真空系统的调度方法及调度系统技术方案

本发明专利技术提供的真空系统的调度方法及调度系统，包括：设定默认腔室，按等候队列次向各个等候腔室分配真空系统，判断等候队列是否有未抽真空的等候腔室，若是，继续按等候队列依次向各个等候腔室分配真空系统，若否，则根据默认腔室的状态对默认腔室进行抽真空。通过本发明专利技术提供的真空系统的调度方法，实时监控等候队列的状态，一旦等候队列中不具有未抽真空的等候腔室，则将其分配给默认腔室进行抽真空，提高真空系统的使用率，同时，有利于默认腔室提高真空度。

Scheduling method and system of vacuum system

【技术实现步骤摘要】
真空系统的调度方法及调度系统
本专利技术属于半导体制造
，具体涉及一种真空系统的调度方法及调度系统。
技术介绍
在半导体加工领域中，加工系统通常由传输腔室、工艺腔室、多个预真空腔室等组成。晶片从处于大气状态的装载腔室通过机械手传输到处于大气状态的预真空腔室，然后预真空腔室通过抽真空操作，使该腔室变为真空状态，再由传输腔室中的机械手将晶片传入各个工艺腔室执行工艺。其中，工艺腔室进行晶片加工需要真空的环境，因此，工艺腔室需要抽真空操作，同时，传输腔室、预真空腔室需要将晶片传入到真空环境，因此也需要真空环境。为了节省成本，几个腔室共用一个真空泵的现象也非常普遍。图1为现有技术中真空泵的调度流程图。如图1所示，S100，当有腔室需要使用真空泵时，提交真空泵使用申请；S101，判断真空泵是否为空闲状态，若是，则执行步骤S102，若否，则执行步骤S103；S102，将真空泵分配给当前的申请的腔室使用；S103，将新申请的腔室排入等候队列的队尾，进行等待。在上述真空泵的调度流程中，若需要使用真空泵，则必须由腔室先提交真空泵使用申请，而在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空系统的调度方法，其特征在于，包括：/n设定默认腔室；/n按等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统；/n判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室，若是，则继续按所述等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统，若否，则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空系统的调度方法，其特征在于，包括：
设定默认腔室；
按等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统；
判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室，若是，则继续按所述等候队列依次向各个等候腔室分配所述真空系统，若否，则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。


2.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法，其特征在于，所述默认腔室为能够持续抽真空的腔室。


3.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法，其特征在于，所述默认腔室包括传输腔室。


4.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法，其特征在于，在所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤中，若否，则还包括：
判断所述默认腔室是否在进行真空操作，若在进行真空操作，则所述真空系统维持空闲状态，并返回所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤，若不在进行真空操作，则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空。


5.根据权利要求1所述的真空系统的调度方法，其特征在于，在所述判断所述等候队列是否有未抽真空的等候腔室的步骤中，若否，则还包括：
判断所述默认腔室的压力是否低于预设压力，若是，则所述真空系统维持空闲状态，若否，则根据默认腔室的状态对所述默认腔室进行抽真空，直至所述默认腔室的压力低于所述预设压力。


6.根据权利要求4或5所述的真空系统的调度方法，其特征在于，所述真空系统调度方法还包括：
在接收到任意腔室提交的使用请求时，判断所述真空系统是否在对所述默认腔室进行抽真空；
若是，则停止对所述默认腔室进行抽真空，并将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室；
若否，则判断是否具有等候队列，若具有，则将提交所述使用请求的腔室加入所述等候队列的队尾，若不具有，则将所述真空系统分配给提交所述使用请求的腔室。


7.一种真空系统的调度系统，其特征在于，包括设定模块、存储模块、第一判断模块和调度模块，其中，<...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晶，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11