【技术实现步骤摘要】
一种平面线圈绕制机构
本申请属于平面线圈
，尤其涉及一种平面线圈绕制机构。
技术介绍
在低温物理和超导物理中，利用平面线圈可以获得匀强磁场，用于提供磁场环境或接受信号或发出信号。线圈的平面度、均匀度和温度剧烈变化下的稳定性都对磁场的均匀性造成很大的影响，与理想线圈差别越大，造成磁场和信号的误差越大。绕制平面线圈一般以狭缝为线圈绕制的模具。为了绕制的平面线圈具有较高的平面度，绕制模具的狭缝高度应当与线径匹配，且各处高度具有较高的一致性。线圈的均匀度和温度变化下的稳定性，与绕制的张力有关，张力小，线圈贴合的不够紧密，均匀度不好；而张力过大，狭缝高度有可能被改变而影响平面度，且绕制的线圈具有大的应力，在低温冲击下，会发生变形。鉴于此，本技术提供一种新的平面线圈绕制机构。
技术实现思路
有鉴于此，本申请提供一种平面线圈绕制机构，以确保绕制线圈的平面度、均匀度和温度剧烈变化下的稳定性。本申请提供一种平面线圈绕制机构，其包括线圈固定组件和控高组件，线圈固定组件包括线圈轴、线圈基座和基座定位件，线圈轴...
【技术保护点】
1.一种平面线圈绕制机构，其特征在于，所述平面线圈绕制机构包括线圈固定组件和控高组件，/n所述线圈固定组件包括线圈轴、线圈基座和基座定位件，所述线圈轴位于所述线圈基座的中心，且所述线圈轴的顶面超出所述线圈基座的顶面，超出距离不大于绕制线圈的线径，所述线圈基座固定于基座定位件上，所述线圈基座的顶面上开设至少一条沿所述线圈轴切线方向的线固定槽，线固定槽的深度和宽度大于所述绕制线圈的线径；/n所述控高组件的高度可调，其位于所述线圈固定组件的正上方，绕制线圈时控高组件的底面至线圈基座的顶面的距离等于所述绕制线圈的线径，线圈轴的顶面、线圈基座的顶面和控高组件的底面均为沿水平方向延伸的平面。/n
【技术特征摘要】
1.一种平面线圈绕制机构，其特征在于，所述平面线圈绕制机构包括线圈固定组件和控高组件，
所述线圈固定组件包括线圈轴、线圈基座和基座定位件，所述线圈轴位于所述线圈基座的中心，且所述线圈轴的顶面超出所述线圈基座的顶面，超出距离不大于绕制线圈的线径，所述线圈基座固定于基座定位件上，所述线圈基座的顶面上开设至少一条沿所述线圈轴切线方向的线固定槽，线固定槽的深度和宽度大于所述绕制线圈的线径；
所述控高组件的高度可调，其位于所述线圈固定组件的正上方，绕制线圈时控高组件的底面至线圈基座的顶面的距离等于所述绕制线圈的线径，线圈轴的顶面、线圈基座的顶面和控高组件的底面均为沿水平方向延伸的平面。
2.根据权利要求1所述的平面线圈绕制机构，其特征在于，所述线固定槽的数量为两条以上，各条线固定槽距离线圈基座中心的距离依次增大，且各线槽在线圈基座的顶面上不交叉。
3.根据权利要求1所述的平面线圈绕制机构，其特征在于，所述控高组件包括控高盘、精调盘、多个预压螺栓、多个锥形弹簧和多个球头螺栓，所述控高盘的竖直高度可调，所述预压螺栓与所述锥形弹簧一一对应且沿圆周方向均匀连接所述控高盘和精调盘，所述球头螺栓沿所述控高盘的圆周均匀分布，旋入控高盘的螺纹孔后球头螺栓的球头抵接所述精调盘的顶面。
4.根据权利要求3所述的平面线圈绕制机构，其特征在于，所述平面线圈绕制机构进一步包括底板、立柱和上悬板，所述底板水平设置，所述立柱垂直设置于所述底板上，所述上悬板固定至所述立柱且所述上悬板与所述底板平行设置，所述线圈固定组件设置于所述底板上，所述控高组件进一步包括控高盘丝杠，所述控高盘通过所述控高盘丝杠及其配套螺母固定至所述上悬板。
5.根据权利要求3所述的平面线圈绕制机构，其特征在于，所述精调盘由透明特氟龙材料制成。
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【专利技术属性】
技术研发人员：边星，王金阵，伍继浩，李青，
申请(专利权)人：中国科学院理化技术研究所，
类型：新型
国别省市：北京;11
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