具有补偿透镜的光学系统技术方案

一种在带电粒子束检查系统中使用的光学系统。光学系统包括一个或多个光学透镜和补偿透镜，补偿透镜被配置为对一个或多个光学透镜的组合的焦距从第一介质到第二介质的漂移进行补偿。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有补偿透镜的光学系统相关申请的交叉引用本申请要求于2017年9月28日提交的美国申请62/564,966的优先权，并且其全部内容通过引用并入本文。
本公开一般地涉及带电粒子束检查系统中的光学系统，并且更具体地涉及带电粒子束检查系统中具有补偿透镜的光学系统。
技术介绍
能够提供低至小于纳米的图像分辨率的基于带电粒子束的显微镜(诸如扫描电子显微镜(SEM)或透射电子显微镜(TEM))用作用于检查具有亚100纳米的特征尺寸的样本的实用工具。在基于带电粒子束的显微镜操作期间，显微镜的一部分位于真空室中。光学系统通常被包括在基于带电粒子束的显微镜中，以允许对样本进行目视检查、检测样本高度或对样本进行照射。在基于带电粒子束的显微镜的操作期间，光学系统的一个或多个透镜连同基于带电粒子束的显微镜的一部分位于真空室中。随着光学系统介质的变化，一个或多个透镜的焦距可能变化，从而影响光学系统的精度。
技术实现思路
根据本公开的一些实施例，提供了一种在带电粒子束检查系统中使用的光学系统。光学系统包括一个或多个光学透镜和补偿本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种在带电粒子束检查系统中使用的光学系统，包括：/n一个或多个光学透镜；以及/n补偿透镜，被配置为对所述一个或多个光学透镜的组合的焦距从第一介质到第二介质的漂移进行补偿。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170928 US 62/564,9661.一种在带电粒子束检查系统中使用的光学系统，包括：
一个或多个光学透镜；以及
补偿透镜，被配置为对所述一个或多个光学透镜的组合的焦距从第一介质到第二介质的漂移进行补偿。


2.根据权利要求1所述的光学系统，其中所述光学系统是位置检测系统，包括：
投影模块，包括投影透镜并且被配置为将第一光束投射到样本；
接收模块，包括接收透镜并且被配置为接收从所述样本反射的第二光束；以及
检测模块，被配置为基于所述第二光束来检测所述样本的位置。


3.根据权利要求2所述的光学系统，其中所述一个或多个光学透镜包括所述投影模块中包括的所述投影透镜和所述接收模块中包括的所述接收透镜。


4.根据权利要求2所述的光学系统，其中所述检测模块被设置在所述第一介质中，并且所述投影模块和所述接收模块被设置在所述第二介质中。


5.根据权利要求1所述的光学系统，其中所述光学系统是成像系统，包括：
照射模块，被配置为将第一光束投射到样本；
物镜，被配置为使从所述样本反射的第二光束共轭；以及
检测模块，被配置为基于所述第二光束来检测所述样本的图像。


6.根据权利要求5所述的光学系统，其中所述一个或多个光学透镜包括所述物镜。


7.根据权利要求5所述的光学系统，其中所述检测模块被设置在所述第一介质中，并且所述物镜被设置在所述第二介质中。


8.根据权利要求1所述的光学系统，其中所述光学系统是照射系统，包括：
照射模块，被配置为将第一光束投射到在...

【专利技术属性】
技术研发人员：张剑，康志文，王義向，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL