本发明专利技术提供的真空系统的调度方法及调度系统,包括:设定默认腔室,按等候队列次向各个等候腔室分配真空系统,判断等候队列是否有未抽真空的等候腔室,若是,继续按等候队列依次向各个等候腔室分配真空系统,若否,则根据默认腔室的状态对默认腔室进行抽真空。通过本发明专利技术提供的真空系统的调度方法,实时监控等候队列的状态,一旦等候队列中不具有未抽真空的等候腔室,则将其分配给默认腔室进行抽真空,提高真空系统的使用率,同时,有利于默认腔室提高真空度。
Scheduling method and system of vacuum system
【技术实现步骤摘要】
真空系统的调度方法及调度系统
本专利技术属于半导体制造
,具体涉及一种真空系统的调度方法及调度系统。
技术介绍
在半导体加工领域中,加工系统通常由传输腔室、工艺腔室、多个预真空腔室等组成。晶片从处于大气状态的装载腔室通过机械手传输到处于大气状态的预真空腔室,然后预真空腔室通过抽真空操作,使该腔室变为真空状态,再由传输腔室中的机械手将晶片传入各个工艺腔室执行工艺。其中,工艺腔室进行晶片加工需要真空的环境,因此,工艺腔室需要抽真空操作,同时,传输腔室、预真空腔室需要将晶片传入到真空环境,因此也需要真空环境。为了节省成本,几个腔室共用一个真空泵的现象也非常普遍。图1为现有技术中真空泵的调度流程图。如图1所示,S100,当有腔室需要使用真空泵时,提交真空泵使用申请;S101,判断真空泵是否为空闲状态,若是,则执行步骤S102,若否,则执行步骤S103;S102,将真空泵分配给当前的申请的腔室使用;S103,将新申请的腔室排入等候队列的队尾,进行等待。在上述真空泵的调度流程中,若需要使用真空泵,则必须由腔室先提交真空泵使用申请,而在真空泵处于空闲阶段时,若没有腔室提出提交使用申请,真空泵则会一直处于空闲,导致真空泵的利用率较低。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种能够提高真空系统的利用率的真空系统的调度方法及调度系统。为解决上述问题,本专利技术提供了一种真空系统的调度方法,其包括:设定默认腔室;按等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统;判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室,若是,则继续按所述等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统,若否,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。其中,所述默认腔室为能够持续抽真空的腔室。其中,所述默认腔室包括传输腔室。其中,在所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤中,若否,则还包括:判断所述默认腔室是否在进行真空操作,若在进行真空操作,则所述真空系统维持空闲状态,并返回所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤,若不在进行真空操作,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。其中,在所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤中,若否,则还包括:判断所述默认腔室的压力是否低于预设压力,若是,则所述真空系统维持空闲状态,若否,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空,直至所述默认腔室的压力低于所述预设压力。其中,所述真空系统调度方法还包括:在接收到任意腔室提交的使用请求时,判断所述真空系统是否在对所述默认腔室进行抽真空;若是,则停止对所述默认腔室进行抽真空,并将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室;若否,则判断是否具有等候队列,若具有,则将提交所述使用请求的腔室加入所述等候队列的队尾,若不具有,则将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室。本专利技术还提供了一种真空系统的调度系统,其中,包括设定模块、存储模块、第一判断模块和调度模块,其中,所述设定模块,用于设定默认腔室;所述存储模块,用于存储等候队列;所述调度模块,用于读取所述存储模块中的所述等候队列,并按所述等候队列的顺序,将所述真空系统依次分配给所述等待腔室进行抽真空;所述第一判断模块,用于判断所述等候队列中是否还有未抽真空的等候腔室,若是,则所述调度模块继续按所述等候队列的顺序,将所述真空系统依次分配给所述等待腔室进行抽真空;若否,则向所述调度模块发送第一指令;所述调度模块还用于在接收到所述第一指令后,根据默认腔室的状态,将所述真空系统分配给所述默认腔室抽真空。其中,所述调度模块还用于,在接收到所述第一指令后,判断所述默认腔室是否在进行真空操作,若在进行真空操作,则所述真空系统维持空闲状态,并向所述第一判断模块发送第二指令,若不在进行真空操作,则对所述默认腔室进行抽真空;所述第一判断模块在接收到第二指令之后,判断所述等候队列中是否还有未抽真空的等候腔室。其中,所述调度模块还用于,在接收到第一指令之后,判断所述默认腔室的压力是否低于预设压力,若是,则将所述真空系统维持在空闲状态,并向所述第一判断模块发送第二指令,若否,则对所述默认腔室进行抽真空,直至所述默认腔室的压力低于所述预设压力;所述第一判断模块在接收到第二指令之后,判断所述等候队列中是否还有未抽真空的等候腔室。其中,其特征在于,所述调度模块还用于在接收到任意腔室提交的使用请求时,判断所述真空系统是否在对所述默认腔室进行抽真空;若是,则停止对所述默认腔室进行抽真空,并将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室;若否,则所述调度模块读取并判断所述存储模块中是否具有等候队列,若具有,则将提交所述使用请求的腔室加入所述等候队列的队尾;若不具有,则将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室。