磁带及磁记录回放装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置，所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，磁性层包含氧化物研磨剂，根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的氧化物研磨剂的平均粒径大于0.08μm且为0.14μm以下，且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁带及磁记录回放装置
本专利技术涉及一种磁带及磁记录回放装置。
技术介绍
磁记录介质中有带状和盘状，在数据存储用途中主要使用带状的磁记录介质即磁带。通常，通过使磁带的表面(磁性层表面)与磁头接触并滑动来进行对磁带的信息记录和/或回放。作为磁带，广泛使用在非磁性支撑体上设置有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层的结构的磁带(例如参考专利文献1)。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-243162号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题将记录于磁带的信息回放时，回放信号振幅的部分降低(称为“脉冲遗漏(missingpulse)”。)发生的频度越高，错误率越增加，导致磁带的可靠性降低。因此，为了提供一种能够以高可靠性使用的磁带，期望降低脉冲遗漏的发生频度。然而，近年来，用于数据存储用途的磁带有时在温度及湿度被管理的数据中心等低温低湿环境下(例如温度10～15℃且相对湿度10～20％程度的环境下)使用。因此，期望降低在低温低湿环境下的上述脉冲遗漏的发生频度。r>因此，本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁带，其在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，/n所述磁性层包含氧化物研磨剂，/n根据对所述磁性层的表面照射聚焦离子束而获取的二次离子像求出的所述氧化物研磨剂的平均粒径大于0.08μm且为0.14μm以下，并且/n在所述磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在所述磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 JP 2017-191660;20180828 JP 2018-1595151.一种磁带，其在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层，其中，
所述磁性层包含氧化物研磨剂，
根据对所述磁性层的表面照射聚焦离子束而获取的二次离子像求出的所述氧化物研磨剂的平均粒径大于0.08μm且为0.14μm以下，并且
在所述磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在所述磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。


2.根据权利要求1所述的磁带，其中，
所述氧化物研磨剂为氧化铝粉末。

【专利技术属性】
技术研发人员：细田英正，黑川拓都，笠田成人，岩本崇裕，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP