【技术实现步骤摘要】
一种大视场透射式高能激光发射系统
本专利技术涉及高能激光发射系统领域,具体涉及一种大视场透射式高能激光发射系统。
技术介绍
随着半导体激光器输出功率不断提高,带动了高能激光发射装备的研制浪潮,该装备具有工作距离远,输出能量高,跟瞄和发射共光路的特点,可以实现跟瞄位置与激光远场汇聚位置一致,系统通过对目标的稳定跟踪实现激光在目标指定位置的持续聚焦。现有高功率激光发射系统分为反射式和折射式两种,反射式系统由于受到轴外像差的影响,扫描视场无法做大;现有透射式系统由于激光扫描会增加系统的通光口径,而高能激光系统不能像传统光学系统一样对光束进行遮挡,受透射镜片加工口径限制,扫描视场也无法做大,现有系统均为小视场系统,瞬时视场和扫描视场均在10′以内,不利于对目标的探测与搜索,且对系统转台的精度要求过高,增加了系统的整体成本,并且在激光扫描过程中高能激光束在系统发射口运动,增加了系统口径,不利于装备的小型化与轻量化。
技术实现思路
本专利技术的一个目的是解决现有技术的透射式系统视场小,不利于对目标的探测与搜索,增加了
【技术保护点】
1.一种大视场透射式高能激光发射系统,其特征在于,包括:/n共口径望远系统(10)、摆镜(20)、合束镜(30)以及接收镜头(40);激光经过合束镜(30)的透射作用和摆镜(20)的反射作用后,通过共口径望远系统(10)进行发射;可见光经过共口径望远系统(10)后通过摆镜(20)和合束镜(30)的反射作用被接收镜头(40)接收。/n
【技术特征摘要】
1.一种大视场透射式高能激光发射系统,其特征在于,包括:
共口径望远系统(10)、摆镜(20)、合束镜(30)以及接收镜头(40);激光经过合束镜(30)的透射作用和摆镜(20)的反射作用后,通过共口径望远系统(10)进行发射;可见光经过共口径望远系统(10)后通过摆镜(20)和合束镜(30)的反射作用被接收镜头(40)接收。
2.根据权利要求1所述的大视场透射式高能激光发射系统,其特征在于,出瞳位置位于共口径望远系统(10)的第一光学表面位置。
3.根据权利要求1或2所述的大视场透射式高能激光发射系统,其特征在于,入瞳位置位于摆镜(20)处。
4.根据权利要求1所述的大视场透射式高能激光发射系统,其特征在于,所述共口径望远系统(10)为二次成像设计,其实焦点汇聚于石英结构(15)中。
5.根据权利要求1所述的大视场透射式高能激光发射系...
【专利技术属性】
技术研发人员:张健,张全,康为民,
申请(专利权)人:哈尔滨新光光电科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:黑龙;23
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