本专利技术具有以下有益效果:本专利技术提供的真空系统的调度方法,包括:设定默认腔室,按等候队列次向各个等候腔室分配真空系统,判断等候队列是否有未抽真空的等候腔室,若是,继续按等候队列依次向各个等候腔室分配真空系统,若否,则根据默认腔室的状态对默认腔室进行抽真空。通过本专利技术提供的真空系统的调度方法,实时监控等候队列的状态,一旦等候队列中不具有未抽真空的等候腔室,则将其分配给默认腔室进行抽真空,提高真空系统的使用率,同时,有利于默认腔室提高真空度。本专利技术提供的真空系统的调度系统,包括设定模块、存储模块、第一判断模块和调度模块,其中,设定模块用于设定默认腔室;存储模块用于存储等候队列;调度模块用于读取存储模块中的等候队列,并按等候队列的顺序,将真空系统依次分配给等待腔室进行抽真空;第一判断模块用于判断等候队列中是否还有未抽真空的等候腔室,若是,则调度模块继续按等候队列的顺序,将真空系统依次分配给等待腔室进行抽真空;若否,则向调度模块发送第一指令;调度模块还用于,在接收到第一指令后,根据默认腔室的状态,将真空系统分配给默认腔室抽真空。通过本专利技术提供的真空系统的调度系统,实时监控等候队列的状态,一旦等候队列中不具有未抽真空的等候腔室,则将其分配给默认腔室进行抽真空,提高真空系统的使用率,同时,有利于默认腔室提高真空度。附图说明图1为现有技术中真空泵的调度流程图;图2为本专利技术第一实施例提供的真空系统的调度方法的流程图;图3为本专利技术第二实施例提供的真空系统的调度方法的流程图;图4为本专利技术第二实施例中在接收到任意腔室提交的使用请求时的流程图;图5为本专利技术另一实施例提供的真空系统的调度系统的结构示意图。其中,1-设定模块;2-存储模块;3-第一判断模块;4-调度模块。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面结合附图来对本专利技术提供的真空系统的调度方法及调度系统进行详细描述。本专利技术第一实施例本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种真空系统的调度方法,其特征在于,包括:/n设定默认腔室;/n按等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统;/n判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室,若是,则继续按所述等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统,若否,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。/n
【技术特征摘要】
1.一种真空系统的调度方法,其特征在于,包括:
设定默认腔室;
按等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统;
判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室,若是,则继续按所述等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统,若否,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。
2.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法,其特征在于,所述默认腔室为能够持续抽真空的腔室。
3.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法,其特征在于,所述默认腔室包括传输腔室。
4.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法,其特征在于,在所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤中,若否,则还包括:
判断所述默认腔室是否在进行真空操作,若在进行真空操作,则所述真空系统维持空闲状态,并返回所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤,若不在进行真空操作,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。
5.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法,其特征在于,在所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤中,若否,则还包括:
判断所述默认腔室的压力是否低于预设压力,若是,则所述真空系统维持空闲状态,若否,则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空,直至所述默认腔室的压力低于所述预设压力。
6.根据权利要求4或5所述的真空系统的调度方法,其特征在于,所述真空系统调度方法还包括:
在接收到任意腔室提交的使用请求时,判断所述真空系统是否在对所述默认腔室进行抽真空;
若是,则停止对所述默认腔室进行抽真空,并将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室;
若否,则判断是否具有等候队列,若具有,则将提交所述使用请求的腔室加入所述等候队列的队尾,若不具有,则将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室。
7.一种真空系统的调度系统,其特征在于,包括设定模块、存储模块、第一判断模块和调度模块,其中,<...
【专利技术属性】
技术研发人员:王晶,
申请(专利权)人:北京北方华创微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:北京;11
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