指纹识别结构、指纹识别显示基板及其制作方法技术

本发明专利技术涉及一种指纹识别结构，多个点光源，用于发出信号光；位于所述点光源的背光侧的基板，所述基板上背离所述点光源的一面设置有多个光敏感应单元，所述光敏感应单元用于接收手指指纹反射回的所述信号光以识别指纹。本发明专利技术还涉及一种指纹识别显示基板及其制作方法。将光敏感应单元设置于基板背离点光源的一侧，增加了光敏感应单元与手指触摸界面之间的距离，增大了指纹图像的放大倍率，从而使得点亮一个点光源形成的指纹图像中的无效区域、被点亮和该点光源相邻的点光源时形成的指纹图像中的图像区域覆盖，从而提高指纹识别效果。

Fingerprint identification structure, fingerprint identification display substrate and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
指纹识别结构、指纹识别显示基板及其制作方法
本专利技术涉及触控产品制作
，尤其涉及一种指纹识别结构、指纹识别显示基板及其制作方法。
技术介绍
在指纹识别装置进行指纹采集时，由于感光元件的特性，形成的图像包括图像区域和无效区域，从而导致采集到的指纹不准确，降低指纹识别效果。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种指纹识别结构、指纹识别显示基板及其制作方法，解决采集到的指纹不准确，指纹识别效果较差的问题。为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种指纹识别结构，多个点光源，用于发出信号光；位于所述点光源的背光侧的基板，所述基板上背离所述点光源的第一表面设置有多个光敏感应单元，所述光敏感应单元用于接收手指指纹反射回的所述信号光以识别指纹，所述光敏感应单元包括沿着远离所述点光源的方向依次设置于所述基板的第一表面的感应电极、光敏二极管以及遮光层。可选的，所述光敏感应单元形成的图像相比原指纹图像的放大倍率m满足公式：m＝(t+d)/d，其中，t为手指触摸界面所在平面与光敏感应单本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种指纹识别结构，其特征在于，/n多个点光源，用于发出信号光；/n位于所述点光源的背光侧的基板，所述基板上背离所述点光源的第一表面设置有多个光敏感应单元，所述光敏感应单元用于接收手指指纹反射回的所述信号光以识别指纹，所述光敏感应单元包括沿着远离所述点光源的方向依次设置于所述基板的第一表面的感应电极、光敏二极管以及遮光层。/n

【技术特征摘要】
1.一种指纹识别结构，其特征在于，
多个点光源，用于发出信号光；
位于所述点光源的背光侧的基板，所述基板上背离所述点光源的第一表面设置有多个光敏感应单元，所述光敏感应单元用于接收手指指纹反射回的所述信号光以识别指纹，所述光敏感应单元包括沿着远离所述点光源的方向依次设置于所述基板的第一表面的感应电极、光敏二极管以及遮光层。


2.根据权利要求1所述的指纹识别结构，其特征在于，
所述光敏感应单元形成的图像相比原指纹图像的放大倍率m满足公式：m＝(t+d)/d，其中，t为手指触摸界面所在平面与光敏感应单元所在平面之间的距离，d为手指触摸界面所在平面与发光的多个点光源所在的平面之间的距离。


3.根据权利要求1所述的指纹识别结构，其特征在于，每个所述点光源在手指触摸界面的有效辐射区域为直径为预设值的圆形区域，指纹采集区域为该圆形区域的内接正方形，相邻的点光源位于该内接正方形的一条边的中心点。


4.根据权利要求3所述的指纹识别结构，其特征在于，还包括驱动单元，用于按照预设时序驱动所述多个点光源依次点亮。


5.根据权利要求1所述的指纹识别结构，其特征在于，所述点光源为电致发光二极管，包括沿着所述基板的厚度方向、依次设置于所述基板上的阳极、发光层和阴极。


6.一种指纹识别显示基板，其特征在于，包括衬底基板和设置于衬底基板上的多个子像素，还包括设置于所述衬底基板背离所述子像素的一侧、权利要求1-5任一项所述的具有光敏感应单元的所述基板。


7.根据权利要求6所述的指纹识别显示基板，其特征在于，包括多个子像素，所述点光源复用为至少一个所述子像素的发光单元。


8.根据权利要求6所述的指...

【专利技术属性】
技术研发人员：王海生，董学，丁小梁，刘英明，王雷，李亚鹏，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11