本发明专利技术公开了一种用于硅片次品回收用清洗装置，包括清洗机构，还包括底板，所述清洗机构包括四个支撑柱和管形的壳体，所述壳体靠近底端的内壁固定连接有同一个斜淌板，壳体的两侧内壁固定连接有多个垫放条，垫放条的顶部放置有同一个网箱，网箱内设有多个等距离分布的分隔机构，分隔机构包括分隔板和多个横杆，分隔板和横杆的两端分别与壳体的两侧内壁固定连接，相邻的两个横杆相对的一侧外壁固定连接有多个竖杆。本发明专利技术是一种用于硅片次品回收用清洗装置，装置可以将硅片次品分隔开，并对硅片次品的表面进行冲洗和刷洗，提高了装置对硅片次品清洗的充分性。
A cleaning device for the recovery of defective silicon wafers
【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片次品回收用清洗装置
本专利技术涉及清洗装置
，尤其涉及一种用于硅片次品回收用清洗装置。
技术介绍
硅片是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。硅片在生产、加工的过程中，会产生较多的次品，这些硅片次品还具有很大的回收价值，故而需要对其进行回收，回收时，需要利用清洗装置对其进行清洗。现有的用于硅片次品回收用清洗装置，其大多存在以下的不足，对硅片次品进行是集中式清洗，由于其表面平整光滑，故而在清洗时，硅片次品极易吸附在一起，此将造成对硅片次品的清洗不彻底，综上，现有的一些用于硅片次品回收用清洗装置还不能很好地契合实际需要。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种用于硅片次品回收用清洗装置。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种用于硅片次品回收用清洗装置，包括清洗机构，还包括底板，所述清洗机构包括四个支撑柱和管形的壳体，所述壳体靠近底端的内壁固定连接有同一个斜淌板，壳体的两侧内壁固定连接有多个垫放条，垫放条的顶部放置有同一个网箱，网箱内设有多个等距离分布的分隔机构，分隔机构包括分隔板和多个横杆，分隔板和横杆的两端分别与壳体的两侧内壁固定连接，相邻的两个横杆相对的一侧外壁固定连接有多个竖杆，竖杆的两侧外壁和壳体的两侧内壁均通过螺栓固定有毛刷条，毛刷条的端面结构为水平放置的Y形，分隔板的端面结构为倒立放置的V形，四个所述支撑柱的底端均固定连接在底板的顶部，支撑柱的底端均通过螺栓固定有电动伸缩杆，电动伸缩杆的顶端固定连接有同一个顶板。作为本专利技术再进一步的方案：所述底板的顶部通过螺栓固定有储液箱，储液箱的底部内壁通过螺栓固定有抽液泵，储液箱的顶部开有倒液孔和排液孔，倒液孔和排液孔的内壁分别焊接有倒液管和排液管，排液管的底端插接在抽液泵的出口端。作为本专利技术再进一步的方案：所述储液箱的一侧外壁靠近底部位置开有排杂孔，排杂孔的内壁焊接有排杂管，储液箱的侧壁开有回流孔，回流孔的内壁焊接有连接管，连接管的一端套接有阀门，阀门的一端插接有转接头。作为本专利技术再进一步的方案：所述储液箱靠近底部的内壁和底部内壁焊接有同一个L形的滤网罩，滤网罩的两端与储液箱的两侧内壁焊接，排杂管和连接管的端部均为位于滤网罩内。作为本专利技术再进一步的方案：所述顶板的顶部开有多个通孔，通孔的内壁均焊接有分流管，分流管的顶端焊接有同一个圆筒，分流管的底端均焊接有分流筒，分流筒与分隔机构交替分布，分流筒的底部均开有多个螺纹孔，螺纹孔的内壁均螺纹插接有喷淋头，圆筒的顶部开有进液孔，进液孔的内壁螺纹插接有软管，软管的底端套接在排液管的顶端。