光学膜和图像显示装置制造方法及图纸

技术编号:24133529 阅读:52 留言:0更新日期:2020-05-13 07:14
根据本发明专利技术的一个方式,提供光学膜(10),其是依次具备透光性基材(11)、硬涂层(12)和无机层(13)的光学膜(10),其中,硬涂层(12)与无机层(13)接触,硬涂层(12)包含粘结剂树脂(12A)和无机颗粒(12B),硬涂层(12)的膜厚为1μm以上,硬涂层(12)的压痕硬度为200MPa以上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学膜和图像显示装置相关申请的参考本申请享受作为在先日本申请的日本特愿2017-191319(申请日:2017年9月29日)的优先权的利益,其全部公开内容通过引用而作为本说明书的一部分。
本专利技术涉及光学膜和图像显示装置。
技术介绍
以往以来,智能手机、平板终端等图像显示装置中使用了光学膜。作为光学膜,有时使用依次具备透光性基材、硬涂层和无机层的光学膜(例如参见专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2016-128927号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是,对于这样的具有无机层的光学膜而言,对无机层的表面进行一边用#0000号钢丝绒施加1kg/cm2的负荷一边往复摩擦10次的钢丝绒试验时,有时在无机层产生伤痕,或者有时在无机层产生伤痕的同时硬涂层被磨削。本专利技术是为了解决上述问题而完成的。即,本专利技术的目的在于提供具有优异的耐擦伤性的光学膜和具备该光学膜的图像显示装置。用于解决问题的手段本专利技术包括以下专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学膜,其为依次具备透光性基材、硬涂层和无机层的光学膜,其中,/n所述硬涂层与所述无机层接触,/n所述硬涂层包含粘结剂树脂和无机颗粒,/n所述硬涂层的膜厚为1μm以上,/n所述硬涂层的压痕硬度为200MPa以上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 JP 2017-1913191.一种光学膜,其为依次具备透光性基材、硬涂层和无机层的光学膜,其中,
所述硬涂层与所述无机层接触,
所述硬涂层包含粘结剂树脂和无机颗粒,
所述硬涂层的膜厚为1μm以上,
所述硬涂层的压痕硬度为200MPa以上。


2.如权利要求1所述的光学膜,其中,在所述硬涂层的膜厚方向的截面,从所述硬涂层与所述无机层的界面到所述硬涂层的500nm深度的区域中的所述无机颗粒的面积比率为5%以上75%以下。


3.如权利要求1所述的光学膜,其中,所述无机颗粒为二氧化硅颗粒。


4.一种光学膜,其为依次具备透光性基材、硬涂层和无机层的光学膜,其中,
所述硬涂层与所述无机层接触,
所述硬涂层包含金属元素和半金属元素中的至少任一种,
所述硬涂层的膜厚为1μm以上,
所述硬涂层的压痕硬度为200MPa以上。


5.如权利要求1或4所述的光学膜,其中,所述无机层为无机氧化物层。


6.如权利要求1或4所述的光学膜,其中,所述无机层包含硅。


7.如权利要求1或4所述的光学膜,其中,所述无机层的厚度为10nm以上300nm以下。


8.如权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:松下广树小川善正高坂洋介佐藤纯戎圭祐
申请(专利权)人:大日本印刷株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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