光学检测系统以及光学检测方法技术方案

本发明专利技术公开了一种光学检测系统以及光学检测方法，光学检测系统包括：入射组件，能够提供入射光线；光线调制装置，设置在入射光线的传输光路上，光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各微反射镜能够反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面。且光线调制装置被配置为根据待测基板的表面形状调制入射光线在待测基板表面的入射角度，入射光线经待测基板反射形成测试光线；以及图像采集装置，设置在测试光线的传输光路上，图像采集装置能够采集测试光线并转化成待测基板的灰度图。本发明专利技术提供的光学检测系统以及光学检测方法，能够提高光学检测系统检测的准确性。

Optical detection system and optical detection method

【技术实现步骤摘要】
光学检测系统以及光学检测方法
本专利技术涉及光学检测
，具体涉及一种光学检测系统以及光学检测方法。
技术介绍
目前，在基板的制作工艺中有时会存在一些短路、断路等不良现象。为了及时发现基板制作存在的各种不良，确保基板的质量，需要实时对基板进行检测，以确定其中是否存在不良现象，以保证基板的正常显示。现有技术中，可以借助光学检测设备对基板进行检测，但是基板上的结构复杂，如果光学检测设备不合理将会导致部分缺陷不能准确的检测出。因此，亟需提供一种光学检测系统以及光学检测方法。
技术实现思路
本专利技术提供一种光学检测系统以及光学检测方法，能够提高光学检测系统检测的准确性。一方面，根据本专利技术实施例提供一种光学检测系统，包括：入射组件，能够提供入射光线；光线调制装置，设置在入射光线的传输光路上，光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各微反射镜能够反射入射光线使得入射光线照射到待测基板的表面，且光线调制装置被配置为根据待测基板的表面形状调制入射光线在待测基板表面的入射角度，入射光线经待测基板反射本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：/n入射组件，能够提供入射光线；/n光线调制装置，设置在所述入射光线的传输光路上，所述光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各所述微反射镜能够反射所述入射光线使得所述入射光线照射到待测基板的表面，且所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的表面形状调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度，所述入射光线经所述待测基板反射形成测试光线；以及/n图像采集装置，设置在所述测试光线的传输光路上，所述图像采集装置能够采集所述测试光线并转化成所述待测基板的灰度图。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学检测系统，其特征在于，包括：
入射组件，能够提供入射光线；
光线调制装置，设置在所述入射光线的传输光路上，所述光线调制装置包括呈阵列分布的多个微反射镜，各所述微反射镜能够反射所述入射光线使得所述入射光线照射到待测基板的表面，且所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的表面形状调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度，所述入射光线经所述待测基板反射形成测试光线；以及
图像采集装置，设置在所述测试光线的传输光路上，所述图像采集装置能够采集所述测试光线并转化成所述待测基板的灰度图。


2.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述光线调制装置被配置为根据所述待测基板的折射率和/或反射率对所述微反射镜的角度进行调整，以调整所述入射光线照射到所述待测基板上的角度和/或数量。


3.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述图像采集装置包括镜头以及光线传感器，所述光线传感器能够采集穿过所述镜头的所述测试光线，所述光线调制装置还能够根据所述镜头的孔径和/或光阑的尺寸对所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度进行调制。


4.根据权利要求1所述的光学检测系统，其特征在于，所述光线调制装置被配置为通过调节各所述微反射镜的偏转角度调制所述入射光线在所述待测基板表面的入射角度。


5.根据权利要求1至4任意一项所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件包括：
聚光组件，设置在所述入射光线的传输光路上的，所述聚光组件能够将所述入射光线进行聚集并照射到所述光线调制装置上。


6.根据权利要求5所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件还包括：
匀光组件，设置在所述入射光线的传输光路上的，所述聚光组件、所述匀光组件以及所述光线调制装置沿所述入射光线的传输方向上依次设置，所述匀光组件能够调整所述入射光线的光强并将所述入射光线均匀地照射到所述光线调制装置上。


7.根据权利要求1至4任意一项所述的光学检测系统，其特征在于，所述入射组件包括沿所述入射光线的传输方向上依次设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：季迪，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34