作为本专利技术再进一步的方案：所述壳体的侧壁开有至少两个安装孔，安装孔的内壁均通过螺栓固定有推杆电机，推杆电机的延长杆均通过螺栓与网箱的侧壁固定。作为本专利技术再进一步的方案：所述斜淌板的底部外壁通过螺栓固定有振动电机，振动电机位于靠近斜淌板较低的一端。作为本专利技术再进一步的方案：所述壳体的一侧外壁靠近底部位置开有出杂孔，出杂孔的内壁焊接有倾斜放置的矩形管，矩形管位于靠近斜淌板较低的一端，矩形管的一端与转接头的一端焊接，壳体的两侧外壁均焊接有两个立柱，立柱的底端均与底板的顶部焊接。作为本专利技术再进一步的方案：所述矩形管的底部开有安装孔，安装孔的内壁焊接有沉渣斗，沉渣斗的底端螺纹套接有封盖，沉渣斗远离壳体的一侧内壁靠近顶端位置焊接有滤板，滤板的侧壁开有多排滤孔，滤孔为圆台形结构，滤孔靠近壳体的一端直径比滤孔远离壳体的一端直径小。本专利技术的有益效果为：1.通过设置网箱和分隔机构，在放置硅片次品时，可以将硅片次品依次放在分隔机构隔开的空间内，此可以使得硅片分开放置，在清洗的过程中避免硅片因表面光滑而相互吸附，且结合垫放条、推杆电机和毛刷条的设置，在清洗的过程中，推杆电机带动网箱往复式晃动，在网箱往复式移动时，硅片次品亦会晃动，但其与网箱之间会有相对运动，而毛刷条与网箱同步运动，故而硅片次品亦与毛刷条之间有相对运动，随着网箱的滑动，毛刷条对硅片次品的表面进行刷洗，且毛刷条的端面为Y形，故而硅片次品会将毛刷条的端部压平，即毛刷条被展开，增大了刷洗的面积，提高了刷洗的充分性；2.通过设置矩形管、滤板和沉渣斗，清洗时产生的液体以及清洗下来的杂物会沿着斜淌板淌到矩形管内，进入矩形管内时，清洗液将受到滤板的过滤，杂物将被过滤下来，并在沉渣斗内沉淀，此即实现了对废液的过滤，进而对废液进行重复利用，且结合阀门的设置，可以便于工作人员选择是否对废液进行回收利用；3.通过设置振动电机，振动电机带动斜淌板振动，进而辅助废液快速出料，避免杂物在斜淌板上累积。附图说明图1为本专利技术提出的一种用于硅片次品回收用清洗装置的实施例1的主视剖面结构示意图；图2为图1的A部分的结构示意图；图3为本专利技术提出的一种用于硅片次品回收用清洗装置的实施例1的网箱和分隔板的结构示意图；图4为本专利技术提出的一种用于硅片次品回收用清洗装置的实施例2的局部主视剖面结构示意图。图中：1底板、2支撑柱、3壳体、4电动伸缩杆、5喷淋头、6分流筒、7分流管、8圆筒、9分隔板、10软管、11横杆、12竖杆、13斜淌板、14立柱、15振动电机、16垫放条、17网箱、18滤孔、19矩形管、20滤板、21转接头、22储液箱、23抽液泵、24阀门、25沉渣斗、26毛刷条、27滤网罩。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。实施例1参照图1-3，一种用于硅片次品回收用清洗装置，包括清洗机构，还包括底板1，清洗机构包括四个支撑柱2和管形的壳体3，壳体3靠近底端的内壁焊接有同一个斜淌板13，壳体3的两侧内壁焊接有多个垫放条16，垫放条16的顶部放置有同一个网箱17，网箱17内设有多个等距离分布的分隔机构，分隔机构包括分隔板9和多个横杆11，分隔板9和横杆11的两端分别与壳体3的两侧内壁焊接，相邻的两个横杆11相对的一侧外壁焊接有多个竖杆12，竖杆12的两侧外壁和壳体3的两侧内壁均通过螺栓固定有毛刷条26，毛刷条26的端面结构为水平放置的Y形，推杆电机带动网箱17往复式晃动，在网箱17往复式移动时，硅片次品亦会晃动，但其与网箱17之间会有相对运动（由于惯性），而毛刷条26与网箱17同步运动，故而硅片次品亦与毛刷条26之间有相对运动，随着网箱17的滑动，毛刷条26对硅片次品的表面进行刷洗，且毛刷条26的端面为Y形，故而硅片次品会将毛刷条26的端部压平，即毛刷条26被展开，增大