一种谐振器晶片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种谐振器晶片清洗装置，目的是解决现有谐振器晶片清洗装置清洁不够彻底的技术问题。所采用的技术方案是：一种谐振器晶片清洗装置，包括水槽，所述水槽通过竖隔板沿左右方向依次分隔成多级水室，多块竖隔板的高度从右往左依次降低、且均低于水槽侧壁的高度；所述水槽的右壁设置进水口、左壁设置溢流口，所述溢流口的高度低于最左侧竖隔板的高度；所述水室的内壁设置超声波换能器、底部设置排渣口；所述水槽上方设置输送链，所述输送链限位于导轨内、并设置用于夹持石英晶片的夹持件；所述石英晶片在输送链的输送下从左往右依次没入多级水室进行清洗；所述输送链适配有动力源。

A kind of resonator wafer cleaning device

【技术实现步骤摘要】
一种谐振器晶片清洗装置
本技术涉及谐振器生产设备
，具体涉及一种谐振器晶片清洗装置。
技术介绍
石英晶体谐振器是利用石英晶体的压电效应，用来产生高精度振荡频率的一种电子元件，其由石英晶片、基座、封盖、银胶等组合而成，主要用于频率控制以及频率选择电路，在通信设备、电视机、电话机、电子玩具、计时器、电子钟、计算器等电器件有着广泛的应用。在生产石英晶体谐振器时，通常先在石英晶片的两个对应面分别镀一层银作为电极；然后将石英晶体放置在基座内，并通过导电胶将石英晶体的电极与设于基座的引线电连接；最后向基座盖上封盖，即可完成对石英晶体谐振器的生产。石英晶片在镀银之前，需要进行清洗，若石英晶片清洗不够彻底、残留有杂质，则会导致石英晶片表面的银镀层不均匀、含有杂屑，从而对整个谐振器的性能造成不良影响。因此，有必要研究一种能有效清除石英晶片表面杂屑的清洗装置。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种谐振器晶片清洗装置，其能有效清除石英晶片表面的杂屑。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：一种谐振器晶片清洗装置，包括：水槽，其通过竖隔板沿左右方向依次分隔成多级水室，多块竖隔板的高度从右往左依次降低、且均低于水槽侧壁的高度；所述水槽的右壁设置进水口、左壁设置溢流口，所述溢流口的高度低于最左侧竖隔板的高度；所述水室的内壁设置超声波换能器、底部设置排渣口；输送链，其限位于导轨内、并设置用于夹持石英晶片的夹持件；所述石英晶片在输送链的输送下从左往右依次没入多级水室进行清洗；所述输送链适配有动力源。优选的，所述输送链沿其长度方向均匀设置多组用于悬挂夹持件的挂钩。优选的，所述夹持件呈两长一短的U型，所述夹持件两长边的相对侧设置沿其长度方向延伸的滑槽；所述夹持件的其中一长边沿长度方向均匀设置多个插销孔、并适配限位片，且该长边设置至少两个与挂钩配合的挂扣。优选的，所述夹持件未设置插销孔的长边设置对限位片底端构成限位的限位孔。优选的，所述水室底部的中心设置有冲洗机构，所述冲洗机构包括顶部封闭的竖管和均匀设于竖管周侧、沿水平方向延伸的多个喷管，所述喷管与竖管连通、且多个喷管同向弯曲，所述竖管通过旋转接头与水管连通。优选的，所述水室的底部沿内壁设置有集渣槽，所述排渣口位于集渣槽内。本技术的有益效果集中体现在，本技术通过从左往右依次升高的竖隔板将水槽分隔成多级水室，进水口位于水槽的右壁，通入水槽的水流会从右往左依次溢流；而石英晶片会从左往右输送，超声波换能器会发出超声波，对石英晶片的表面进行清洗；如此，即可实现对石英晶片的分段多级清洗，从而使对石英晶片的清洗更加彻底。同时，水流从右往左依次溢流，可以多次重复使用，得到了更加充分的利用，节约了宝贵的水资源。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图；图2为图1中A部的放大图；图3为夹持件的结构示意图；图4为冲洗机构的俯视图；附图标记：1、水槽；2、水室；3、竖隔板；4、溢流口；5、超声波换能器；6、输送链；7、夹持件；8、挂钩；9、插销孔；10、限位片；11、挂扣；12、冲洗机构；13、竖管；14、喷管；15、旋转接头；16、集渣槽。具体实施方式在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本技术的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。下面结合附图1～4对本技术的实施例进行详细说明。