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一种含卟啉二维共轭聚合物及其制备方法和应用技术

技术编号:24110874 阅读:39 留言:0更新日期:2020-05-13 00:23
本发明专利技术公开了一种含卟啉二维共轭聚合物及其制备方法和应用,所述的含卟啉二维共轭聚合物的结构单元的通式为:

A two-dimensional conjugated polymer containing porphyrin and its preparation and Application

【技术实现步骤摘要】
一种含卟啉二维共轭聚合物及其制备方法和应用
本专利技术涉及功能材料
,具体涉及一种含卟啉二维共轭聚合物及其制备方法和应用。
技术介绍
二维共轭聚合物材料是一类可以独立稳定存在的、内部结构有序的平面状大共轭高分子薄膜材料。自2004年发现石墨烯以来,该类材料已获得了科学界和产业界的广泛兴趣。该类材料具有三个重要特征:大共轭性、多孔性和巨大的比表面积。大共轭性使得该类材料具有特殊的光、电学性质,可以应用在晶体管、光电管及各类与电化学相关的器件上面;多孔性和巨大的比表面积使得该类材料可以用于构筑重要的界面,用于与分子/离子负载与释放、运输相关的能源存储、催化和选择性分子过滤分离等方面。卟啉是一种重要的共轭大环分子,其在光电子器件、能源存储及转化、光/电催化等诸多方面具有重要的应用。将卟啉基团引入到二维共轭聚合物的骨架结构内,结合二维共轭材料的多孔性及大共轭性,将赋予二维共轭聚合物更加优异的电学、光学、催化性能等性能。目前,人们已经成功合成出来一系列含卟啉二维共轭聚合物材料,这类聚合物大多采用亚胺化反应聚合得到,并发现该类材料在场效应晶体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种含卟啉二维共轭聚合物,其结构单元的通式为:/n

【技术特征摘要】
1.一种含卟啉二维共轭聚合物,其结构单元的通式为:



其中,n为偶数,且1≤n≤10,虚线为结构单元之间的连接键;



其中,n为奇数,且1≤n≤10,虚线为结构单元之间的连接键。


2.根据权利要求1所述的含卟啉二维共轭聚合物,其特征在于:所述的含卟啉二维共轭聚合物为单层结构,或者由单层结构周期性紧密堆积而成的多层结构。


3.一种权利要求1所述的含卟啉二维共轭聚合物的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
在惰性气体保护下,将式(1)化合物、式(2)化合物和催化剂溶解在与水互不相溶的有机溶剂中,得到有机相,将碱溶解在水中得到水相,将有机相和水相置于同一容器中,水相在有机相的上面或水相在有机相的下面,水相和有机相之间形成界面,在0-100℃的条件下静置1-90天,在界面处得到所述的含卟啉二维共轭聚合物;
所述的式(1)化合物的结构通式为:



所述的式(2)化合物的结构通式为:



其中,n为整数,且1≤n≤10。


4.根据权利3所述的含卟啉二维共轭聚合物的制备方法,其特征在于:式(1)化合物中的Y为溴、碘、对甲苯磺酸酯基、三氟甲磺酸酯基。


5.根据权利3所述的含卟啉二维共轭聚合物的制备方法,其特征在于:式(2)化合物中的X为虚线表示与苯环连接的键。


6.根据权利要求3所述的含卟啉二维共轭聚合物的制备方法,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:黎明谭显洋
申请(专利权)人:湖北大学
类型:发明
国别省市:湖北;42

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