本发明专利技术提供：能形成在维持高透明性和高耐热性的同时具有低线热膨胀系数的薄膜的聚酰亚胺、以及包含该聚酰亚胺的聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜，所述聚酰亚胺具有结构单元A和结构单元B，所述结构单元A包含源自式(a‑1)所示的化合物的结构单元(A‑1)、和源自式(a‑2)所示的化合物的结构单元(A‑2)，所述结构单元B包含源自式(b‑1)所示的化合物的结构单元(B‑1)、和源自式(b‑2)所示的化合物的结构单元(B‑2)。(式(b‑1)中，R各自独立地表示氢原子、氟原子或甲基。)
Polyimide, polyimide varnish and polyimide film
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺、聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜
本专利技术涉及聚酰亚胺、以及包含该聚酰亚胺的聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜。
技术介绍
聚酰亚胺在其优异的耐热性的基础上在机械特性、耐化学药品性、电气特性等方面也具有优异的特性，因此，以聚酰亚胺为材料的薄膜在成型材料、复合材料、电气/电子部件和显示装置等领域中被广泛使用。显示装置领域中，通过应用塑料基板代替玻璃基板，从而想要实现显示装置的轻量化、薄型化和柔性化的研究正在活跃进行。然而，例如在薄膜上形成包含无机材料的电子元件的情况下，无机材料与薄膜的线热膨胀系数大幅不同，因此，形成有包含无机材料的电子元件的薄膜有时弯曲、或者进而包含无机材料的电子元件有时从薄膜被剥离。因此，对于聚酰亚胺薄膜，不仅要求透明性和耐热性，还要求线热膨胀系数低。通常，已知：聚酰亚胺其高分子链较刚直且直线性越高，线热膨胀系数越低。因此，为了降低聚酰亚胺的线热膨胀系数、改善尺寸稳定性，已经提出了作为聚酰亚胺的原料的酸二酐、二胺这两者中的各种结构。例如，专利文献1中公开了一种聚酰亚胺，其以4,4’-(六氟异丙叉基)二邻苯二甲酸为酸成分、且以4,4’-二氨基-2,2’-双(三氟甲基)联苯为二胺成分。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2012-503701号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，专利文献1中公开的聚酰亚胺虽然透明性和耐热性优异，但是未达到能满足线热膨胀系数的水平，有进一步改良的必要性。即，本专利技术要解决的课题在于，提供：能形成在维持高透明性和高耐热性的同时具有低线热膨胀系数的薄膜的聚酰亚胺、以及包含该聚酰亚胺的聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜。用于解决问题的方案专利技术人等进行了深入研究，结果发现：具有特定结构单元的聚酰亚胺能形成在维持高透明性和高耐热性的同时具有低线热膨胀系数的薄膜。基于这些见解，完成了本专利技术。即，本专利技术涉及下述[1]～[3]。[1]一种聚酰亚胺，其具有：源自四羧酸或其衍生物的结构单元A、和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)、和源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)，结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)、和源自下述式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2)。(式(b-1)中，R各自独立地表示氢原子、氟原子或甲基。)[2]一种聚酰亚胺清漆，其是将前述[1]所述的聚酰亚胺溶解于有机溶剂而成的。[3]一种聚酰亚胺薄膜，其包含前述[1]所述的聚酰亚胺。专利技术的效果根据本专利技术，可以提供：能形成在维持高透明性和高耐热性的同时具有低线热膨胀系数的薄膜的聚酰亚胺、以及包含该聚酰亚胺的聚酰亚胺清漆和聚酰亚胺薄膜。具体实施方式[聚酰亚胺]本专利技术的聚酰亚胺具有：源自四羧酸或其衍生物的结构单元A、和源自二胺的结构单元B，结构单元A包含源自上述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)、和源自上述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)，结构单元B包含源自上述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)、和源自上述式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2)。本专利技术的聚酰亚胺通过具有特定的结构单元(A-1)、结构单元(A-2)、结构单元(B-1)、和结构单元(B-2)，从而可以形成具有低线热膨胀系数的薄膜。〔结构单元A〕本专利技术的聚酰亚胺中所含的结构单元A为源自四羧酸或其衍生物的结构单元。四羧酸或其衍生物可以单独使用或组合2种以上而使用。作为四羧酸的衍生物，可以举出四羧酸的酸酐或烷基酯。作为四羧酸的烷基酯，优选烷基的碳数为1～3，例如可以举出四羧酸的二甲酯、二乙酯、和二丙酯。作为四羧酸或其衍生物，优选四羧酸二酐。本专利技术中的结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)。式(a-1)所示的化合物为联苯四羧酸二酐。结构单元A包含结构单元(A-1)，从而聚酰亚胺的耐热性、机械物性(弹性模量)、耐有机溶剂性改善。作为式(a-1)所示的化合物，可以举出下述式(a-1-1)所示的3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐(s-BPDA)、下述式(a-1-2)所示的2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐(a-BPDA)、和下述式(a-1-3)所示的2,2’,3,3’-联苯四羧酸二酐(i-BPDA)，其中，优选下述式(a-1-1)所示的3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐。式(a-1)所示的化合物可以单独使用或组合2种以上而使用。在耐有机溶剂性的方面，优选s-BPDA，在耐热性、溶液加工性的方面，优选a-BPDA和i-BPDA。对于结构单元(A-1)相对于结构单元A的比率，从耐热性、机械物性(弹性模量)、耐有机溶剂性的观点出发，优选50摩尔％以上、更优选55摩尔％以上、进一步优选60摩尔％以上、更进一步优选65摩尔％以上、更进一步优选70摩尔％以上，优选99摩尔％以下、更优选95摩尔％以下、进一步优选90摩尔％以下、更进一步优选85摩尔％以下、更进一步优选80摩尔％以下。结构单元A包含源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)。式(a-2)所示的化合物为4,4’-(六氟异丙叉基)二邻苯二甲酸酐。结构单元A包含结构单元(A-2)，从而薄膜的透明性改善，聚酰亚胺对有机溶剂的溶解性改善。对于结构单元(A-2)相对于结构单元A的比率，从溶解性、高透明性的观点出发，优选1摩尔％以上、更优选5摩尔％以上、进一步优选10摩尔％以上、更进一步优选15摩尔％以上、更进一步优选20摩尔％以上，而且从高耐热性的观点出发，优选50摩尔％以下、更优选45摩尔％以下、进一步优选40摩尔％以下、更进一步优选35摩尔％以下、更进一步优选30摩尔％以下。对于结构单元(A-1)相对于结构单元A的比率和结构单元(A-2)相对于结构单元A的比率，优选结构单元(A-1)为50～99摩尔％、结构单元(A-2)为1～50摩尔％，更优选结构单元(A-1)为55～95摩尔％、结构单元(A-2)为5～45摩尔％，进一步优选结构单元(A-1)为60～90摩尔％、结构单元(A-2)为10～40摩尔％，更进一步优选结构单元(A-1)为65～85摩尔％、结构单元(A-2)为15～35摩尔％，更进一步优选结构单元(A-1)为70～80摩尔％、结构单元(A-2)为20～30摩尔％。对于结构单元(A-1)与结构单元(A-2)的摩尔比〔(A-1)/(A-2)〕，从低线热膨胀系数、高透明性的观点出发，优选50/50～99/1、更优选55/45～95/5、进一步优选60/40～90/10、更进一步优选65/35～85/15、更进一步优选70/30～80/20。对于本专利技术的聚酰亚胺，在不有损本专利技术效果的范围内，在结构单元A中，作为除前述结构单元(A-1)和结构单元(A-2)以外的结本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种聚酰亚胺，其具有：源自四羧酸或其衍生物的结构单元A、和源自二胺的结构单元B，/n结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)、和源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)，/n结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)、和源自下述式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2)，/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 JP 2017-1919121.一种聚酰亚胺，其具有：源自四羧酸或其衍生物的结构单元A、和源自二胺的结构单元B，
结构单元A包含源自下述式(a-1)所示的化合物的结构单元(A-1)、和源自下述式(a-2)所示的化合物的结构单元(A-2)，
结构单元B包含源自下述式(b-1)所示的化合物的结构单元(B-1)、和源自下述式(b-2)所示的化合物的结构单元(B-2)，
式(b-1)中，R各自独立地表示氢原子、氟原子或甲基。
2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺，其中，结构单元(A-1)相对于结构单元A的比率为50摩尔％以上，结构单元(A-2)相对于结构单元A的比率为50摩尔％以下。
3.根据权利要求1或2所述的聚酰亚胺，其中，结构单元(B-1)相对于结构单元B的比率为50摩尔％以下，结构单元(B-2)相对于结构单元B的比率为50摩尔％以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的聚酰亚胺，其中，结构单...
【专利技术属性】
技术研发人员：安孙子洋平，关口慎司，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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