本技术实施例提供了一种谐振器晶片清洗装置，该清洗装置包括：水槽1，其通过竖隔板3沿左右方向依次分隔成多级水室2，多块竖隔板3的高度从右往左依次降低、且均低于水槽1侧壁的高度；所述水槽1的右壁设置进水口、左壁设置溢流口4，所述溢流口4的高度低于最左侧竖隔板3的高度；所述水室2的内壁设置超声波换能器5、底部设置排渣口；应当理解的是，超声波换能器5能将电能转化为机械能、以超声波的形式散发出去，从而利用空化效应对石英晶片表面进行清洗。输送链6，其限位于导轨内、并设置用于夹持石英晶片的夹持件7；所述石英晶片在输送链6的输送下从左往右依次没入多级水室2进行清洗；应当理解的是，导轨会对输送链6的运行轨迹进行限位，使输送链6以斜下、水平、斜上的轨迹对应于每一水室2，从而使悬挂在输送链6上的石英晶片依次没入多个水室2进行清洗。所述输送链6适配有动力源。应当理解的是，输送链6的动力源为伺服电机。下面阐述本技术的实施方式，本技术通过从左往右依次升高的竖隔板3将水槽1分隔成多级水室2，进水口位于水槽1的右壁，通入水槽1的水流会从右往左依次溢流；而石英晶片会从左往右输送，超声波换能器5会发出超声波，对石英晶片的表面进行清洗；如此，即可实现对石英晶片的分段多级清洗，从而使对石英晶片的清洗更加彻底。同时，水流从右往左依次溢流，可以多次重复使用，得到了更加充分的利用，节约了宝贵的水资源。作为本技术的进一步优化，所述输送链6沿其长度方向均匀设置多组用于悬挂夹持件7的挂钩8。应当理解的是，夹持件7通过挂钩8悬挂在输送链6，取放更加方便。一组挂钩8至少设置两个、并对应于一个夹持件7。进一步地，所述夹持件7呈两长一短的U型，所述夹持件7两长边的相对侧设置沿其长度方向延伸的滑槽；所述夹持件7的其中一长边沿长度方向均匀设置多个插销孔9、并适配限位片10，且该长边设置至少两个与挂钩8配合的挂扣11。应当理解的是，限位片10配合夹持件7即可围合成石英晶片的安放位，每一限位片10对应一石英晶片，一个夹持件7可以安放多个石英晶片；当石英晶片完成清洗后，无需从夹持件7上取下，可直接将夹持件7置于蒸镀设备内、对石英晶片进行蒸镀，这样可以避免石英晶片在重新装夹的过程中受到二次污染。进一步地，所述夹持件7未设置插销孔9的长边设置对限位片10底端构成限位的限位孔。进一步地，所述水室2底部的中心设置有冲洗机构12，所述冲洗机构12包括顶部封闭的竖管13和均匀设于竖管13周侧、沿水平方向延伸的多个喷管14本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种谐振器晶片清洗装置，其特征在于：包括：/n水槽(1)，其通过竖隔板(3)沿左右方向依次分隔成多级水室(2)，多块竖隔板(3)的高度从右往左依次降低、且均低于水槽(1)侧壁的高度；所述水槽(1)的右壁设置进水口、左壁设置溢流口(4)，所述溢流口(4)的高度低于最左侧竖隔板(3)的高度；所述水室(2)的内壁设置超声波换能器(5)、底部设置排渣口；/n输送链(6)，其限位于导轨内、并设置用于夹持石英晶片的夹持件(7)；所述石英晶片在输送链(6)的输送下从左往右依次没入多级水室(2)进行清洗；所述输送链(6)适配有动力源。/n

【技术特征摘要】
1.一种谐振器晶片清洗装置，其特征在于：包括：
水槽(1)，其通过竖隔板(3)沿左右方向依次分隔成多级水室(2)，多块竖隔板(3)的高度从右往左依次降低、且均低于水槽(1)侧壁的高度；所述水槽(1)的右壁设置进水口、左壁设置溢流口(4)，所述溢流口(4)的高度低于最左侧竖隔板(3)的高度；所述水室(2)的内壁设置超声波换能器(5)、底部设置排渣口；
输送链(6)，其限位于导轨内、并设置用于夹持石英晶片的夹持件(7)；所述石英晶片在输送链(6)的输送下从左往右依次没入多级水室(2)进行清洗；所述输送链(6)适配有动力源。


2.根据权利要求1所述的谐振器晶片清洗装置，其特征在于：所述输送链(6)沿其长度方向均匀设置多组用于悬挂夹持件(7)的挂钩(8)。


3.根据权利要求2所述的谐振器晶片清洗装置，其特征在于：所述夹持件(7)呈两长一短的U型，所述夹持件(7)两长边的相对侧设置沿其...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建友，杨清明，刘青彦，
申请(专利权)人：成都晶宝时频技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51