【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光生成设备,碳同位素分析设备和采用碳同位素分析设备的碳同位素分析方法
本专利技术涉及一种生成窄线宽且高强度光的光发生器,以及使用该光发生器的碳同位素分析设备及碳同位素分析方法。特别地,本专利技术涉及一种用于分析放射性碳同位素14C等的生成窄线宽和高强度光的光发生器,以及一种使用光发生器的放射性碳同位素分析设备和放射性碳同位素分析方法。
技术介绍
碳同位素分析已应用于许多领域,包括基于碳循环的环境动力学评估以及通过放射性碳测年的历史和实验研究。碳同位素的天然分布量可以随区域或环境因素而变化,如下所示:对于12C(稳定同位素)的98.89%,对于13C(稳定同位素)的1.11%,和对于14C放射性同位素)的1×10-10%。这些具有不同质量的同位素表现出相同的化学行为。因此,低分布量同位素的人工富集和同位素的准确分析可应用于观察多种反应。在临床领域中,标记有例如放射性碳同位素14C的化合物的体内施用和分析对于药物处置的评估非常有用。例如,这种标记的化合物用于药物开发过程的I期或IIa期的实际分析。以非常小的剂量( ...
【技术保护点】
1.一种碳同位素分析设备,包括:/n二氧化碳同位素发生器,设置有燃烧单元和二氧化碳同位素净化单元,所述燃烧单元从碳同位素生成包含二氧化碳同位素的气体;/n光谱仪,包括具有一对反射镜的光学谐振器和确定从所述光学谐振器透射的光的强度的光电检测器;以及/n光发生器,包括:单个光源;第一光纤,传输来自所述光源的第一光;第二光纤,生成波长比所述第一光更长的第二光,所述第二光纤从所述第一光纤的分光节点分光,并在下游的耦合节点处与所述第一光纤耦合;第一放大器,设置在所述第一光纤的所述分光节点和所述耦合节点之间;第二放大器,设置在所述第二光纤的所述分光节点和所述耦合节点之间,并且所述第二放 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170824 JP 2017-1614611.一种碳同位素分析设备,包括:
二氧化碳同位素发生器,设置有燃烧单元和二氧化碳同位素净化单元,所述燃烧单元从碳同位素生成包含二氧化碳同位素的气体;
光谱仪,包括具有一对反射镜的光学谐振器和确定从所述光学谐振器透射的光的强度的光电检测器;以及
光发生器,包括:单个光源;第一光纤,传输来自所述光源的第一光;第二光纤,生成波长比所述第一光更长的第二光,所述第二光纤从所述第一光纤的分光节点分光,并在下游的耦合节点处与所述第一光纤耦合;第一放大器,设置在所述第一光纤的所述分光节点和所述耦合节点之间;第二放大器,设置在所述第二光纤的所述分光节点和所述耦合节点之间,并且所述第二放大器的频带与所述第一放大器的频带不同;以及非线性光学晶体,所述非线性光学晶体允许频率不同的多个光束传播通过,从而根据频率的不同生成波长范围为4.5μm至4.8μm的中红外光学频率梳,作为具有所述二氧化碳同位素的吸收波长的光。
2.根据权利要求1所述的碳同位素分析设备,其中,在所述光发生器中,所述光源是1.55μm的超短脉冲激光光源,所述第一放大器是掺Er的光纤放大器,所述第二放大器是掺Tm的光纤放大器。
3.根据权利要求2所述的碳同位素分析设备,其中,
所述第一光纤还包括在所述第一放大器与所述耦合节点之间的第三放大器,以及在所述第三放大器与所述耦合节点之间的第一波长移位光纤,以及
所述第二光纤还包括在所述分光节点与所述第二放大器之间的第二波长移位光纤。
4.根据权利要求2所述的碳同位素分析设备,其中,
所述第一光纤还包括在所述第一放大器与所述耦合节点之间的第三放大器,以及
所述第二光纤还包括在所述分光节点与所述第二放大器之间的第二波长移位光纤,以及在所述第二放大器与所述耦合节点之间的第三波长移位光纤。
5.根据权利要求2所述的碳同位素分析设备,其中,所述第一光纤还包括在所述第一放大器与所述耦合节点之间的第三放大器,以及
所述第二光纤还包括在所述分光节点与所述第二放大器之间的第二波长移位光纤。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的碳同位素分析设备,其中,所述光发生器通过所述第一光纤施加波长范围为1.3μm至1.7μm的光并通过所述第二光纤施加波长范围为1.8μm至2.4μm的光。
7.根据权利要求4所述的碳同位素分析设备,其中,通过所述第二波长移位光纤发射波长范围为1.8μm至2.0μm的光,以及
通过所述第三波长移位光纤发射波长范围为2.3μm至2.4μm的光。
8.根据权利要求3所述的碳同位素分析设备,其中,所述第一波长移位光纤是色散移位光纤DSF。
9.根据权利要求4所述的碳同位素分析设备,其中,所述第二波长移位光纤是细芯光纤,以及
所述第三波长移位光纤是高度非线性的色散移位光纤HN-DSF。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的碳同位素分析设备,其中,所述非线性光学晶体的在光的流动方向上的距离长于11mm。
11.根据权利要求1至10中任一...
【专利技术属性】
技术研发人员:井口哲夫,富田英生,西泽典彦,沃克·索南夏因,寺林棱平,佐藤淳史,
申请(专利权)人:国立大学法人名古屋大学,积水医疗株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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