空气流控制装置以及采用该装置的洁净室制造方法及图纸

提供一种空气流控制装置及一种洁净室。气流控制装置具有一个高效颗粒过滤器、一个具有底面中心孔的外盖，以及一个流向控制器，该控制器具有一根穿透所述孔的轴，并位于颗粒过滤器和外盖之间。洁净室具有安装在一个进口内的上述气流控制装置。因此，由于被引入一个需要预定净度水平的场所（例如一个洁净室）的气流广阔地被分散，洁净室内部的温差减小，并且相对湿度成为最佳。从而也能降低洁净室的静电水平。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种空气流控制装置以及一种采用该装置的洁净室，尤其是涉及一种用来在一个洁净室中以大角度分散布引入的空气流的装置，以及采用该装置的洁净室。洁净室用来通过复杂的加工步骤，制造高集成度半导体装置，该装置的元件小到只有几个微米，所述加工步骤易被灰尘甚至更小的颗粒污染。因此，保持这种加工工作环境绝对洁净以便减少加工复杂性是十分重要的。半导体工业应该将其迅猛发展归功于洁净室的进步。二十世纪中叶，由于集成电路的产生，伴随着晶体管的出现，从那时以来，用于医药和遗传工程工业的无菌室以及用于精密工业、机器人和电子工业的工业洁净室(ICR)领域中已发生了一场革命。洁净室大致分为层流型和对流型。层流型洁净室在天花板上提供比对流型更多的过滤器，从而获得较高的净度。这一优点使层流型适用于需要高净度的半导体装置制造过程。此外，层流洁净室被用来处理由设备产生和人体发散的热。与此相反，对流洁净室更适用于只需要低净度水平的加工过程，例如组装和试验之类。对流洁净室的特殊问题为这种洁净室系统的结构问题有害地影响着在该洁净室中制造的产品。而且这种结构问题降低了该洁净室中操作者的工作效率。附图说明图1示出一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种空气流控制装置，它具有一个高效颗粒过滤器以及一个用于所述高效过滤器的外盖，并包括：用来控制气流方向的装置，它具有一根位于所述颗粒过滤器和所述外盖之间的轴，其特征为，被所述轴穿过的一个孔位于所述外盖底面的中心。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李中善，柳在俊，李建衡，文常英，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[]