了刷洗的面积，提高刷洗的充分性，分隔板9的端面结构为倒立放置的V形，四个支撑柱2的底端均焊接在底板1的顶部，支撑柱2的底端均通过螺栓固定有电动伸缩杆4，电动伸缩杆4的顶端焊接有同一个顶板，更进一步地，电动伸缩杆4的规格相同，且电动伸缩杆4通过导线连接有同一本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于硅片次品回收用清洗装置，包括清洗机构，其特征在于，还包括底板（1），所述清洗机构包括四个支撑柱（2）和管形的壳体（3），所述壳体（3）靠近底端的内壁固定连接有同一个斜淌板（13），壳体（3）的两侧内壁固定连接有多个垫放条（16），垫放条（16）的顶部放置有同一个网箱（17），网箱（17）内设有多个等距离分布的分隔机构，分隔机构包括分隔板（9）和多个横杆（11），分隔板（9）和横杆（11）的两端分别与壳体（3）的两侧内壁固定连接，相邻的两个横杆（11）相对的一侧外壁固定连接有多个竖杆（12），竖杆（12）的两侧外壁和壳体（3）的两侧内壁均通过螺栓固定有毛刷条（26），毛刷条（26）的端面结构为水平放置的Y形，分隔板（9）的端面结构为倒立放置的V形，四个所述支撑柱（2）的底端均固定连接在底板（1）的顶部，支撑柱（2）的底端均通过螺栓固定有电动伸缩杆（4），电动伸缩杆（4）的顶端固定连接有同一个顶板。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于硅片次品回收用清洗装置，包括清洗机构，其特征在于，还包括底板（1），所述清洗机构包括四个支撑柱（2）和管形的壳体（3），所述壳体（3）靠近底端的内壁固定连接有同一个斜淌板（13），壳体（3）的两侧内壁固定连接有多个垫放条（16），垫放条（16）的顶部放置有同一个网箱（17），网箱（17）内设有多个等距离分布的分隔机构，分隔机构包括分隔板（9）和多个横杆（11），分隔板（9）和横杆（11）的两端分别与壳体（3）的两侧内壁固定连接，相邻的两个横杆（11）相对的一侧外壁固定连接有多个竖杆（12），竖杆（12）的两侧外壁和壳体（3）的两侧内壁均通过螺栓固定有毛刷条（26），毛刷条（26）的端面结构为水平放置的Y形，分隔板（9）的端面结构为倒立放置的V形，四个所述支撑柱（2）的底端均固定连接在底板（1）的顶部，支撑柱（2）的底端均通过螺栓固定有电动伸缩杆（4），电动伸缩杆（4）的顶端固定连接有同一个顶板。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅片次品回收用清洗装置，其特征在于，所述底板（1）的顶部通过螺栓固定有储液箱（22），储液箱（22）的底部内壁通过螺栓固定有抽液泵（23），储液箱（22）的顶部开有倒液孔和排液孔，倒液孔和排液孔的内壁分别焊接有倒液管和排液管，排液管的底端插接在抽液泵（23）的出口端。
3.根据权利要求2所述的一种用于硅片次品回收用清洗装置，其特征在于，所述储液箱（22）的一侧外壁靠近底部位置开有排杂孔，排杂孔的内壁焊接有排杂管，储液箱（22）的侧壁开有回流孔，回流孔的内壁焊接有连接管，连接管的一端套接有阀门（24），阀门（24）的一端插接有转接头（21）。
4.根据权利要求3所述的一种用于硅片次品回收用清洗装置，其特征在于，所述储液箱（22）靠近底部的内壁和底部内壁焊接有同一个L形的滤网罩（27），滤网罩（27）的两端与储液箱（22）的两侧内壁焊接，排杂管和连接管...
【专利技术属性】
技术研发人员：张利红，
申请(专利权)人：张利红，
类型：发明
国别省市：甘肃;62
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