一种明暗渐变的纹理结构及电子产品盖板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种明暗渐变的纹理结构及电子产品盖板，该纹理结构包括承载体和设置在承载体上的纹理结构层；纹理结构层为具备预定纹理的沟槽结构，沟槽结构的沟槽内部设有填充物，预定纹理包括大小和位置按照预定规律排布的单元图形，各单元图形之间是外离关系。结合单元图形的尺寸及距离的渐变设计，实现占空比的变化，结合填充物，解决了直接着色不均匀的问题，应用到电子产品盖板上，可以使电子产品呈现多变和绚丽的视觉感受，增加辨识度。

A texture structure with gradual change of light and shade and the cover plate of electronic products

【技术实现步骤摘要】
一种明暗渐变的纹理结构及电子产品盖板
本技术属于光学领域，涉及一种明暗渐变的纹理结构及电子产品盖板。
技术介绍
随着时代变迁，电子产品在大众消费中占据了重要位置，人们对电子产品的需求大幅度增长，随着科学技术的飞速发展，电子类产品的设计不仅仅局限于功能化，产品外观设计也成为现代主流趋势。以手机为例，后盖的装饰效果设计不仅可以提高产品价值，也满足了大众对于手机美感和艺术感的更高追求。然而，目前对手机盖板的装饰设计通常都是材质或颜色的替换，装饰效果欠佳，辨识度低。
技术实现思路
本技术目的是：提供一种大小和位置按照预定规律排布的单元图形组成的渐变设计，实现占空比的变化，加上沟槽内的填充，使得整体呈现均匀的色彩渐变和过渡，不仅解决了直接着色不均匀的问题，而且应用到电子产品盖板上，可以获得多变和绚丽的视觉感受，增加辨识度。本技术的技术方案是：第一方面，一种明暗渐变的纹理结构，该纹理结构包括：承载体和设置在所述承载体上的纹理结构层；所述纹理结构层为具备预定纹理的沟槽结构，所述沟槽结构的沟槽内部设有填充物，所述预定纹理包括大小和位置按照预定规律排布的单元图形，各单元图形之间是外离关系。其进一步的技术方案是：所述单元图形的大小按排布顺序渐变，相邻两个单元图形上的预定点之间的间距不变。其进一步的技术方案是：所述单元图形的大小不变，相邻两个单元图形上的预定点之间的间距变化。其进一步的技术方案是：所述单元图形的大小和位置按照预定路径变化。其进一步的技术方案是：所述预定路径包括曲线、环形、圆形、正方形路径中的至少一种。其进一步的技术方案是：所述单元图形的形状包括圆形、正多边形、不规则多边形、组合图形中的至少一种。其进一步的技术方案是：所述填充物包括油墨、金属材料中的至少一种。其进一步的技术方案是：所述承载体采用PET、PC防爆膜、PC玻璃中的至少一种。第二方面，一种电子产品盖板，该电子产品盖板包括如第一方面所述的明暗渐变的纹理结构。本技术的优点是：通过大小和位置按照预定规律排布的单元图形组成预定纹理，在承载体上将预定纹理制作成沟槽结构，并在沟槽内部填充上填充物，可以结合单元图形的尺寸及距离的渐变设计，实现占空比的变化，结合填充物，解决了直接着色不均匀的问题，应用到电子产品盖板上，可以使电子产品呈现多变和绚丽的视觉感受，增加辨识度。附图说明下面结合附图及实施例对本技术作进一步描述：图1是本申请一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的剖视图；图2是本申请一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的平面结构图；图3是本申请另一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的平面结构图；图4是本申请再一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的平面结构图；图5是本申请一个实施例提供的曲线路径变化的纹理结构的平面结构图；图6是本申请一个实施例提供的圆形路径变化的纹理结构的平面结构图；图7是本申请一个实施例提供的正方形路径变化的纹理结构的平面结构图；图8是本申请另一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的剖视图；图9是本申请再一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的剖视图；图10是本申请再一个实施例提供的明暗渐变的纹理结构的剖视图。其中：1、承载体；2、纹理结构层；3、填充物；4、单元图形；5、平台。具体实施方式实施例：结合参考图1至图10，本申请实施例提供了一种明暗渐变的纹理结构，如图1所示，该纹理结构包括承载体1和设置在承载体1上的纹理结构层2。