥处理来制造。然而，如上所述，用热塑性树脂基材制作偏振膜时，在干燥中容易发生卷曲(具体而言是向热塑性树脂基材侧凸出的卷曲)，得到的光学层叠体(热塑性树脂基材及偏振膜)的外观不良成为问题。对此，作为抑制该卷曲而制造外观优异的光学层叠体的方法，有研究提出了一种包括使用了加热辊的干燥处理的方法(专利文献2)。根据该制造方法，可得到抑制了卷曲的光学层叠体。另一方面，通过使用了该加热辊的干燥处理，热塑性树脂基材的透明性有时会降低，所以从不将热塑性树脂基材剥离去除而作为偏振膜的保护膜使用的观点考虑不优选。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2001-343521号公报专利文献2：日本特开2013-122518号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术为了解决上述现有问题而进行，其主要目的在于提供一种得到保持热塑性树脂基材的透明性并且抑制了卷曲的光学层叠体的方法。解决问题的方法根据本专利技术，可提供一种光学层叠体的制造方法，该方法包括：在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层而制作层叠体；对该聚乙烯醇类树脂层实施拉伸处理及染色处理而制作偏振膜；以及将该层叠体进行接触加热，对该热塑性树脂基材实施结晶化处理。并且，该结晶化处理包括：第1结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数增大至第1给定值；以及第2结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数为大于该第1给定值的第2给定值。在一个实施方式中，上述第1结晶化处理阶段包含使上述层叠体接触50℃～95℃的接触加热机构，上述第1给定值为0.4以上。在一个实施方式中，上述第2结晶化处理阶段包含使上述层叠体接触96℃～120℃的接触加热机构，上述第2给定值为0.55以上。在一个实施方式中，在上述第1结晶化处理阶段及第2结晶化处理阶段中，上述层叠体表面的任意1点与各接触加热机构的接触时间分别为0.1秒钟～5秒钟。在一个实施方式中，上述热塑性树脂基材由聚对苯二甲酸乙二醇酯类树脂构成。在一个实施方式中，上述第1结晶化处理阶段及第2结晶化处理阶段在60℃～120℃的气氛温度下进行。在一个实施方式中，由上述结晶化处理引起的上述热塑性树脂基材的收缩率为3％以下。根据本专利技术的另一方面，可提供一种偏振片的制造方法，该方法包括：通过上述光学层叠体的制造方法制造光学层叠体；以及在得到的光学层叠体的偏振膜侧设置光学功能膜。专利技术的效果根据本专利技术，使层叠体干燥时，对热塑性树脂基材进行包含第1结晶化处理阶段及第2结晶化处理阶段的多阶段结晶化处理。具体而言，在第1结晶化处理阶段中，通过较低温的接触加热机构使热塑性树脂基材结晶化成给定的结晶指数，接着在第2结晶化处理阶段中，通过较高温的接触加热机构使结晶化进一步进行。若使结晶指数小的热塑性树脂基材接触高温的接触加热机构，可能会产生白浊，因此如上所述地在预结晶化处理后接触高温的接触加热机构，由此可避免该白浊的问题，从而可高效且充分地结晶化。其结果，可得到保持热塑性树脂基材的透明性并且抑制了卷曲的光学层叠体。附图说明图1是本专利技术的优选实施方式的层叠体的示意剖面图。图2是示出本专利技术的光学层叠体的制造方法的结晶化处理一例的示意图。图3是本专利技术的优选实施方式的光学层叠体的示意剖面图。图4是示出热塑性树脂基材的结晶指数与耐久性关系的图表。图5是示出耐久性试验后的层叠体状态的照片。符号说明10层叠体11热塑性树脂基材12聚乙烯醇类树脂层100光学层叠体具体实施方式以下说明本专利技术的优选实施方式，但本专利技术不限定于这些实施方式。本专利技术的光学层叠体的制造方法包括：在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层而制作层叠体；对该聚乙烯醇类树脂层实施拉伸处理及染色处理而制作偏振膜；以及将该层叠体进行接触加热，对该热塑性树脂基材实施结晶化处理。层叠体代表性地制成长条状。A.层叠体的制作图1是本专利技术的优选实施方式的层叠体的示意剖面图。层叠体10具有热塑性树脂基材11和PVA类树脂层12，可通过在热塑性树脂基材上形成PVA类树脂层12而制作。PVA类树脂层12的形成方法可采用任意适当的方法。