一种春石斛花期调控方法技术

本发明专利技术涉及一种春石斛花期调控方法。它包括营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施，其具体处理方法包括在营养生长阶段、促花芽分化及花期调控阶段、开花阶段的营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施。本发明专利技术解决了同一株春石斛的假鳞茎不同节位间开花不一致，在冬春季节零星开花；及不同的株间开花有先后，无法同时开花，不能规模化上市的问题。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种春石斛花期调控方法。
技术介绍
春石斛作为盆栽花卉，是洋兰中继蝴蝶兰和大花蕙兰后出现的又一洋兰新品。具有较高观赏价值，观赏期较长。因此，春节前的鲜花市场上，春石斛成了洋兰中的佼佼者。春石斛兰在开花期，抗低温能力特别强，喜欢光照、干燥。由于它花色艳丽，适合盆栽，被很多企业看好。认为它是继蝴蝶兰、大花蕙兰之后，最有希望的洋兰商业品种。 春石斛为兰科石斛属植物，多年生常绿或落叶附生草本，茎称为假鳞茎，肉质呈竹节状。茎长度依品种不同在25～90cm左右，茎节间长2～5cm，茎节中部粗壮，主要贮存水分和养分。叶互生，总状花序2～5朵，由每节的腋芽形成。花大而艳丽，花朵直径6～10cm，花期长达1～2个月。自冬春萌发的新芽生长至秋末冬初逐渐停止，出现终止叶。在茎基部可萌发1～4个新芽成为下一代新茎。而老茎(不论高度)在感受低温之后，除基部2～4个芽外，上部膨大的节间腋芽，均可能发育成花芽或成为高位芽。 春石斛花芽分化要求低温在13℃以下，比蝴蝶兰低，在我国夏、秋季高温地区难以达到。自然条件下必须利用海拔800m以上的高山才能做到。其次，春石斛花芽分化后，遇25℃以上高温极易发生“花芽逆转”现象，而变成叶芽，在生产栽培中较难掌握。 春石斛产业在日本发展较为成熟，我国在最近的5～6年间，品种引进和发展的力度逐年增加。虽然有大的市场和利润空间，但也存在较大的难点，主要是控花技术较难。目前许多公司都在投产石斛兰，但是石斛的生产技术很低，同时存在栽培和催花的技术门槛，导致形成的石斛成品质量差，根本无法上市。技术则一直未得到提高，而国外对我们进行技术封锁。由于种种原因，我国各大兰花生产企业至今一直没有拿出批量的高质量春石斛产品，更多的企业则处于观望状态。目前，我国已经有花卉公司大量投产，但是由于催花技术不过关，开花提前、滞后的现象多有发生。同时技术不过关，催花后花朵质量下降，导致花期缩短。所以如何来解决催花问题，提高石斛的品质，是当前花卉产业和石斛批量盆花生产中，急需注意和解决的问题。 一般在春石斛的预计花期前2个月，停止使用肥水，使用低温进行处理春石斛的假鳞茎。不使用生长调节剂或者单使用GA3进行处理，在前期栽培技术好时，催花效果相对较好。但是始终存在花期不集中，次品比例较高，导致卖花不获利。GA3只可以提前花期几天，对于增加花芽数量的贡献并不大。 同时，现有的技术，是通过栽培技术和环境条件的调节，进行花期控制。在夜间，春石斛处于低温环境中，白天升高温度，连续进行1～2个月的温差处理，同时辅助肥水，停止使用肥料，减少浇水，增加光照，提高光照到4万～8万lux，增加石斛假鳞茎的粗度。促进花芽的分化。 目前现有的技术，是单纯利用环境条件进行花期调控。还有许多栽培技术不过关，出现相当低矮和细弱的茎，同样不利于花芽的形成。也有采用了赤霉素进行了处理，但是结果不理想。获得的植株落叶提前、徒长，或者形成的花芽质量不高。催花的温度控制在13℃左右，但是催花的时间和低温处理时间控制不到位。水、肥、基质的配合也不好。导致营养生长不良，影响了后期的生殖生长，出现花期调控失当。在这种技术下，花期不整齐，同一株上下节位开花时间不一致，开花零零散散，观赏效果差。形成了低矮、细弱的茎，同样不利于花芽的形成。也有采用了赤霉素进行了处理，但是结果不理想，获得的植株提前落叶、徒长，形成的花芽质量不高。 总而言之，现有技术具有以下缺点 同一株春石斛的假鳞茎不同节位间开花不一致，在冬春季节零星开花； 不同的株间开花有先后，无法同时开花，不能规模化上市。 在元旦和春节期间，不能准确的进行定时供应春节花卉市场。常常滞后，无法销售。
技术实现思路
本专利技术的目的就是提供一种能够解决春石斛花期不一致的核心问题，使同一株的不同的节位花芽同时萌发，同时开放；不同株的假鳞茎同时开花，实现规模化上市的春石斛花期调控方法。 本专利技术是这样实现的 一种春石斛花期调控方法，它包括营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施，其具体处理方法为 (1)、在营养生长阶段自3月初至8月底每月施2～3次平均肥，每次施肥浓度为1000倍(EC值为2～2.3，PH5.5～6.5)，单盆的施肥量为0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，水分调控措施为每5天施用一次水，温度与光照控制措施为温度最佳保持在18～28℃，光照的强度保持在5万到8万lux； (2)、促花芽分化及花期调控阶段在春石斛出现终止叶后，保持8-13℃夜温25～60天；当春石斛花芽从植株的每个叶腋开始膨大，7～10天浇一次水，浇水次数为每月3～4次，每次浇水量为150～200ml；肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，浓度为1000倍，含0.1g高磷肥； (3)开花阶段当花芽伸长到1cm时，进行加温催花，温度为18～25℃，此时减弱光照强度，光照强度为3～5万lux，保持该温度及光照的时间长短为4～6周；同时7～10天浇一次水，浇水次数为每月3～4次，每次浇水量为150～200ml，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，浓度为1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20； 在春石斛的预计花期前2个月，采用生长调节剂进行灌根处理；从春石斛的花芽萌发时起10～15天，采用生长调节剂进行灌根处理。 在春石斛的预计花期前2个月，采用一种生长调节剂6-BA进行灌根处理；从春石斛的花芽萌发时起的10～15天，采用另一种生长调节剂进行灌根处理。 所述的春石斛花期调控技术，在春石斛的预计花期前2个月，进行灌根处理，采用的生长调节剂可以为6-苄氨基嘌呤(6-BA)。 所述的春石斛花期调控技术，进行灌根处理所采用的6-苄氨基嘌呤(6-BA)，使用浓度可以为6-BA 100～200ppm，每株可以采用100～150ml的剂量。 所述的春石斛花期调控技术，进行灌根处理采用的生长调节剂6-苄氨基嘌呤(6-BA)，茎花芽分化好时，茎粗度较粗，色泽发黄，这时使用浓度可以为100ppm。茎细、色泽淡绿时，成熟度差，花芽分化差，使用浓度可以为200ppm。 所述的春石斛花期调控技术，从春石斛的花芽萌发时起的10～15天，进行灌根处理所采用的生长调节剂可以为赤霉素(GA3)。 所述的春石斛花期调控技术，进行灌根处理所采用的赤霉素(GA3)，浓度可以为5～10ppm，每株使用量可以为100～150ml。 也就是说，在春石斛的预计花期前2个月，首先采用6-BA进行处理，最适宜的使用浓度为6-BA 100～200ppm，可以按照成熟度的不同，成熟度好的则使用100ppm，成熟度差的则使用200ppm。在基质干燥时，每株采用100ml左右的剂量进行灌根。从春石斛的花芽萌发时起的10～15天，采用适宜浓度的GA3进行处理，处理浓度为5～10ppm，每株也是采用适宜的浓度进行灌根处理。生长调节剂的使用必须配合栽培和环境调控措施。相关的配套栽培技术主要为 1、完成营养生长8月以前肥料选用选用平均肥(N∶P∶K＝20∶20∶20)，每次施肥浓度为1000倍(EC值为2～2.3，PH5.5～6.5)，单盆的施肥量为0.1g/次，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种春石斛花期调控方法，它包括营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施，其特征在于：（１）、在营养生长阶段：自３月初至８月底每月施２～３次平均肥，每次施肥浓度为１０００倍（ＥＣ值为２～２．３，Ｐ Ｈ５．５～６．５），单盆的施肥量为０．１ｇ／次，肥料的Ｎ∶Ｐ∶Ｋ＝２０∶２０∶２０，水分调控措施为每５天施用一次水，温度与光照控制措施为温度保持在１８～２８℃，光照的强度保持在５万到８万ｌｕｘ；（２）、促花芽分化及花期调控阶段：在春 石斛出现终止叶后，保持８－１３℃夜温２５～６０天；当春石斛花芽从植株的每个叶腋开始膨大，７～１０天浇一次水，浇水次数为每月３～４次，每次浇水量为１５０～２００ｍｌ；肥料的Ｎ∶Ｐ∶Ｋ＝１０∶３０∶２０，施肥１０天一次，每株施肥１５０～２００ｍｌ，浓度为１０００倍，含０．１ｇ高磷肥；（３）开花阶段：当花芽伸长到１ｃｍ时，进行加温催花，温度为１８～２５℃，此时减弱光照强度，光照强度为３～５万ｌｕｘ，保持该温度及光照的时间长短为４～６周；同时７～１０天浇一次水，浇水次数为每月 ３～４次，每次浇水量为１５０～２００ｍｌ，施肥１０天一次，每株施肥１５０～２００ｍｌ，浓度为１０００倍，施用平均肥的Ｎ∶Ｐ∶Ｋ＝２０∶２０∶２０；在春石斛预计花期前２个月，采用生长调节剂进行灌根处理；从春石斛花芽萌发时起１０～１５天 ，采用生长调节剂进行灌根处理。...

【技术特征摘要】
1、一种春石斛花期调控方法，它包括营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施，其特征在于(1)、在营养生长阶段自3月初至8月底每月施2～3次平均肥，每次施肥浓度为1000倍(EC值为2～2.3，PH5.5～6.5)，单盆的施肥量为0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，水分调控措施为每5天施用一次水，温度与光照控制措施为温度保持在18～28℃，光照的强度保持在5万到8万lux；(2)、促花芽分化及花期调控阶段在春石斛出现终止叶后，保持8-13℃夜温25～60天；当春石斛花芽从植株的每个叶腋开始膨大，7～10天浇一次水，浇水次数为每月3～4次，每次浇水量为150～200ml；肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，浓度为1000倍，含0.1g高磷肥；(3)开花阶段当花芽伸长到1cm时，进行加温催花，温度为18～25℃，此时减弱光照强度，光照强度为3～5万lux，保持该温度及光照的时间长短为4～6周；同时7～10天浇一次水，浇水次数为每月3～4次，每次浇水量为150～200ml，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，浓度为1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20...

【专利技术属性】
技术研发人员：王雁，
申请(专利权)人：中国林业科学研究院林业研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]