石英晶体载板清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种石英晶体载板清洗装置，涉及石英晶体谐振器技术领域。石英晶体在加工过程中，需要用到放置石英晶体的载板，需要载板保持洁净，虽然石英晶体的加工在无尘环境进行，但长期使用后的载板难免附着一些杂质，需要对载板清洗。本实用新型专利技术包括用于支撑的基座，基座上设有第一清洗池和支架，支架上设有行走机构，行走机构上设有夹持机构，行走机构可在支架上运动，带动夹持机构运动，夹持机构将载板夹持，并将其放入第一清洗池中，完成对载板的自动清洗。

Quartz crystal carrier plate cleaning device

【技术实现步骤摘要】
石英晶体载板清洗装置
涉及石英晶体谐振器
，具体涉及一种石英晶体载板清洗装置。
技术介绍
石英晶体谐振器，简称石英晶体或晶振，是利用石英晶体(又称水晶)的压电效应，用来产生高精度振荡频率的一种电子元件，属于被动元件，该元件主要由石英晶片、基座、外壳、银胶、银等成分组成。目前，石英晶体在加工过程中，需要用到放置石英晶体的载板，需要载板保持洁净，虽然石英晶体的加工在无尘环境进行，但长期使用后的载板难免附着一些杂质，需要对载板清洗，因此，亟需一种石英晶体载板清洗装置。
技术实现思路
本技术的目的是开发一种对放置石英晶体的载板进行自动清洗，结构简单的石英晶体载板清洗装置。本技术通过如下的技术方案实现：石英晶体载板清洗装置，包括用于支撑的基座，所述基座上设有第一清洗池和支架，所述支架上设有行走机构，所述行走机构上设有夹持机构，所述行走机构可在支架上运动，带动夹持机构运动，夹持机构将载板夹持，并将其放入第一清洗池中清洗。进一步的，所述第一清洗池内转动设有多个转轴，所述转轴上布满刷毛。进一步的，所述转轴设于第一清洗池底部，多个转轴在第一清洗池底部程矩阵布置。进一步的，所述行走机构包括设于支架上的第一滑台，所述第一滑台带动夹持机构沿X向滑动。进一步的，所述第一滑台上设有第二滑台，所述第二滑台带动夹持机构沿Y向滑动。进一步的，所述第二滑台上设有竖向布置的第三滑台，所述第三滑台带动夹持机构沿Z向滑动。进一步的，所述夹持机构设于第三滑台上，所述夹持机构为气动夹爪。进一步的，所述基座上至少设有一个用以放置载板的放置盒。进一步的，所述放置盒内设有若干隔板，载板放置于相邻的两隔板间构成的空间内。进一步的，所述基座上还设有第二清洗池。本技术的有益效果是：本技术通过设置在行走机构上的夹持机构对载板进行自动夹持，并将载板放入清洗池内进行自动清洗，清除载板上的附着物。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术结构图；图2为图1的侧视图；图3为行走机构结构图；图4为放置盒结构图；附图标记：1、基座；2、第一清洗池；3、第二清洗池；4、出水口；5、进水口；6、放置盒；7、隔板；8、门形架；9、第一滑台；10、第二滑台；11、第三滑台；12、气动夹爪；13、转轴；14、刷毛。具体实施方式在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本专利技术创造的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。在本专利技术创造中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。下面结合附图对本技术的实施例进行详细说明。如图1～4所示，本实施例公开了一种石英晶体载板清洗装置，包括作为基础件、用于支撑的基座1，所述基座1上设有第一清洗池2，基座1上还设有支架，支架位于第一清洗池2上部，所述支架上设有行走机构，所述行走机构上设有夹持机构，所述行走机构可在支架上运动，带动夹持机构运动，夹持机构将载板夹持，并将其放入第一清洗池2中清洗。