优选在热塑性树脂基材11上涂布含有PVA类树脂的涂布液并使其干燥而形成PVA类树脂层12。对于上述热塑性树脂基材而言，其结晶指数(结晶化处理前)优选为0.16以下，更优选为0.12以下。这样的热塑性树脂基材在干燥处理中可以促进结晶化，增加结晶指数。其结果，热塑性树脂基材刚性增加，成为能够承受由干燥导致的PVA类树脂层的收缩的状态，可抑制卷曲。另外，通过使用这样的热塑性树脂基材，可将层叠体良好地进行拉伸。具体而言，如后所述地将层叠体浸渍于拉伸浴(例如硼酸水溶液)进行水溶液中拉伸时，拉伸张力会降低，拉伸性提高。热塑性树脂基材的吸水率优选为0.2％以上，更优选为0.3％以上。热塑性树脂基材吸收水，水可以发挥增塑剂的作用进行增塑。其结果，可以使拉伸应力大幅降低，可以高倍率地拉伸。另一方面，热塑性树脂基材的吸水率优选为3.0％以下，更优选为1.0％以下。通过使用这样的热塑性树脂基材，可防止制造时热塑性树脂基材的尺寸稳定性显著下降、得到的偏振膜的外观劣化等不良情况。另外，可防止在水溶液中拉伸时基材断裂、PVA类树脂层从热塑性树脂基材剥离。此外，热塑性树脂基材的吸水率例如可以通过将改性基团导入构成材料而调整。吸水率是按照JISK7209求出的值。热塑性树脂基材的玻璃化转变温度(Tg)优选为170℃以下。通过使用这样的热塑性树脂基材，可抑制PVA类树脂层的结晶化，同时又可充分确保层叠体的拉伸性。另外，考虑到利用水使热塑性树脂基材增塑、以及可良好地进行水溶液中拉伸，更优选为120℃以下。另一方面，热塑性树脂基材的玻璃化转变温度优选为60℃以上。通过使用这样的热塑性树脂基材，可以防止在涂布含有上述PVA类树脂的涂布液并使其干燥时热塑性树脂基材变形(例如，产生凹凸、松弛、褶皱等)等不良情况，良好地制作层叠体。另外，PVA类树脂层的拉伸可以在适当的温度(例如60℃左右)下良好地进行。此外，热塑性树脂基材的玻璃化转变温度例如可以通过对在构成材料导入改性基团的结晶化材料进行加热来调整。玻璃化转变温度(Tg)是依据JISK7121求出的值。热塑性树脂基材的构成材料可采用任意适当的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学层叠体的制造方法，该方法包括：/n在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层而制作层叠体；/n对该聚乙烯醇类树脂层实施拉伸处理及染色处理而制作偏振膜；以及/n将该层叠体进行接触加热，对该热塑性树脂基材实施结晶化处理，/n该结晶化处理包括：/n第1结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数增大至第1给定值；以及/n第2结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数为大于该第1给定值的第2给定值。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171018 JP 2017-2019671.一种光学层叠体的制造方法，该方法包括：
在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇类树脂层而制作层叠体；
对该聚乙烯醇类树脂层实施拉伸处理及染色处理而制作偏振膜；以及
将该层叠体进行接触加热，对该热塑性树脂基材实施结晶化处理，
该结晶化处理包括：
第1结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数增大至第1给定值；以及
第2结晶化处理阶段，使该热塑性树脂基材的结晶指数为大于该第1给定值的第2给定值。


2.根据权利要求1所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述第1结晶化处理阶段包括使所述层叠体接触50℃～95℃的接触加热机构，
所述第1给定值为0.4以上。


3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体的制造方法，其中，
所述第2结晶化处理阶段包括使所述层叠体接触96℃～120℃的接触加热机构，
所述第2...

【专利技术属性】
技术研发人员：M矢仙，滨本大介，池岛健太郎，宫武稔，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP