地漏及浴室地面系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种地漏及浴室地面系统，该地漏包括：本体，其位于地漏孔的下方；盖组件，其包括第一盘体，第一盘体位于地漏孔的上方；其中：第一盘体设置成条形状；第一盘体上形成有与本体的内部相对的第一镂空部。本实用新型专利技术将第一盘体设置成条形，使得第一镂空部可通过设置成非圆形状，并通过与第一盘体一致的尽可能减小宽度方向上的尺寸而增大长度方向上的尺寸的方式而获得能够保障水能够顺利通过的通流截面，如此，在均能保证水顺利通过盘体的条件下，本实用新型专利技术的第一盘体的最远区域与底盘的侧边之间的距离H2可设置的远小于距离H1，因而，相比于现有技术中的底盘的盘体，本实用新型专利技术的地漏的第一盘体被直接或者间接踩踏的概率大大降低。

Floor drain and bathroom floor system

【技术实现步骤摘要】
地漏及浴室地面系统
本技术涉及装饰装修
，尤其涉及一种地漏及具有该地漏的浴室地面系统。
技术介绍
公知地，地漏用于为浴室排水，对于浴室地面上架设底盘的情况，地漏需装设于该底盘上以用于为底盘排水(即，底盘上的水借助地漏排走)。现有技术中的地漏具体而言通常包括筒状的本体以及位于本体的上端的盖组件。该盖组件通常包括盘体，该盘体置于地漏孔(该地漏孔形成于底盘上)的上方，而主体置于地漏孔的下方，该盘体的作用在于：底盘上的水首先经过盘体再流入本体中，即，底盘上的水借助于盘体进入其下方的本体中。现有技术中，盘体被习惯的设置成板状的圆形，且不可避免的将盘体的径向尺寸设置的较大(相对于本体的径向尺寸)，以使得盘体能够更好的起到上述的作用，其原因在于：现有技术中尽量将盘体的径向尺寸设置的较大以用于使底盘上的水能够顺利通过盘体进入本体内以利于底盘上的水实时的通过地漏排走。然而，上述的地漏却存在如下缺陷：即使尽量将地漏装设在靠近底盘的侧边位置(即，尽量将地漏装设在靠近浴室的墙体位置)，居者仍容易踩踏到盖组件的相关部件，例如本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种地漏，其用于装设于底盘的地漏孔处，其特征在于，包括：/n本体，其位于所述地漏孔的下方；/n盖组件，其包括第一盘体，所述第一盘体位于所述地漏孔的上方；其中：/n所述第一盘体设置成条形状；所述第一盘体上形成有与所述本体的内部相对的第一镂空部。/n

【技术特征摘要】
1.一种地漏，其用于装设于底盘的地漏孔处，其特征在于，包括：
本体，其位于所述地漏孔的下方；
盖组件，其包括第一盘体，所述第一盘体位于所述地漏孔的上方；其中：
所述第一盘体设置成条形状；所述第一盘体上形成有与所述本体的内部相对的第一镂空部。


2.根据权利要求1所述的地漏，其特征在于，所述盖组件还包括第二盘体；
所述第二盘体位于所述地漏孔的下方并与所述第一盘体对应，所述本体固定连接于所述第二盘体并位于所述第二盘体的下方；其中：
所述第二盘体上形成有与所述第一镂空部对应的第二镂空部；
所述第一盘体形成有位于所述第一镂空部两侧的两个第一延伸部，所述第二盘体形成有位于所述第二镂空部两侧的两个第二延伸部；两个所述第一延伸部分别与两个所述第二延伸部对应；
相对应的所述第一延伸部与所述第二延伸部借由穿设两者的紧固件连接以使所述第一盘体与所述第二盘体夹持所述地漏孔的外围的所述底盘。


3.根据权利要求2所述的地漏，其特征在于，所述第一延伸部上开设有沉槽，所述沉槽的槽壁上形成有阶梯面；其中：
所述紧固件穿设所述沉槽的槽底；
所述阶梯面上设置有密封垫；
所述沉槽上设置有扣盖，所述扣盖压靠所述密封垫以使得所述紧固件密封于所述沉槽中。


4.根据权利要求3所述的地漏，其特征在于，所述扣盖借由旋转卡合结构而旋合于所述沉槽上；其中：
所述扣盖的上端面形成有条状的施力槽，以能够借由外部工具插入所述施力槽而旋拧所述扣盖。


5.根据权利要求2至4中任意一项所述的地漏，其特征在于，两个所述第二延伸部之间的区域形成有用于封盖所述本体上端的封盖部；其中：
所述第二镂空部形成于所述封盖部。


6.根据权利要求5所述的地漏，其特征在于，所述第一盘体的底部形成有与所述第一镂空部相对的插筒；所述插筒穿设所述第二镂空部；其中：
所述插筒的外周面与所述第二镂空部的侧壁之间设置有第一密封圈。


7.根据权利要求6所述的地漏，其特征在于，所述地漏还包括储水筒；所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹祎杰，宋英庆，郑合阵，
申请(专利权)人：北京维石住工科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11