第一清洗池2底部和侧面上部分别设有出水口4和进水口5，所述第一清洗池2底部转动设有四个竖直布置的转轴13，四个所述转轴13程长方形布置，所述转轴13上布满刷毛14，第一清洗池2底部还设有驱动所述转轴13转动的电机。支架包括两个平行的门形架8，两个所述门形架8分别设于基座1相对的两侧，两个所述门形架8上设有第一滑台9，所述第一滑台9垂直于门形架8布置，所述第一滑台9在两门形架8之间沿平行于门形架8的方向滑动，所述第一滑台9上设有第二滑台10，所述第二滑台10沿第一滑台9运动，第二滑台10的运动方向垂直于第一滑台9的运动方向，所述第二滑台10上设有竖向布置的第三滑台11，所述第三滑台11在第二滑台10上竖直滑动，所述第一滑台9、第二滑台10和第三滑台11皆为直线滑台，其中第一滑台9和第二滑台10为卧式，第三滑台11为立式。夹持机构设于第三滑台11的活动部底端，所述夹持机构为气动夹爪12，所述气动夹爪12的活塞上包覆一层橡胶层，设置橡胶层提高对载板的摩擦力，并且橡胶层具有一定的弹性，放置气动夹爪12将载板夹坏。基座1上还设有第二清洗池3，所述第二清洗池3设于第一清洗池2旁，第二清洗池3的底部和侧面上部也分别设有出水口4和进水口5。基座1上还设有两个放置盒6，所述放置盒6用以放置载板，两个所述放置盒6分别设于第一清洗池2和第二清洗池3旁，所述放置盒6顶面和靠近清洗池的侧面皆为开口结构，所述放置盒6内等间距设有若干竖直布置的隔板7，所述隔板7的长度小于载板的长度，载板放置于相邻的两个隔板7之间，载板的顶部由隔板7顶部伸出一部分，便于被夹持机构夹持。第一清洗池2旁的放置盒6内放置待清洗的载板，第二清洗池3旁的放置盒6内放置清洗后的载板，行走机构可带动夹持机构在支架上进行X，Y，Z三向移动，夹持机构将载板夹持放置入第一清洗池2内，使载板处于转轴13之间，第一清洗池2内放满用以对载板清洗的液体，第一清洗池2内的转轴13转动，对载板进行刷洗，清理载板表面的附着物，清洗完后夹持机构将载板放入第二清洗池3内，载板在第二清洗池3内进行第二次清洗，清洗后夹持机构将载板放入第二清洗池3旁的放置盒6内，完成对载板的清洗，可使第一清洗池2和第二清洗池3内的液体循环，使清洗池内的清洗液保持洁净。上述实施例只是本技术的较佳实施例，并不是对本技术技术方案的限制，只要是不经过创造性劳动即可在上述实施例的基础上实现的技术方案，均应视为落入本技术专利的权利保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.石英晶体载板清洗装置，其特征在于，包括：/n基座；/n第一清洗池，其设于基座上；/n支架，其设于基座上；/n行走机构，其设于支架上；/n夹持机构，其设于行走机构上；/n其中，行走机构带动夹持机构移动，夹持机构将载板夹持并放入第一清洗池内清洗。/n

【技术特征摘要】
1.石英晶体载板清洗装置，其特征在于，包括：
基座；
第一清洗池，其设于基座上；
支架，其设于基座上；
行走机构，其设于支架上；
夹持机构，其设于行走机构上；
其中，行走机构带动夹持机构移动，夹持机构将载板夹持并放入第一清洗池内清洗。


2.根据权利要求1所述的石英晶体载板清洗装置，其特征在于，所述第一清洗池内转动设有多个转轴，所述转轴上布满刷毛。


3.根据权利要求2所述的石英晶体载板清洗装置，其特征在于，所述转轴设于第一清洗池底部，多个转轴在第一清洗池底部程矩阵布置。


4.根据权利要求1所述的石英晶体载板清洗装置，其特征在于，所述行走机构包括设于支架上的第一滑台，所述第一滑台带动夹持机构沿X向滑动。


5.根据权利要求4所述的石英晶体...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨清明，刘青彦，黄建友，
申请(专利权)人：成都晶宝时频技术股份有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51