纹理结构层2为具备预定纹理的沟槽结构，沟槽结构的沟槽内部设有填充物3，结合参考图2，预定纹理包括大小和位置按照预定规律排布的单元图形4，各单元图形4之间是外离关系。可选的，填充物包括油墨、金属材料中的至少一种。通过油墨或金属材料对沟槽内部进行填充，可以呈现色彩渐变的效果。在第一种可能的实现中，单元图形4的大小按排布顺序渐变，相邻两个单元图形4上的预定点之间的间距不变。示例性的，以单元图形4为圆形举例，单元图形4上的预定点之间的距离不变，可以是圆心之间的距离不变，也可以是圆与圆之间的距离（即圆心距离减去两个圆的半径）不变。结合参考图2和图3，图2中单元图形4的尺寸从上往下逐渐增大，比如半径可以呈等差数列递增，相邻两个圆的圆心之间的距离相等，即图2中的距离A不变，相邻两个圆之间的距离（上一个圆的最低点和下一个圆的最高点之间的距离）变化，即图2中的距离B为变化值，实现纹理结构占空比的变化；图3中单元图形4从上往下逐渐增大，半径可以呈等差数列递增，保持相邻两个圆形之间的距离不变，即图3中的距离B不变，而相邻两个圆的圆心之间的距离发生变化，即图3中的距离A为变化值，实现纹理结构占空比的变化。在第二种可能的实现中，单元图形4的大小不变，相邻两个单元图形4上的预定点之间的间距变化。示例性的，若单元图形4为圆形，圆形的尺寸不变，圆心距离可以呈等差数列递增或递减，实现纹理结构占空比的变化。结合参考图4，单元图形4的尺寸不变，相邻两个圆的圆心距离逐渐变化，图4中圆心距离由上往下逐渐减小。在实际应用中，圆心距离可以呈等差数列变化，比如A=B+i，B=C+i，i可以为正数，也可以为负数。结合前面两种可能的实现，单元图形4和预定点之间的间距可以同时变化。在第三种可能的实现中，单元图形4的大小和位置按照预定路径变化。可选的，预定路径包括曲线、环形、圆形、正方形路径中的至少一种。按照预定路径变化，可以是沿直线或曲线的单方向变化，也可以是沿闭合路线，实现由内向外或由外向内的多方向渐变。结合参考图5至7，图5示出了单元图形4沿S形路径变化的示意图，示例性的，由上向下圆形尺寸逐渐变大，沿S路径的相邻两个圆的圆心距离不变，相邻两个S路径之间的距离相等，相同尺寸的圆形排列呈曲线一致的S形；图6示出了单元图形4沿圆形路径变化，由内向外圆形的尺寸逐渐变大，相同尺寸的圆形排列呈圆形，相邻两个圆形路径之间的间距相等（即图6中的距离A均相等），同一圆形路径中相邻两个圆的圆心距离不变（即图6中的距离B均相等）；图7示出了单元图形4沿正方形路径变化，由内向外圆形的尺寸逐渐变大，相同尺寸的圆形排列呈正方形，相邻两个正方形路径之间的间距相等（即图7中的距离C均相等），同一正方形路径中相邻两个圆的圆心距离不变（即图7中的距离D均相等）。圆心间距和路径间距可以相等也可以不相等，即A和B可以相等也可以不相等，C和D可以相等也可以不相等。在实际应用中，单元图形4的形状包括圆形、正多边形、不规则多边形、组合图形中的至少一种。其中组合图形是多种形状组合或叠加得到的图形。可选的，承载体1采用PET、PC防爆膜、PC玻璃中的至少一种。可选的，结合参考图1、图8、图9和图10，在图2至图7中单元图形4对应的区域制作成沟槽，沟槽内有填充物3，沟槽之间的区域为平台5。在单元图形4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种明暗渐变的纹理结构，其特征在于，所述纹理结构包括承载体和设置在所述承载体上的纹理结构层；/n所述纹理结构层为具备预定纹理的沟槽结构，所述沟槽结构的沟槽内部设有填充物，所述预定纹理包括大小和位置按照预定规律排布的单元图形，各单元图形之间是外离关系。/n

【技术特征摘要】
1.一种明暗渐变的纹理结构，其特征在于，所述纹理结构包括承载体和设置在所述承载体上的纹理结构层；
所述纹理结构层为具备预定纹理的沟槽结构，所述沟槽结构的沟槽内部设有填充物，所述预定纹理包括大小和位置按照预定规律排布的单元图形，各单元图形之间是外离关系。


2.根据权利要求1所述的明暗渐变的纹理结构，其特征在于，所述单元图形的大小按排布顺序渐变，相邻两个单元图形上的预定点之间的间距不变。


3.根据权利要求1所述的明暗渐变的纹理结构，其特征在于，所述单元图形的大小不变，相邻两个单元图形上的预定点之间的间距变化。


4.根据权利要求1所述的明暗渐变的纹理结构，其特征在于，所述单元图形的大小和位置按照预定路径变...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹淼倩，李廷刚，
申请(专利权)人：苏州胜利精密制造科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32